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重慶離子束刻蝕射頻離子源廠家

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-03-25

直流電源電壓紋波做了二次濾波處理,高壓輸出的紋波小于50mV,離子源束流的穩(wěn)定性和重復(fù)性較好,鍍膜的產(chǎn)品的折射率更穩(wěn)定。國(guó)泰真空射頻離子源采用通用的LC高頻諧振原理,使用可調(diào)電容快速調(diào)諧,使整個(gè)負(fù)載阻抗匹配到50?,從而使功率輸出比較大,電離化效率比較高,調(diào)諧馬達(dá)采用步進(jìn)電機(jī)轉(zhuǎn)位+編碼器快速定位,并帶鎖止和記憶功能,以滿足負(fù)載在不同的真空環(huán)境、不同國(guó)泰射頻離子源采用通用的LC高頻諧振原理,使用可調(diào)電容快速調(diào)諧,使整個(gè)負(fù)載阻抗匹配到50?,從而使功率輸出比較大,電離化效率比較高,調(diào)諧馬達(dá)采用步進(jìn)電機(jī)轉(zhuǎn)位+編碼器快速定位,并帶鎖止和記憶功能,以滿足負(fù)載在不同的真空環(huán)境、不同阻抗快速點(diǎn)火。真空鍍膜機(jī)是什么樣的?重慶離子束刻蝕射頻離子源廠家

【機(jī)械泵分類(lèi)】機(jī)械泵有很多種,常用的有滑閥式、活塞往復(fù)式、定片式和旋片式四種類(lèi)型。機(jī)械泵是從da氣開(kāi)始工作的,它的主要參數(shù)有極限真空,抽氣速率,此為設(shè)計(jì)與選用機(jī)械泵的重要依據(jù)。單級(jí)泵可以將容器從da氣抽到1.0*10-1PA的極限真空,雙級(jí)機(jī)械泵可以將容器從da氣抽到6.7*10-2帕,甚至更高。抽氣速率,是指旋片泵按額定轉(zhuǎn)數(shù)運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí),單位時(shí)間內(nèi)所能排出氣體的體積,可以用下公式計(jì)算:Sth=2nVs=2nfsLfs表示吸氣結(jié)束時(shí)空腔截面積,L表示空腔長(zhǎng)度,系數(shù)表示轉(zhuǎn)子每旋轉(zhuǎn)一周有兩次排氣過(guò)程,Vs表示當(dāng)轉(zhuǎn)子處于水平位置的時(shí)候,吸氣結(jié)束,此時(shí)空腔內(nèi)的體積da,轉(zhuǎn)速為n。機(jī)械泵排氣的效果還與電機(jī)的轉(zhuǎn)速及皮帶的松緊度有關(guān)系,當(dāng)電機(jī)的皮帶比較松,電機(jī)轉(zhuǎn)速很慢的時(shí)候,機(jī)械泵的排氣效果也會(huì)變差,所以要經(jīng)常保養(yǎng),點(diǎn)檢,機(jī)械泵油的密封效果也需要常常點(diǎn)檢,油過(guò)少,達(dá)不到密封效果,泵內(nèi)會(huì)漏氣,油過(guò)多,把吸氣孔堵塞,無(wú)法吸氣和排氣,一般,在油位在線下0.5厘米即可。云南光學(xué)鍍膜射頻離子源自主研發(fā)設(shè)計(jì)生產(chǎn)真空鍍膜機(jī)抽真空步驟。

【真空鍍膜機(jī)真空檢漏方法普及之熒光檢漏法】熒光檢漏法首先需要將熒光材料溶于如丙tong等一些浸潤(rùn)性能好、易于揮發(fā)的有機(jī)溶劑中,使之成為飽和溶液;然后將被檢的真空部件外表面浸泡到溶液中或涂抹到部件表面,這一過(guò)程中,為了提升效果、縮短浸泡時(shí)間,可以在抽真空或者加壓條件下對(duì)其進(jìn)行浸泡。如果存在漏孔,熒光劑溶液會(huì)因毛細(xì)作用滲入到其中;qing除表面多余的溶液,待有機(jī)溶劑揮發(fā)后,熒光材料便會(huì)在漏孔中殘留下來(lái);此時(shí)再用紫外線燈光照射,漏孔位置就會(huì)觀察到明顯的熒光點(diǎn)。在進(jìn)行紫外光源照射時(shí),對(duì)于一些存在盲孔、表面不平的器件,可能也會(huì)存在殘留熒光材料,因此玻璃真空器件好在背面進(jìn)行照射觀察;為了提高對(duì)比度也可以采用濾光放da鏡,過(guò)濾掉紫外線以外的其他光線,來(lái)獲得更佳的觀察效果;而在熒光材料的選擇時(shí)要注意其發(fā)光顏色和被檢真空部件的顏色要有明顯的反差。熒光檢漏法不僅用于真空系統(tǒng)檢漏中,而且也被用于鑄件、模壓金屬件以及焊接件的裂紋檢查等。

