【真空鍍膜真空的基本概念】：真空的劃分：粗真空760Torr~10E&3Torr高真空10E&4Torr~10E&8Torr超高真空10E&9~10E&12Torr極高真空<10E&12Torr流導(dǎo)（導(dǎo)通量）：表示真空管道通過(guò)氣體的能力，單位為升/秒（L/S）。一般情況下，管道越短，直徑越da，表面越光滑，越直的管道流導(dǎo)也越da。流量：?jiǎn)挝粫r(shí)間內(nèi)流過(guò)任意截面的氣體量，單位為T(mén)orr·L/s或Pa·L/s。抽氣速率：在一定的壓強(qiáng)和溫度下，單位時(shí)間內(nèi)由泵進(jìn)氣口處抽走的氣體稱(chēng)為抽氣速率，簡(jiǎn)稱(chēng)抽速。單位一般為L(zhǎng)/S或m3/hr或CFM。極限真空：真空容器經(jīng)充分抽氣后，穩(wěn)定在某一真空度，此真空度稱(chēng)為極限真空。真空鍍膜機(jī)技術(shù)教程。北京光學(xué)薄膜空心陰極霍爾離子源廠家

【真空鍍膜之材料表面處理】表面處理：是在基體材料表面上人工形成一層與基體的機(jī)械、物理和化學(xué)性能不同的表層的工藝方法。表面處理的目的是滿足產(chǎn)品的耐蝕性、耐磨性、裝飾或其他特種功能要求。我們比較常用的表面處理方法是，機(jī)械打磨，化學(xué)處理，表面熱處理，噴涂表面，表面處理就是對(duì)工件表面進(jìn)行清潔、清掃、去毛刺、去油污、去氧化皮等。常用表面處理的工藝有：真空電鍍、電鍍工藝、陽(yáng)極氧化、電解拋光、移印工藝、鍍鋅工藝、粉末噴涂、水轉(zhuǎn)印、絲網(wǎng)印刷、電泳等。湖南塑膠鍍膜空心陰極霍爾離子源真空鍍膜機(jī)類(lèi)型推薦。

【真空鍍膜設(shè)備設(shè)計(jì)原則及常用技術(shù)指標(biāo)】真空設(shè)備設(shè)計(jì)原則：(1)先功能，后結(jié)構(gòu)。先給出指標(biāo)參數(shù)、生產(chǎn)要求、功能；(2)先核xin后輔助。由內(nèi)向外。先決定靶尺寸、靶基距；(3)先局部，后整體。再由整體，定局部。(4)先設(shè)計(jì)，后校核。由粗到細(xì)。鍍膜機(jī)常用技術(shù)指標(biāo)：鍍膜方法：CVD，PVD（蒸發(fā)、濺射、離子鍍、復(fù)合鍍）；被鍍工件的形狀、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸;生產(chǎn)方式:連續(xù)、半連續(xù)、周期式。生產(chǎn)周期。生產(chǎn)量。生產(chǎn)速率。技術(shù)參數(shù);設(shè)備極限真空度、工作本底真空度工作真空度、工作氣氛;漏率、抽空時(shí)間、恢復(fù)真空時(shí)間。工作(烘烤)溫度;(熱處理爐、凍干機(jī))膜厚不均勻程度;功率;高電壓。

【真空鍍膜機(jī)常見(jiàn)故障】:一、當(dāng)正在鍍膜室真空突然下降1.蒸發(fā)源水路膠圈損壞（更換膠圈）2.坩堝被打穿（更換坩堝）3.高壓電極密封處被擊穿（更換膠圈）4.工轉(zhuǎn)動(dòng)密封處膠圈損壞（更換膠圈）5.預(yù)閥突然關(guān)閉可能是二位五通閥損壞（更換二位五通閥）6.高閥突然關(guān)閉可能是二位五通閥損壞（更換二位五通閥）7.機(jī)械泵停機(jī)可能是繼電器斷開(kāi)（檢查繼電器是否工作正常）8.烘烤引入線電極密封處被擊穿（更換膠圈）9.擋板動(dòng)密封處膠圈損壞（更換膠圈）10.玻璃觀察視鏡出現(xiàn)裂紋、炸裂（更換玻璃）二、長(zhǎng)期工作的鍍膜機(jī)抽真空的時(shí)間很長(zhǎng)且達(dá)不到工作真空、恢復(fù)真空、極限真空、保真空：1.蒸發(fā)室有很多粉塵（應(yīng)清洗）2.擴(kuò)散泵很久未換油（應(yīng)清洗換油）3.前級(jí)泵反壓強(qiáng)da太機(jī)械泵真空度太低（應(yīng)清洗換油）4.各動(dòng)密封膠圈損壞（更換膠圈）5.由于蒸發(fā)室長(zhǎng)期溫度過(guò)高使其各密封膠圈老化（更換膠圈）6.蒸發(fā)室各引入水路密封處是否有膠圈損壞（更換膠圈）7.各引入座螺釘、螺母有無(wú)松動(dòng)現(xiàn)象（重新壓緊）8.高低預(yù)閥是否密封可靠（注油）真空鍍膜機(jī)的操作視頻。

