【如何減少真空鍍膜的灰塵】1、使用的源材料要符合必要的純度要求。2、樣品取出后放置環(huán)境要注意清潔的問題。3、鍍膜一段時間后,真空室內(nèi)壁必須要清潔處理。4、清洗襯底材料,必須要做到嚴(yán)格合乎工藝要求。5、工作人員有專門的服裝,操作要戴手套、腳套等。6、適當(dāng)?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度,有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物。7、技術(shù)上明確允許的較da顆粒尺寸和單位面積顆粒物的數(shù)量的上限da致是多少。8、室內(nèi)空氣流動性低、地面干凈,如果是裸露的水泥地,需要覆蓋處理。墻壁、屋頂不能使用一般的灰質(zhì)涂料粉刷。真空鍍膜機參數(shù)怎么調(diào)?浙江光學(xué)鍍膜卷繞真空鍍膜生產(chǎn)廠家
【真空鍍膜機電控柜的操作】1、玻璃真空鍍膜機開水泵、氣源2、開總電源3、開維持泵、真空計電源,真空計檔位置V1位置,等待其值小于10后,再進入下一步操作。約需5分鐘。4、開機械泵、予抽,開渦輪分子泵電源、啟動,真空計開關(guān)換到V2位置,抽到小于2為止,約需20分鐘。5、觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達250以后,關(guān)予抽,開前機和高閥繼續(xù)抽真空,抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭,觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子qiang電源。山西金屬化鍍膜卷繞真空鍍膜廠家真空鍍膜機為什么會越來越慢?
【常見的真空材料表面上的污染物類型】1、油脂:加工、裝配、操作時沾染上的潤滑劑、切削液、真空油脂等;2、酸、堿、鹽類物質(zhì):清洗時的殘余物質(zhì)、手汗、水中的礦物質(zhì)等;3、表面氧化物:材料長期放置在空氣中或放置在潮濕空氣中所形成的表面氧化物;4、水基類:操作時的手汗、吹氣時的水汽、唾液等;5、拋光殘渣及環(huán)境空氣中的塵埃和其它有機物等。清洗這些污染物的目的是為了改進真空鍍膜機的工作穩(wěn)定性,使工作能夠更加順利的進行。清洗后的表面根據(jù)要求分為原子級清潔表面和工藝技術(shù)上的清潔表面兩類。在真空鍍膜機使用鍍膜材料鍍膜前,對鍍膜材料做簡單的表面清潔可以延長鍍膜機的使用壽命。因為各種污染物不僅使真空系統(tǒng)不能獲得所要求的真空度,還會影響真空部件連接處的強度和密封性能。前期到位的清洗工作可以減少許多麻煩,避免許多小問題的發(fā)生,對工作效率、真空鍍膜機鍍膜質(zhì)量都具有十分積極的作用??蒬ada提高真空系統(tǒng)中所有器壁和其它組件表面在各工作條件下的工作穩(wěn)定性。
【真空鍍膜的分類】真空鍍膜的鍍層結(jié)構(gòu)一般為:基材、底漆、真空膜層、面漆,因靶材理化特性直接決定膜層的特性,根據(jù)膜層的導(dǎo)電與否,可分為導(dǎo)電真空鍍膜(VM)和不導(dǎo)電真空鍍膜(NCVM)兩種。VM:一般用在化妝品類、NB類、3C類、汽配類按鍵、裝飾框、按鍵RING類飾品的表面處理,其表面效果與水電鍍相媲美,靶材一般為鋁、銅、錫、金、銀等。NCVM:具有金屬質(zhì)感、透明,但不導(dǎo)電,一般用在通訊類、3C類對抗擾要較高的機殼、裝飾框、按鍵件、RING類飾品的表面處理,其表面效果為水電鍍不可取代,靶材一般為銦、銦錫。三、擴散泵連續(xù)使用6個月以上,抽的速度會顯然變慢,當(dāng)操作不當(dāng)應(yīng)拆去聯(lián)結(jié)水管,卸下電爐盤,將一級噴嘴擰出,先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍,再用洗衣粉兌水清洗一遍,然后用清水徹底清洗干凈,待水份揮發(fā)干以后,裝好泵膽,加入新擴散泵油,并裝回機體,接好水管,裝好電爐盤,便可以重新開機。在重新開機前,要注意檢漏工作。真空鍍膜機類型推薦。
【真空鍍膜機清洗工藝要求】真空工藝進行前應(yīng)清洗真空材料,從工件或系統(tǒng)材料表面qing除污染物;真空零部件的表面清洗處理也是非常有必要的,因為由污染物所造成的氣體、蒸氣源不僅會使真空系統(tǒng)不能獲得所要求的真空度。而且由于污染物的存在,同時也會影響真空部件連接處的強度和密封性能。污染物可以定義為“任何一種無用的物質(zhì)或能量”,根據(jù)污染物的物理狀態(tài)可分為固體、氣體及液體,它們以膜或散粒形式存在。就其化學(xué)特征來看,它可以處于離子態(tài)或共價態(tài),可以是無機物或有機物。暴露在空氣中的表面易受到污染,污染的來源有很多種,初的污染通常是表面本身形成過程中的一部分。吸附現(xiàn)象、化學(xué)反應(yīng)、浸析和干燥過程、機械處理以及擴散和離析過程都使各種成分的表面污染物增加。真空鍍膜機的產(chǎn)業(yè)集群。甘肅光學(xué)薄膜卷繞真空鍍膜
國產(chǎn)真空鍍膜機哪家好?浙江光學(xué)鍍膜卷繞真空鍍膜生產(chǎn)廠家
【真空鍍膜機之卷繞機構(gòu)設(shè)計中應(yīng)考慮的問題】①提高卷繞速度的問題。卷繞速度即是帶狀基材運動的線速度,它是卷繞機構(gòu)的一個主要技術(shù)指櫟。國內(nèi)早期鍍膜機卷繞速度只有10m/min,現(xiàn)在也只有80m/min~120m/min,在國外日本的EW系列產(chǎn)品中,其卷繞速度已達到300m/min,德國L.H公司生產(chǎn)的鍍膜機已達到600m/min,可見隨著鍍膜技術(shù)的發(fā)展,卷繞速度有待提高。②帶狀基材的線速恒定問題。這一問題也很重要,因為只有卷繞機構(gòu)保證帶狀基材的線速恒定,才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點對制備帶狀基材的功能性膜(如電容器膜)尤為重要。③帶狀基材的跑偏和起褶問題。隨著卷繞速度的提高,帶狀基材在卷繞鍍膜過程中,起褶和發(fā)生偏斜,嚴(yán)重時會造成基材的斷裂,使生產(chǎn)中斷,既影響生產(chǎn)效率,又浪費材料。因此,在卷繞機構(gòu)的設(shè)計中應(yīng)充分考慮這一問題。浙江光學(xué)鍍膜卷繞真空鍍膜生產(chǎn)廠家
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