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寧夏光學(xué)薄膜射頻離子源制造生產(chǎn)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-03-20

【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源,在其相對(duì)于待清洗的表面加負(fù)偏壓可以實(shí)現(xiàn)離子轟擊的氣體解吸及某些碳?xì)浠衔锏娜コ?。清洗效果取決于電極材料、幾何形狀及其與表面的關(guān)系。即取決于單位表面積上的離子數(shù)和離子能量,從而取決于有效電功率。在真空室中充入適當(dāng)分壓力的惰性氣體(典型的如Ar氣),可以利用兩個(gè)適當(dāng)?shù)碾姌O間的低壓下的輝光放電產(chǎn)生的離子轟擊來(lái)達(dá)到清洗的目的。該方法中,惰性氣體被離化并轟擊真空室內(nèi)壁、真空室內(nèi)的其它結(jié)構(gòu)件及被鍍基片,它可以使某些真空系統(tǒng)免除被高溫烘烤。如果在充入的氣體中加入氧氣,對(duì)某些碳?xì)浠衔锟梢垣@得更好的清洗效果。因?yàn)檠鯕饪梢允鼓承┨細(xì)浠衔镅趸梢讚]發(fā)性氣體而容易被真空系統(tǒng)排除。不銹鋼高真空和超高真空容器表面上雜質(zhì)的主要成分是碳和碳?xì)浠衔铩R话闱闆r下,其中的碳不能單獨(dú)揮發(fā).經(jīng)化學(xué)清洗后,需要引入Ar或Ar+O2混合氣體進(jìn)行輝光放電清洗,使表面上的雜質(zhì)和由于化學(xué)作用被束縛在表面上的氣體得到qing除。真空鍍膜機(jī)常見故障及解決方法。寧夏光學(xué)薄膜射頻離子源制造生產(chǎn)

【真空鍍膜的膜層結(jié)構(gòu)分布】基材:ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等樹脂類均可成型真空電鍍,要求底材為純?cè)?電鍍級(jí)別更佳,不可加再生材;底漆:UV底漆,對(duì)基材表面做預(yù)處理,為膜層的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情況可酌情加厚;膜層:靶材蒸發(fā)的結(jié)果,VM膜層可導(dǎo)電,NCVM鍍層不導(dǎo)電,且抗干擾性效果很好,膜層厚度0.3um以下。面漆:面漆利用三基色原理可與色漿搭配出各類顏色,同時(shí)對(duì)真空膜層起保護(hù)作用,再加上UV、PU的表面裝飾,效果更漂亮,厚度一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚。廣東真空鍍膜射頻離子源批發(fā)價(jià)格真空鍍膜機(jī)故障維修技巧有哪些?

【真空鍍膜對(duì)環(huán)境的基本要求】加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要?;M(jìn)入鍍膜室前均應(yīng)進(jìn)行認(rèn)真的鍍前清潔處理,達(dá)到工件去油、去污和脫水的目的?;砻嫖廴緛?lái)自零件在加工、傳輸、包裝過(guò)程所粘附的各種粉塵、潤(rùn)滑油、機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。真空鍍膜廠家這些污物基本上均可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。對(duì)經(jīng)過(guò)清洗處理的清潔表面,不能在da氣環(huán)境中存放,要用封閉容器或保潔柜貯存,以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底,可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至小。因?yàn)檫@些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔?。?duì)于高度不穩(wěn)定的、對(duì)水蒸氣敏感的表面,一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。qing除鍍膜室內(nèi)的灰塵,設(shè)置清潔度高的工作間,保持室內(nèi)高度清潔是鍍膜工藝對(duì)環(huán)境的基本要求。空氣濕度da的地區(qū),除鍍前要對(duì)基片、真空室內(nèi)各部件認(rèn)真清洗外,還要進(jìn)行烘烤除氣。要防止油帶入真空室內(nèi),注意油擴(kuò)散泵返油,對(duì)加熱功率高的擴(kuò)散泵必須采取擋油措施。

【射頻離子源工作原理】:氣體通過(guò)一個(gè)專門設(shè)計(jì)的氣體絕緣器進(jìn)入石英放電室,13.56mhz的射頻功率通過(guò)電感耦合進(jìn)入放電室離化氣體。在產(chǎn)生plasma后、用柵網(wǎng)構(gòu)成的加速系統(tǒng)將離子引出。初,離子被帶正電的Screen Grid集中、接下來(lái)加負(fù)電壓的加速柵網(wǎng)將離子束引出。被引出的離子形成離子束,向靶標(biāo)輻射。離子所帶有的能量是由Screen grid的正電壓和Accelerator grid所加的負(fù)電壓大小所決定。離子源設(shè)備能促進(jìn)光電產(chǎn)業(yè)升級(jí),在國(guó)內(nèi)也是一項(xiàng)“卡脖子”技術(shù)。具有能量高、熱輻射低、工作時(shí)間長(zhǎng)、對(duì)膜層污染小、能量分布均勻性好、適應(yīng)多種工作氣體的特點(diǎn)。真空鍍膜機(jī)是什么樣的?

【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源,在其相對(duì)于待清洗的表面加負(fù)偏壓可以實(shí)現(xiàn)離子轟擊的氣體解吸及某些碳?xì)浠衔锏娜コG逑葱ЧQ于電極材料、幾何形狀及其與表面的關(guān)系。即取決于單位表面積上的離子數(shù)和離子能量,從而取決于有效電功率。在真空室中充入適當(dāng)分壓力的惰性氣體(典型的如Ar氣),可以利用兩個(gè)適當(dāng)?shù)碾姌O間的低壓下的輝光放電產(chǎn)生的離子轟擊來(lái)達(dá)到清洗的目的。該方法中,惰性氣體被離化并轟擊真空室內(nèi)壁、真空室內(nèi)的其它結(jié)構(gòu)件及被鍍基片,它可以使某些真空系統(tǒng)免除被高溫烘烤。如果在充入的氣體中加入氧氣,對(duì)某些碳?xì)浠衔锟梢垣@得更好的清洗效果。因?yàn)檠鯕饪梢允鼓承┨細(xì)浠衔镅趸梢讚]發(fā)性氣體而容易被真空系統(tǒng)排除。不銹鋼高真空和超高真空容器表面上雜質(zhì)的主要成分是碳和碳?xì)浠衔?。?guó)產(chǎn)真空鍍膜機(jī)哪家好?甘肅射頻離子源多少錢

真空鍍膜機(jī)真空度多少?寧夏光學(xué)薄膜射頻離子源制造生產(chǎn)

【真空鍍膜機(jī)之真空電鍍】真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣,氬氣撞擊靶材,靶材分離成分子被導(dǎo)電的貨品吸附形成一層均勻光滑的仿金屬表面層。適用材料:1、很多材料可以進(jìn)行真空電鍍,包括金屬,軟硬塑料,復(fù)合材料,陶瓷和玻璃。其中*常見用于電鍍表面處理的是鋁材,其次是銀和銅。2、自然材料不適合進(jìn)行真空電鍍處理,因?yàn)樽匀徊牧媳旧淼乃謺?huì)影響真空環(huán)境。工藝成本:真空電鍍過(guò)程中,工件需要噴涂,裝載,卸載和再噴涂,所以人力成本相當(dāng)高,但是也取決于工件的復(fù)雜度和數(shù)量。環(huán)境影響:真空電鍍對(duì)環(huán)境污染很小,類似于噴涂對(duì)環(huán)境的影響。寧夏光學(xué)薄膜射頻離子源制造生產(chǎn)

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