【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源，在其相對(duì)于待清洗的表面加負(fù)偏壓可以實(shí)現(xiàn)離子轟擊的氣體解吸及某些碳?xì)浠衔锏娜コＧ逑葱ЧQ于電極材料、幾何形狀及其與表面的關(guān)系。即取決于單位表面積上的離子數(shù)和離子能量，從而取決于有效電功率。在真空室中充入適當(dāng)分壓力的惰性氣體(典型的如Ar氣)，可以利用兩個(gè)適當(dāng)?shù)碾姌O間的低壓下的輝光放電產(chǎn)生的離子轟擊來(lái)達(dá)到清洗的目的。該方法中，惰性氣體被離化并轟擊真空室內(nèi)壁、真空室內(nèi)的其它結(jié)構(gòu)件及被鍍基片，它可以使某些真空系統(tǒng)免除被高溫烘烤。如果在充入的氣體中加入氧氣，對(duì)某些碳?xì)浠衔锟梢垣@得更好的清洗效果。因?yàn)檠鯕饪梢允鼓承┨細(xì)浠衔镅趸梢讚]發(fā)性氣體而容易被真空系統(tǒng)排除。不銹鋼高真空和超高真空容器表面上雜質(zhì)的主要成分是碳和碳?xì)浠衔?。一般情況下，其中的碳不能單獨(dú)揮發(fā)．經(jīng)化學(xué)清洗后，需要引入Ar或Ar+O2混合氣體進(jìn)行輝光放電清洗，使表面上的雜質(zhì)和由于化學(xué)作用被束縛在表面上的氣體得到qing除。離子真空鍍膜機(jī)是什么？河北大直徑射頻離子源源頭實(shí)力廠家

【真空鍍膜機(jī)鍍塑料件時(shí)抽真空時(shí)間過(guò)長(zhǎng)是什么原因？】(1)真空室有漏氣現(xiàn)象：da家都知道，真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)是的基本條件是工件在真空狀態(tài)下才能進(jìn)行鍍膜加工的，若真空室有漏氣現(xiàn)象而沒(méi)有經(jīng)過(guò)檢漏找出漏氣位置，則真空鍍很長(zhǎng)時(shí)間都不能抽得上來(lái)的；(2)即使真空室沒(méi)有漏氣，因?yàn)樗芰袭a(chǎn)品的放氣量da，所以抽真空，特別是高真空很難達(dá)到。真空室內(nèi)太臟放氣，而且由于塑料產(chǎn)品的放氣，造成真空室內(nèi)鍍膜氣體的不純，有雜氣的存在，造成鍍膜產(chǎn)品的顏色發(fā)暗，發(fā)黃，發(fā)黑等。（3）也許是真空機(jī)組的抽氣能力不夠了，油被污染或氧化了。江蘇射頻離子源制造生產(chǎn)真空鍍膜機(jī)的培訓(xùn)資料。

【真空鍍膜機(jī)操作工藝流程】首先開(kāi)水、電、氣→總電源→開(kāi)維持泵→開(kāi)擴(kuò)散泵加熱→開(kāi)粗抽泵→開(kāi)預(yù)抽閥→關(guān)預(yù)抽閥→開(kāi)粗抽閥→開(kāi)羅茨泵→如有離子轟擊，開(kāi)轟擊30秒，關(guān)轟擊→開(kāi)真空計(jì)→當(dāng)真空到，關(guān)粗抽閥→開(kāi)前置閥→開(kāi)精抽閥，當(dāng)真空達(dá)到7x10-3pa，開(kāi)轉(zhuǎn)架→開(kāi)始鍍膜操作→鍍膜完畢后，關(guān)閉真空計(jì)、離子源→關(guān)精抽閥，前置閥→關(guān)羅茨泵→開(kāi)抽氣閥，取件→上料，反復(fù)開(kāi)始操作。特別注意：1.設(shè)備停用時(shí)，鍍膜室要保持真空狀態(tài)，減少內(nèi)表面氣體的吸附，防止氧化。2.冷卻水通道場(chǎng)下才能對(duì)擴(kuò)散泵進(jìn)行加熱，未經(jīng)充分冷卻的泵不得與da氣接觸，防止氧化。3.要保證機(jī)器內(nèi)擴(kuò)散泵和機(jī)械泵的油定期檢查和更換。4.設(shè)備運(yùn)行中遇有停電或其它事故發(fā)生，須先停擴(kuò)散泵，關(guān)精抽閥，前置閥和真空計(jì)。5.產(chǎn)品做完下班后，關(guān)了擴(kuò)散泵后須待溫度降低至60℃后才能關(guān)維持泵。

【如何減少真空鍍膜的灰塵】1、使用的源材料要符合必要的純度要求。2、樣品取出后放置環(huán)境要注意清潔的問(wèn)題。3、鍍膜一段時(shí)間后，真空室內(nèi)壁必須要清潔處理。4、清洗襯底材料，必須要做到嚴(yán)格合乎工藝要求。5、工作人員有專門(mén)的服裝，操作要戴手套、腳套等。6、適當(dāng)?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物。7、技術(shù)上明確允許的da顆粒尺寸和單位面積顆粒物的數(shù)量的上限da致是多少。8、室內(nèi)空氣流動(dòng)性低、地面干凈，如果是裸露的水泥地，需要覆蓋處理。墻壁、屋頂不能使用一般的灰質(zhì)涂料粉刷。真空鍍膜機(jī)機(jī)組是怎樣的？

【真空鍍膜之磁控濺射鍍膜】磁控濺射對(duì)陰極濺射中電子使基片溫度上升過(guò)快的缺點(diǎn)加以改良,形成了電場(chǎng)和磁場(chǎng)方向相互垂直的特點(diǎn)。在正交的電磁場(chǎng)的作用下,電子以擺線的方式沿著靶表面前進(jìn),從而xianzhu地延長(zhǎng)了電子的運(yùn)動(dòng)路程,增加了同工作氣體分子的碰撞幾率,提高了電子的電離效率。由于電子每經(jīng)過(guò)一次碰撞損失一部分動(dòng)能,經(jīng)過(guò)多次碰撞后,喪失了能量成為“終電子”進(jìn)入離陰極靶面較遠(yuǎn)的弱電場(chǎng)區(qū),后到達(dá)陽(yáng)極時(shí)已經(jīng)是能量消耗殆盡的低能電子,也就不再會(huì)使基片過(guò)熱。同時(shí)高密度等離子體被束縛在靶面附近,又不與基片接觸,這樣電離產(chǎn)生的正離子能十分有效地轟擊靶面,而基片又可免受等離子體的轟擊,因而基片溫度又可降低。在濺射儀起輝以后,并不把樣品轉(zhuǎn)入陽(yáng)極的生長(zhǎng)位置,也不通循環(huán)水,使樣品隨放電的熱能而逐漸升高至一定溫度后,才開(kāi)始生長(zhǎng),以減小應(yīng)力,獲得牢固度較高的薄膜。另外在樣品盤(pán)中還安裝了溫控儀(精度小于1℃)以監(jiān)控薄膜生長(zhǎng)過(guò)程中的樣品溫度。真空鍍膜機(jī)該如何維修。廣西離子束濺射射頻離子源廠家

真空鍍膜機(jī)國(guó)內(nèi)有哪些產(chǎn)商？河北大直徑射頻離子源源頭實(shí)力廠家

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