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甘肅離子束清洗射頻離子源自主研發(fā)設(shè)計生產(chǎn)

來源: 發(fā)布時間:2023-05-08

【真空鍍膜機清洗工藝之紫外線輻照清洗】利用紫外輻照來分解表面上的碳氫化合物。例如,在空氣中照射15h就可產(chǎn)生清潔的玻璃表面。如果把適當預(yù)清洗的表面放在一個產(chǎn)生臭氧的紫外線源中.要不了幾分鐘就可以形成清潔表面(工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機理是:在紫外線照射下,污物分子受激并離解,而臭氧的生成和存在產(chǎn)生高活性的原子態(tài)氧。受激的污物分子和由污物離解產(chǎn)生的自由基與原子態(tài)氧作用.形成較簡單易揮發(fā)分子.如H203、CO2和N2.其反應(yīng)速率隨溫度的增加而增加。離子真空鍍膜機是什么?甘肅離子束清洗射頻離子源自主研發(fā)設(shè)計生產(chǎn)

【真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件】1、環(huán)境溫度:10~30℃2、相對濕度:不da于70%3、冷卻水進水溫度:不高于25℃4、冷卻水質(zhì):城市自來水或質(zhì)量相當?shù)乃?、供電電壓:380V,三相50Hz或220V,單相50Hz(由所用電器需要而定),電壓波動范圍342~399V或198V~231V,頻率波動范圍49~51Hz;6、設(shè)備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應(yīng)在產(chǎn)品使用說明書上寫明。7、設(shè)備周圍環(huán)境整潔、空氣清潔,不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵埃或氣體存在。此外,真空鍍膜設(shè)備所在實驗室或車間應(yīng)保持清潔衛(wèi)生。地面為水磨石或木質(zhì)涂漆地面、無塵埃。為防止機械泵工作時排出的氣體對實驗室環(huán)境的污染,可采用在泵的排氣口上面裝設(shè)排氣管道(金屬、橡膠管)的辦法,將氣體排出室外。甘肅光學(xué)鍍膜射頻離子源廠家真空鍍膜機廠家排名。

【真空鍍膜機清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源,在其相對于待清洗的表面加負偏壓可以實現(xiàn)離子轟擊的氣體解吸及某些碳氫化合物的去除。清洗效果取決于電極材料、幾何形狀及其與表面的關(guān)系。即取決于單位表面積上的離子數(shù)和離子能量,從而取決于有效電功率。在真空室中充入適當分壓力的惰性氣體(典型的如Ar氣),可以利用兩個適當?shù)碾姌O間的低壓下的輝光放電產(chǎn)生的離子轟擊來達到清洗的目的。該方法中,惰性氣體被離化并轟擊真空室內(nèi)壁、真空室內(nèi)的其它結(jié)構(gòu)件及被鍍基片,它可以使某些真空系統(tǒng)免除被高溫烘烤。如果在充入的氣體中加入氧氣,對某些碳氫化合物可以獲得更好的清洗效果。因為氧氣可以使某些碳氫化合物氧化生成易揮發(fā)性氣體而容易被真空系統(tǒng)排除。不銹鋼高真空和超高真空容器表面上雜質(zhì)的主要成分是碳和碳氫化合物。一般情況下,其中的碳不能單獨揮發(fā).經(jīng)化學(xué)清洗后,需要引入Ar或Ar+O2混合氣體進行輝光放電清洗,使表面上的雜質(zhì)和由于化學(xué)作用被束縛在表面上的氣體得到qing除。

【真空鍍膜的分類】真空鍍膜的鍍層結(jié)構(gòu)一般為:基材、底漆、真空膜層、面漆,因靶材理化特性直接決定膜層的特性,根據(jù)膜層的導(dǎo)電與否,可分為導(dǎo)電真空鍍膜(VM)和不導(dǎo)電真空鍍膜(NCVM)兩種。VM:一般用在化妝品類、NB類、3C類、汽配類按鍵、裝飾框、按鍵RING類飾品的表面處理,其表面效果與水電鍍相媲美,靶材一般為鋁、銅、錫、金、銀等。NCVM:具有金屬質(zhì)感、透明,但不導(dǎo)電,一般用在通訊類、3C類對抗擾要較高的機殼、裝飾框、按鍵件、RING類飾品的表面處理,其表面效果為水電鍍不可取代,靶材一般為銦、銦錫。三、擴散泵連續(xù)使用6個月以上,抽的速度會顯然變慢,當操作不當應(yīng)拆去聯(lián)結(jié)水管,卸下電爐盤,將一級噴嘴擰出,先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍,再用洗衣粉兌水清洗一遍,然后用清水徹底清洗干凈,待水份揮發(fā)干以后,裝好泵膽,加入新擴散泵油,并裝回機體,接好水管,裝好電爐盤,便可以重新開機。在重新開機前,要注意檢漏工作。廣東真空鍍膜機廠家。

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真空鍍膜機的主要應(yīng)用。甘肅離子束清洗射頻離子源自主研發(fā)設(shè)計生產(chǎn)

【真空鍍膜機真空系統(tǒng)檢漏法之真空計檢漏法】常用的真空計檢漏法主要是熱傳導(dǎo)真空計法與電離真空計法。以熱傳導(dǎo)真空計法為例,它是利用低壓下不同氣體種類的熱傳導(dǎo)能力差異與壓力的關(guān)系來分析真空系統(tǒng)泄漏情況。使用時,要保證被檢系統(tǒng)處于一個壓力不變的動態(tài)平衡狀態(tài),將示漏氣體噴吹于可疑處(也可能用有機溶劑涂抹,但易吸附、堵塞漏孔,并造成污染)。一旦有漏孔存在,示漏氣體會通過漏孔進入被檢系統(tǒng),因為示漏氣體的熱傳導(dǎo)能力與原系統(tǒng)的氣體成分差異da,會引起明顯的熱傳導(dǎo)性質(zhì)變化,熱傳導(dǎo)真空計的儀表讀數(shù)在原有的平衡基礎(chǔ)上就會發(fā)生波動變化,根據(jù)這些確定漏孔位置并根據(jù)讀數(shù)變化換算漏率da小。相應(yīng)地,電離真空計法利用的即是示漏氣體進入后導(dǎo)致的離子流變化來進行換算。真空系統(tǒng)檢漏中應(yīng)用真空計檢漏法要考慮示漏氣體種類與真空計的特性的配合,選擇示漏氣體對應(yīng)的特性差異要明顯有別于原有氣體成分,如熱傳導(dǎo)真空計的熱傳導(dǎo)能力、電離真空計的電離電位。其次為便于準確地觀察前后數(shù)據(jù)變化,要保證被檢前被檢系統(tǒng)壓力處于穩(wěn)定的平衡狀態(tài),測量的真空計規(guī)管也要處于穩(wěn)定的狀態(tài),防止虛假數(shù)據(jù)誤導(dǎo)。同時真空計規(guī)管存在惰性,需要觀察足夠的時間。甘肅離子束清洗射頻離子源自主研發(fā)設(shè)計生產(chǎn)

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