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河南光學(xué)薄膜空心陰極霍爾離子源怎么選

來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-04-17

【真空鍍膜機(jī)真空檢漏方法之靜態(tài)升壓法】靜態(tài)升壓法屬于真空檢漏法中的一種,也是簡(jiǎn)單易行的真空系統(tǒng)檢漏方法,因?yàn)樗恍枰妙~外特殊的儀器或者特殊物質(zhì),通過測(cè)量規(guī)管就可以檢測(cè)真空系統(tǒng)的總漏率,從而確定真空系統(tǒng)或部件是否滿足工作要求。雖然勝在簡(jiǎn)單,但也存在局限。如果真空系統(tǒng)或容器存在漏孔的話,靜態(tài)升壓法是無法確定漏孔所在的。因此在確定系統(tǒng)是否有漏孔的同時(shí)還需要確定其位置的話,就需要配合其他方法來進(jìn)行了。靜態(tài)升壓法的操作只要將被檢容器抽空至相應(yīng)的壓力范圍,再關(guān)閉閥門,隔離真空泵與真空容器,然后用真空計(jì)測(cè)量記錄真空容器中壓力隨時(shí)間的變化過程,即可得出泄漏數(shù)據(jù)。《真空系統(tǒng)抽氣達(dá)不到工作壓力有哪些原因》中,螺桿真空泵廠家介紹的判斷方法即是通過靜態(tài)升壓法實(shí)現(xiàn)的,比較方便。當(dāng)然在應(yīng)用過程中,要提高準(zhǔn)確性就要減少其他因素干擾,需要在檢測(cè)之前對(duì)容器進(jìn)行凈化清洗并烘干,或者用氮?dú)膺M(jìn)行沖洗。更嚴(yán)格一點(diǎn)可以在測(cè)量規(guī)管與容器之間設(shè)置冷阱,處理釋放的可凝氣體,而對(duì)可能存在的漏孔所漏進(jìn)的空氣不會(huì)造成影響。真空鍍膜機(jī)參數(shù)怎么調(diào)?河南光學(xué)薄膜空心陰極霍爾離子源怎么選

【真空鍍膜之磁控濺射鍍膜】磁控濺射對(duì)陰極濺射中電子使基片溫度上升過快的缺點(diǎn)加以改良,形成了電場(chǎng)和磁場(chǎng)方向相互垂直的特點(diǎn)。在正交的電磁場(chǎng)的作用下,電子以擺線的方式沿著靶表面前進(jìn),從而xianzhu地延長(zhǎng)了電子的運(yùn)動(dòng)路程,增加了同工作氣體分子的碰撞幾率,提高了電子的電離效率。由于電子每經(jīng)過一次碰撞損失一部分動(dòng)能,經(jīng)過多次碰撞后,喪失了能量成為“終電子”進(jìn)入離陰極靶面較遠(yuǎn)的弱電場(chǎng)區(qū),后到達(dá)陽(yáng)極時(shí)已經(jīng)是能量消耗殆盡的低能電子,也就不再會(huì)使基片過熱。同時(shí)高密度等離子體被束縛在靶面附近,又不與基片接觸,這樣電離產(chǎn)生的正離子能十分有效地轟擊靶面,而基片又可免受等離子體的轟擊,因而基片溫度又可降低。在濺射儀起輝以后,并不把樣品轉(zhuǎn)入陽(yáng)極的生長(zhǎng)位置,也不通循環(huán)水,使樣品隨放電的熱能而逐漸升高至一定溫度后,才開始生長(zhǎng),以減小應(yīng)力,獲得牢固度較高的薄膜。另外在樣品盤中還安裝了溫控儀(精度小于1℃)以監(jiān)控薄膜生長(zhǎng)過程中的樣品溫度。福建空心陰極霍爾離子源廠家錦成國(guó)泰真空鍍膜機(jī)怎么樣?