【真空鍍膜機(jī)操作工藝流程】首先開(kāi)水、電、氣→總電源→開(kāi)維持泵→開(kāi)擴(kuò)散泵加熱→開(kāi)粗抽泵→開(kāi)預(yù)抽閥→關(guān)預(yù)抽閥→開(kāi)粗抽閥→開(kāi)羅茨泵→如有離子轟擊，開(kāi)轟擊30秒，關(guān)轟擊→開(kāi)真空計(jì)→當(dāng)真空到，關(guān)粗抽閥→開(kāi)前置閥→開(kāi)精抽閥，當(dāng)真空達(dá)到7x10-3pa，開(kāi)轉(zhuǎn)架→開(kāi)始鍍膜操作→鍍膜完畢后，關(guān)閉真空計(jì)、離子源→關(guān)精抽閥，前置閥→關(guān)羅茨泵→開(kāi)抽氣閥，取件→上料，反復(fù)開(kāi)始操作。特別注意：1.設(shè)備停用時(shí)，鍍膜室要保持真空狀態(tài)，減少內(nèi)表面氣體的吸附，防止氧化。2.冷卻水通道場(chǎng)下才能對(duì)擴(kuò)散泵進(jìn)行加熱，未經(jīng)充分冷卻的泵不得與da氣接觸，防止氧化。3.要保證機(jī)器內(nèi)擴(kuò)散泵和機(jī)械泵的油定期檢查和更換。4.設(shè)備運(yùn)行中遇有停電或其它事故發(fā)生，須先停擴(kuò)散泵，關(guān)精抽閥，前置閥和真空計(jì)。5.產(chǎn)品做完下班后，關(guān)了擴(kuò)散泵后須待溫度降低至60℃后才能關(guān)維持泵。電子束蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)是什么？寧夏真空鍍膜空心陰極霍爾離子源自主研發(fā)設(shè)計(jì)生產(chǎn)

真空鍍膜機(jī)哪個(gè)牌子的好？北京光學(xué)薄膜空心陰極霍爾離子源廠家

【真空鍍膜機(jī)真空檢漏方法之靜態(tài)升壓法】靜態(tài)升壓法屬于真空檢漏法中的一種，也是簡(jiǎn)單易行的真空系統(tǒng)檢漏方法，因?yàn)樗恍枰妙~外特殊的儀器或者特殊物質(zhì)，通過(guò)測(cè)量規(guī)管就可以檢測(cè)真空系統(tǒng)的總漏率，從而確定真空系統(tǒng)或部件是否滿足工作要求。雖然勝在簡(jiǎn)單，但也存在局限。如果真空系統(tǒng)或容器存在漏孔的話，靜態(tài)升壓法是無(wú)法確定漏孔所在的。因此在確定系統(tǒng)是否有漏孔的同時(shí)還需要確定其位置的話，就需要配合其他方法來(lái)進(jìn)行了。靜態(tài)升壓法的操作只要將被檢容器抽空至相應(yīng)的壓力范圍，再關(guān)閉閥門(mén)，隔離真空泵與真空容器，然后用真空計(jì)測(cè)量記錄真空容器中壓力隨時(shí)間的變化過(guò)程，即可得出泄漏數(shù)據(jù)?！墩婵障到y(tǒng)抽氣達(dá)不到工作壓力有哪些原因》中，螺桿真空泵廠家介紹的判斷方法即是通過(guò)靜態(tài)升壓法實(shí)現(xiàn)的，比較方便。當(dāng)然在應(yīng)用過(guò)程中，要提高準(zhǔn)確性就要減少其他因素干擾，需要在檢測(cè)之前對(duì)容器進(jìn)行凈化清洗并烘干，或者用氮?dú)膺M(jìn)行沖洗。更嚴(yán)格一點(diǎn)可以在測(cè)量規(guī)管與容器之間設(shè)置冷阱，處理釋放的可凝氣體，而對(duì)可能存在的漏孔所漏進(jìn)的空氣不會(huì)造成影響。北京光學(xué)薄膜空心陰極霍爾離子源廠家

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