【真空鍍膜機電控柜的操作】1、玻璃真空鍍膜機開水泵、氣源2、開總電源3、開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。4、開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。5、觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達250以后，關(guān)予抽，開前機和高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子qiang電源。真空鍍膜機的主要應(yīng)用。湖南空心陰極霍爾離子源多少錢

【真空鍍膜機鍍塑料件時抽真空時間過長是什么原因？】(1)真空室有漏氣現(xiàn)象：da家都知道，真空蒸發(fā)鍍膜機是的基本條件是工件在真空狀態(tài)下才能進行鍍膜加工的，若真空室有漏氣現(xiàn)象而沒有經(jīng)過檢漏找出漏氣位置，則真空鍍很長時間都不能抽得上來的；(2)即使真空室沒有漏氣，因為塑料產(chǎn)品的放氣量da，所以抽真空，特別是高真空很難達到。真空室內(nèi)太臟放氣，而且由于塑料產(chǎn)品的放氣，造成真空室內(nèi)鍍膜氣體的不純，有雜氣的存在，造成鍍膜產(chǎn)品的顏色發(fā)暗，發(fā)黃，發(fā)黑等。（3）也許是真空機組的抽氣能力不夠了，油被污染或氧化了。湖南空心陰極霍爾離子源多少錢真空鍍膜機技術(shù)教程。

【真空鍍膜機真空檢漏方法普及之熒光檢漏法】熒光檢漏法首先需要將熒光材料溶于如丙tong等一些浸潤性能好、易于揮發(fā)的有機溶劑中，使之成為飽和溶液；然后將被檢的真空部件外表面浸泡到溶液中或涂抹到部件表面，這一過程中，為了提升效果、縮短浸泡時間，可以在抽真空或者加壓條件下對其進行浸泡。如果存在漏孔，熒光劑溶液會因毛細作用滲入到其中；qing除表面多余的溶液，待有機溶劑揮發(fā)后，熒光材料便會在漏孔中殘留下來；此時再用紫外線燈光照射，漏孔位置就會觀察到明顯的熒光點。在進行紫外光源照射時，對于一些存在盲孔、表面不平的器件，可能也會存在殘留熒光材料，因此玻璃真空器件好在背面進行照射觀察；為了提高對比度也可以采用濾光放da鏡，過濾掉紫外線以外的其他光線，來獲得更佳的觀察效果；而在熒光材料的選擇時要注意其發(fā)光顏色和被檢真空部件的顏色要有明顯的反差。熒光檢漏法不僅用于真空系統(tǒng)檢漏中，而且也被用于鑄件、模壓金屬件以及焊接件的裂紋檢查等。

【真空鍍膜機之真空泵的安裝和指導(dǎo)】真空泵安裝指導(dǎo)1、泵應(yīng)安裝在地面結(jié)實堅固的場所，周圍應(yīng)留有充分的余地，便于檢查、維護、保養(yǎng)。2、泵底座下應(yīng)保持地基水平，底座四角處建議墊減震橡皮或用螺栓澆制安裝，確保泵運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，振動小。3、泵與系統(tǒng)的連接管道應(yīng)密封可靠，對小泵可采用金屬管路連接密封墊采用耐油橡膠，對小泵可采用真空膠管連接，管道管徑不得小于泵吸氣口徑，且要求管路短而少彎頭。（焊接管路時應(yīng)qing除管道中焊渣，嚴禁焊渣進入泵腔。）4、在連接管路中，用戶可在泵進氣口上方安裝閥門及真空計，隨時可檢查泵的極限壓力。5、按電動機標牌規(guī)定連接電源，并接地線和安裝合適規(guī)格的熔斷器及熱繼電器。6、泵通電試運轉(zhuǎn)時，須取下電機皮帶，確認泵轉(zhuǎn)向符合規(guī)定方向方可投入使用，以防泵反轉(zhuǎn)噴油。（轉(zhuǎn)向按防護罩指示方向）7、對于有冷卻水的泵，按規(guī)定接通冷卻水。8、如泵口安裝電磁閥時，閥與泵應(yīng)同時動作。9、當泵排出氣體影響工作環(huán)境時，可在排氣口裝接管道引離或裝接油霧過濾器。真空鍍膜機的生產(chǎn)廠家。

【真空鍍膜機清洗工藝之氮氣沖洗】氮氣在材料表面吸附時，由于吸附能小，因而吸留表面時間極短.即便吸附在器壁上，也很容易被抽走。利用氮氣的這種性質(zhì)沖洗真空系統(tǒng)，可以dada縮短系統(tǒng)的抽氣時間。如真空鍍膜機在放入da氣之前，先用干燥氮氣充入真空室沖刷一下再充入da氣，則下一抽氣循環(huán)的抽氣時間可縮短近一半，其原因為氮分予的吸附能遠比水氣分子小，在真空下充入氮氣后，氮分子先被真空室壁吸附了。由于吸附位是一定的，先被氮分子占滿了，其吸附的水分子就很少了，因而使抽氣時間縮短了。如果系統(tǒng)被擴散泵油噴濺污染了，還可以利用氮氣沖洗法來清洗被污染的系統(tǒng).一般是一邊對系統(tǒng)進行烘烤加熱，一邊用氮氣沖洗系統(tǒng)，可將油污染消除。真空鍍膜機使用時，需要注意哪些問題?重慶紅外鍍膜空心陰極霍爾離子源

真空鍍膜機的培訓(xùn)資料。湖南空心陰極霍爾離子源多少錢

【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子轟擊材料表面，使其濺射出進入氣相，可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數(shù)稱為濺射產(chǎn)額(Yield)產(chǎn)額越高濺射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/離子。離子可以直流輝光放電(glowdischarge)產(chǎn)生，在10-1—10Pa真空度，在兩極間加高壓產(chǎn)生放電，正離子會轟擊負電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。正常輝光放電(glowdischarge)的電流密度與陰極物質(zhì)與形狀、氣體種類壓力等有關(guān)。濺鍍時應(yīng)盡可能維持其穩(wěn)定。任何材料皆可濺射鍍膜，即使高熔點材料也容易濺鍍，但對非導(dǎo)體靶材須以射頻（RF）或脈沖（pulse）濺射；且因?qū)щ娦暂^差，濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達10W/cm2,非金屬＜5W/cm2。湖南空心陰極霍爾離子源多少錢

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