【真空鍍膜的分類(lèi)】真空鍍膜的鍍層結(jié)構(gòu)一般為:基材、底漆、真空膜層、面漆,因靶材理化特性直接決定膜層的特性,根據(jù)膜層的導(dǎo)電與否,可分為導(dǎo)電真空鍍膜(VM)和不導(dǎo)電真空鍍膜(NCVM)兩種。VM:一般用在化妝品類(lèi)、NB類(lèi)、3C類(lèi)、汽配類(lèi)按鍵、裝飾框、按鍵RING類(lèi)飾品的表面處理,其表面效果與水電鍍相媲美,靶材一般為鋁、銅、錫、金、銀等。NCVM:具有金屬質(zhì)感、透明,但不導(dǎo)電,一般用在通訊類(lèi)、3C類(lèi)對(duì)抗擾要較高的機(jī)殼、裝飾框、按鍵件、RING類(lèi)飾品的表面處理,其表面效果為水電鍍不可取代,靶材一般為銦、銦錫。三、擴(kuò)散泵連續(xù)使用6個(gè)月以上,抽的速度會(huì)顯然變慢,當(dāng)操作不當(dāng)應(yīng)拆去聯(lián)結(jié)水管,卸下電爐盤(pán),將一級(jí)噴嘴擰出,先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍,再用洗衣粉兌水清洗一遍,然后用清水徹底清洗干凈,待水份揮發(fā)干以后,裝好泵膽,加入新擴(kuò)散泵油,并裝回機(jī)體,接好水管,裝好電爐盤(pán),便可以重新開(kāi)機(jī)。在重新開(kāi)機(jī)前,要注意檢漏工作。真空鍍膜機(jī)的工作原理。

【真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件】1、環(huán)境溫度:10~30℃2、相對(duì)濕度:不da于70%3、冷卻水進(jìn)水溫度:不高于25℃4、冷卻水質(zhì):城市自來(lái)水或質(zhì)量相當(dāng)?shù)乃?、供電電壓:380V,三相50Hz或220V,單相50Hz(由所用電器需要而定),電壓波動(dòng)范圍342~399V或198V~231V,頻率波動(dòng)范圍49~51Hz;6、設(shè)備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應(yīng)在產(chǎn)品使用說(shuō)明書(shū)上寫(xiě)明。7、設(shè)備周?chē)h(huán)境整潔、空氣清潔,不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵?;驓怏w存在。此外,真空鍍膜設(shè)備所在實(shí)驗(yàn)室或車(chē)間應(yīng)保持清潔衛(wèi)生。地面為水磨石或木質(zhì)涂漆地面、無(wú)塵埃。為防止機(jī)械泵工作時(shí)排出的氣體對(duì)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境的污染,可采用在泵的排氣口上面裝設(shè)排氣管道(金屬、橡膠管)的辦法,將氣體排出室外。離子真空鍍膜機(jī)是什么?四川離子束濺射射頻離子源制造生產(chǎn)廠家

真空鍍膜機(jī)日常怎么維護(hù)?重慶離子束刻蝕射頻離子源廠家

射頻中和器采用L型接法匹配:匹配速度快,效率高,點(diǎn)火更優(yōu)。源頭和中和器結(jié)構(gòu)經(jīng)常拆解部分的內(nèi)六角進(jìn)行電鍍及消氣處理,防止拆卸過(guò)程卡死,備件及耗品重復(fù)利用率高。射頻電源及控制部分單獨(dú)裝配在一個(gè)電柜內(nèi),RF線纜做防輻射和泄漏處理,避免對(duì)通訊、控制信號(hào)的干擾,同時(shí)也做良好的散熱處理。直流電源電壓紋波做了二次濾波處理,高壓輸出的紋波小于50mV,離子源束流的穩(wěn)定性和重復(fù)性較好,鍍膜的產(chǎn)品的折射率更穩(wěn)定。射頻部分匹配采用了硬件反饋和軟件提前記憶并預(yù)判的技術(shù);直流引入快速滅弧技術(shù),同時(shí)提高了射頻和直流部分的穩(wěn)定性,軟件設(shè)置了自檢和自診斷功能,即:使用前系統(tǒng)自檢,使用中即時(shí)刷新,對(duì)非調(diào)整性輸入的變化提前警報(bào)并告知客戶做好預(yù)案。重慶離子束刻蝕射頻離子源廠家

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