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來源: 發(fā)布時間:2023-03-17

【真空鍍膜對環(huán)境的基本要求】加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要?;M(jìn)入鍍膜室前均應(yīng)進(jìn)行認(rèn)真的鍍前清潔處理,達(dá)到工件去油、去污和脫水的目的?;砻嫖廴緛碜粤慵诩庸ぁ鬏?、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。真空鍍膜廠家這些污物基本上均可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。對經(jīng)過清洗處理的清潔表面,不能在da氣環(huán)境中存放,要用封閉容器或保潔柜貯存,以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底,可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至小。因為這些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔铩τ诟叨炔环€(wěn)定的、對水蒸氣敏感的表面,一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。qing除鍍膜室內(nèi)的灰塵,設(shè)置清潔度高的工作間,保持室內(nèi)高度清潔是鍍膜工藝對環(huán)境的基本要求??諝鉂穸萪a的地區(qū),除鍍前要對基片、真空室內(nèi)各部件認(rèn)真清洗外,還要進(jìn)行烘烤除氣。要防止油帶入真空室內(nèi),注意油擴(kuò)散泵返油,對加熱功率高的擴(kuò)散泵必須采取擋油措施。真空鍍膜機(jī)是什么樣的?廣西射頻離子源源頭實力廠家

【真空鍍膜之磁控濺射鍍膜】磁控濺射對陰極濺射中電子使基片溫度上升過快的缺點加以改良,形成了電場和磁場方向相互垂直的特點。在正交的電磁場的作用下,電子以擺線的方式沿著靶表面前進(jìn),從而xianzhu地延長了電子的運動路程,增加了同工作氣體分子的碰撞幾率,提高了電子的電離效率。由于電子每經(jīng)過一次碰撞損失一部分動能,經(jīng)過多次碰撞后,喪失了能量成為“終電子”進(jìn)入離陰極靶面較遠(yuǎn)的弱電場區(qū),后到達(dá)陽極時已經(jīng)是能量消耗殆盡的低能電子,也就不再會使基片過熱。同時高密度等離子體被束縛在靶面附近,又不與基片接觸,這樣電離產(chǎn)生的正離子能十分有效地轟擊靶面,而基片又可免受等離子體的轟擊,因而基片溫度又可降低。在濺射儀起輝以后,并不把樣品轉(zhuǎn)入陽極的生長位置,也不通循環(huán)水,使樣品隨放電的熱能而逐漸升高至一定溫度后,才開始生長,以減小應(yīng)力,獲得牢固度較高的薄膜。另外在樣品盤中還安裝了溫控儀(精度小于1℃)以監(jiān)控薄膜生長過程中的樣品溫度。湖南光學(xué)鍍膜射頻離子源廠家真空鍍膜機(jī)故障解決方法?

【真空鍍膜機(jī)之輔助抽氣系統(tǒng)】真空腔各部分有連接閥,用來連接各抽氣泵浦。輔助抽氣系統(tǒng):排氣系統(tǒng)為鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)的重要部分,主要有由機(jī)械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴(kuò)散泵三da部分組成。此排氣系統(tǒng)采用“擴(kuò)散泵+機(jī)械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。排氣流程為:機(jī)械泵先將真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空狀態(tài),為擴(kuò)散泵后繼抽真空提供前提,之后當(dāng)擴(kuò)散泵抽真空腔的時候,機(jī)械泵又配合油擴(kuò)散泵組成串聯(lián),以這樣的方式完成抽氣動作。