【真空鍍膜機(jī)操作工藝流程】首先開水、電、氣→總電源→開維持泵→開擴(kuò)散泵加熱→開粗抽泵→開預(yù)抽閥→關(guān)預(yù)抽閥→開粗抽閥→開羅茨泵→如有離子轟擊,開轟擊30秒,關(guān)轟擊→開真空計(jì)→當(dāng)真空到,關(guān)粗抽閥→開前置閥→開精抽閥,當(dāng)真空達(dá)到7x10-3pa,開轉(zhuǎn)架→開始鍍膜操作→鍍膜完畢后,關(guān)閉真空計(jì)、離子源→關(guān)精抽閥,前置閥→關(guān)羅茨泵→開抽氣閥,取件→上料,反復(fù)開始操作。特別注意:1.設(shè)備停用時(shí),鍍膜室要保持真空狀態(tài),減少內(nèi)表面氣體的吸附,防止氧化。2.冷卻水通道場(chǎng)下才能對(duì)擴(kuò)散泵進(jìn)行加熱,未經(jīng)充分冷卻的泵不得與da氣接觸,防止氧化。3.要保證機(jī)器內(nèi)擴(kuò)散泵和機(jī)械泵的油定期檢查和更換。4.設(shè)備運(yùn)行中遇有停電或其它事故發(fā)生,須先停擴(kuò)散泵,關(guān)精抽閥,前置閥和真空計(jì)。5.產(chǎn)品做完下班后,關(guān)了擴(kuò)散泵后須待溫度降低至60℃后才能關(guān)維持泵。

【真空鍍膜的膜層結(jié)構(gòu)分布】基材:ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等樹脂類均可成型真空電鍍,要求底材為純?cè)?電鍍級(jí)別更佳,不可加再生材;底漆:UV底漆,對(duì)基材表面做預(yù)處理,為膜層的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情況可酌情加厚;膜層:靶材蒸發(fā)的結(jié)果,VM膜層可導(dǎo)電,NCVM鍍層不導(dǎo)電,且抗干擾性效果很好,膜層厚度0.3um以下。面漆:面漆利用三基色原理可與色漿搭配出各類顏色,同時(shí)對(duì)真空膜層起保護(hù)作用,再加上UV、PU的表面裝飾,效果更漂亮,厚度一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚。國(guó)產(chǎn)真空鍍膜機(jī)哪家好?

【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源,在其相對(duì)于待清洗的表面加負(fù)偏壓可以實(shí)現(xiàn)離子轟擊的氣體解吸及某些碳?xì)浠衔锏娜コ?。清洗效果取決于電極材料、幾何形狀及其與表面的關(guān)系。即取決于單位表面積上的離子數(shù)和離子能量,從而取決于有效電功率。在真空室中充入適當(dāng)分壓力的惰性氣體(典型的如Ar氣),可以利用兩個(gè)適當(dāng)?shù)碾姌O間的低壓下的輝光放電產(chǎn)生的離子轟擊來達(dá)到清洗的目的。該方法中,惰性氣體被離化并轟擊真空室內(nèi)壁、真空室內(nèi)的其它結(jié)構(gòu)件及被鍍基片,它可以使某些真空系統(tǒng)免除被高溫烘烤。如果在充入的氣體中加入氧氣,對(duì)某些碳?xì)浠衔锟梢垣@得更好的清洗效果。因?yàn)檠鯕饪梢允鼓承┨細(xì)浠衔镅趸梢讚]發(fā)性氣體而容易被真空系統(tǒng)排除。不銹鋼高真空和超高真空容器表面上雜質(zhì)的主要成分是碳和碳?xì)浠衔?。真空鍍膜機(jī)的工作原理和構(gòu)成。甘肅塑膠鍍膜空心陰極霍爾離子源源頭實(shí)力廠家

真空鍍膜機(jī)的產(chǎn)業(yè)集群。河南光學(xué)薄膜空心陰極霍爾離子源怎么選

【真空鍍膜機(jī)鍍塑料件時(shí)抽真空時(shí)間過長(zhǎng)是什么原因?】(1)真空室有漏氣現(xiàn)象:da家都知道,真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)是的基本條件是工件在真空狀態(tài)下才能進(jìn)行鍍膜加工的,若真空室有漏氣現(xiàn)象而沒有經(jīng)過檢漏找出漏氣位置,則真空鍍很長(zhǎng)時(shí)間都不能抽得上來的;(2)即使真空室沒有漏氣,因?yàn)樗芰袭a(chǎn)品的放氣量da,所以抽真空,特別是高真空很難達(dá)到。真空室內(nèi)太臟放氣,而且由于塑料產(chǎn)品的放氣,造成真空室內(nèi)鍍膜氣體的不純,有雜氣的存在,造成鍍膜產(chǎn)品的顏色發(fā)暗,發(fā)黃,發(fā)黑等。(3)也許是真空機(jī)組的抽氣能力不夠了,油被污染或氧化了。河南光學(xué)薄膜空心陰極霍爾離子源怎么選

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