【真空鍍膜設(shè)備的維修及保養(yǎng)方法】1.真空鍍膜設(shè)備每完成200個鍍膜程序以上,應(yīng)清潔工作室一次。方法:用燒堿(NaOH)飽和溶液反復(fù)擦洗真空室內(nèi)壁,(注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液,以免灼傷)目的是使鍍上去的膜料鋁(AL)與NaOH發(fā)生反應(yīng),反應(yīng)后膜層脫落,并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽閥內(nèi)的污垢。2.當(dāng)粗抽泵(滑閥泵,旋片泵)連續(xù)工作一個月(雨季減半),需更換新油。方法:擰開放油螺栓,放掉舊油,再將泵啟動數(shù)秒,使泵內(nèi)的舊油完全排放出來。擰回放油螺栓,加入新油至額定量(油視鏡觀察)。連續(xù)使用半年以上,換油時應(yīng)將油蓋打開,用布擦干凈箱內(nèi)污垢。3.在重新開機(jī)前,要注意檢漏。方法:啟動維持泵,關(guān)好da門,數(shù)分鐘后,觀察擴(kuò)散泵部分真空度是否達(dá)到6X10帕,否則要進(jìn)行檢漏。檢查聯(lián)接處是否裝密封膠圈,或壓壞密封圈。排除漏氣隱患后方可加熱,否則擴(kuò)散泵油會燒環(huán),真空鍍膜設(shè)備無法進(jìn)入工作狀態(tài)。真空鍍膜機(jī)參數(shù)怎么調(diào)?

【真空鍍膜機(jī)鍍塑料件時抽真空時間過長是什么原因?】(1)真空室有漏氣現(xiàn)象:da家都知道,真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)是的基本條件是工件在真空狀態(tài)下才能進(jìn)行鍍膜加工的,若真空室有漏氣現(xiàn)象而沒有經(jīng)過檢漏找出漏氣位置,則真空鍍很長時間都不能抽得上來的;(2)即使真空室沒有漏氣,因為塑料產(chǎn)品的放氣量da,所以抽真空,特別是高真空很難達(dá)到。真空室內(nèi)太臟放氣,而且由于塑料產(chǎn)品的放氣,造成真空室內(nèi)鍍膜氣體的不純,有雜氣的存在,造成鍍膜產(chǎn)品的顏色發(fā)暗,發(fā)黃,發(fā)黑等。(3)也許是真空機(jī)組的抽氣能力不夠了,油被污染或氧化了。(4)真空室有漏水。(5)抽空管道有漏氣。磁控濺射真空鍍膜機(jī)是什么?甘肅真空鍍膜射頻離子源價格

真空鍍膜機(jī)怎么保養(yǎng)?廣西射頻離子源源頭實力廠家

【真空鍍膜設(shè)備撿漏需注意】真空鍍膜設(shè)備檢漏是保證真空鍍膜設(shè)備真空度的一項檢查措施,簡稱檢漏,真空度的高低是直接影響到鍍膜效果的,所以檢漏是必不可少的。一、要確認(rèn)漏氣到底的虛漏還是實漏。因為工件材料加熱后都會在不同程度上產(chǎn)生氣體,有可能誤以為是從外部流進(jìn)的氣體,這就是虛漏,要排除這種情況。二、測試好真空室的氣體密封性能。確保氣密性能符合要求。三、檢查漏孔的da小,形狀、位置,漏氣的速度,制備出可解決方案并實施。四、確定檢測儀器的小可檢漏率和檢漏靈敏性,以da范圍的檢測出漏氣情況,避免一些漏孔被忽略,提高檢漏的準(zhǔn)確性。五、把握檢漏儀器的反應(yīng)時間和消除時間。把時間掌握好,保證檢漏儀器工作到位,時間少了,檢漏效果肯定差,時間長了,浪費檢漏氣體和人工電費。六、還要避免漏孔堵塞。有時由于操作失誤,檢漏過程中,一些灰塵或液體等把漏孔堵塞了,以為在該位置沒有漏孔,但當(dāng)這些堵塞物由于內(nèi)外壓強(qiáng)差異提高或其他原因使漏孔不堵了,那漏氣還是存在的。為真空鍍膜設(shè)備做好檢漏工作是很重要的,造成真空度下降的原因多種多樣,我們要一一的解決這些原因,穩(wěn)定鍍膜的效果。廣西射頻離子源源頭實力廠家

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