【光學(xué)鍍膜之何為化學(xué)氣相蒸鍍，主要的優(yōu)缺點有哪些】化學(xué)氣相蒸鍍乃使用一種或多種氣體，在一加熱的固體基材上發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，并鍍上一層固態(tài)薄膜。優(yōu)點:(1)真空度要求不高，甚至可以不需要真空，例如熱噴覆(2)沉積速率快，大氣CVD可以達(dá)到1μm/min(3)與PVD比較的話?；瘜W(xué)量論組成或合金的鍍膜較容易達(dá)成(4)鍍膜的成份多樣化，如金屬、非金屬、半導(dǎo)體、光電材料、鉆石薄膜等等(5)可以在復(fù)雜形狀的基材鍍膜，甚至滲入多孔的陶瓷(6)厚度的均勻性良好，低壓CVD甚至可以同時鍍數(shù)十芯片缺點:(1)熱力學(xué)及化學(xué)反應(yīng)機(jī)制不易了解或不甚了解(2)需要在高溫下進(jìn)行，有些基材不能承受，甚至和鍍膜產(chǎn)生作用(3)反應(yīng)氣體可能具腐蝕性、毒性或baozha性，處理時需小心(4)反應(yīng)生成物可能殘余在鍍膜上，成為雜質(zhì)。 光學(xué)鍍膜機(jī)技術(shù)教程；浙江光學(xué)鍍膜機(jī)托架

【新型光學(xué)薄膜的典型應(yīng)用】現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)特別是激光技術(shù)和信息光學(xué)的發(fā)展，光學(xué)薄膜不jin用于純光學(xué)器件，在光電器件、光通信器件上也得到廣fan的應(yīng)用。近代信息光學(xué)、光電子技術(shù)及光子技術(shù)的發(fā)展，對光學(xué)薄膜產(chǎn)品的長壽命、高可靠性及高qiang度的要求越來越高，從而發(fā)展了一系列新型光學(xué)薄膜及其制備技術(shù)，并為解決光學(xué)薄膜產(chǎn)業(yè)化面臨的問題提供了quan面的解決方案。包括高qiang度激光器、金剛石及類金剛石膜、軟X射線多層膜、太陽能選擇性吸收膜和光通信用光學(xué)膜等。河南光學(xué)鍍膜機(jī)有幾個泵真空鍍膜機(jī)真空四個階段。

【光學(xué)鍍膜為什么需要鍍減反射膜之鏡面反射和“鬼影”】1）鏡面反射：光線通過鏡片的前后表面時，不但會產(chǎn)生折射，還會產(chǎn)生反射。這種在鏡片前表面產(chǎn)生的反射光會使別人看戴鏡者眼睛時，看到的卻是鏡片表面一片白光。拍照時，這種反光還會嚴(yán)重影響戴鏡者的美觀。 2）"鬼影"：眼鏡光學(xué)理論認(rèn)為眼鏡片屈光力會使所視物體在戴鏡者的遠(yuǎn)點形成一個清晰的像，也可以解釋為所視物的光線通過鏡片發(fā)生偏折并聚集于視網(wǎng)膜上，形成像點。但是由于屈光鏡片的前后表面的曲率不同，并且存在一定量的反射光，它們之間會產(chǎn)生內(nèi)反射光。內(nèi)反射光會在遠(yuǎn)點球面附近產(chǎn)生虛像，也就是在視網(wǎng)膜的像點附近產(chǎn)生虛像點。這些虛像點會影響視物的清晰度和舒適性。

    【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之化學(xué)沉積法】化學(xué)氣相沉積(chemicalvapourdeposition,CVD)是把含有構(gòu)成薄膜元素的一種或幾種化合物或單質(zhì)氣體，供給基板，利用氣相反應(yīng)，在基板表面上反應(yīng)沉積出所需固體薄膜的工藝技術(shù)，該技術(shù)已成為鍍膜玻璃生產(chǎn)的主要制備技術(shù)。在線CVD法鍍膜技術(shù)，是在浮法玻璃生產(chǎn)過程中，連續(xù)沉積化合物薄膜的CVD工藝技術(shù)，是目前世界上比較先進(jìn)的鍍膜玻璃生產(chǎn)技術(shù)。它是以潔凈、高速牽引(8-15m/min)、高溫(600℃)的浮法玻璃為沉積襯底。換言之，薄膜沉積前，玻璃襯底即將離開錫槽但尚未進(jìn)人退火窯，且未被處理凈化。國外*早采用在線CVD法連續(xù)沉積Sn02薄膜，而我國*早是用該法生產(chǎn)硅質(zhì)鍍膜玻璃。目前，我國已基本掌握了在線CVD法鍍膜技術(shù)，能夠穩(wěn)定地生產(chǎn)硅質(zhì)鍍膜玻璃、在線Low-E玻璃和在線自潔凈玻璃。在線鍍膜玻璃生產(chǎn)線包括：原料→熔窯→錫槽→退火窯→切割→裝箱。 光學(xué)鍍膜機(jī)該如何維修。

【光學(xué)真空鍍膜之電子qiang蒸鍍系統(tǒng)注意事項】 光學(xué)真空鍍膜機(jī)電子qiang蒸鍍法比傳統(tǒng)熱電阻式加熱法的熱轉(zhuǎn)換效率高而秏能少,對蒸鍍材料的選擇方面受限較少。以純元素之蒸鍍而言,電阻式蒸鍍受限于加熱溫度,多半只從事鋁、鉻、金、銀等少數(shù)幾種薄膜，電子束蒸鍍則可制鍍高熔點材料如鎢、鉬等金屬和活性甚強(qiáng)的鈦、鈮等金屬,即便是很難使用濺鍍技術(shù)制備的磁性材料如鐵、鈷、鎳等金屬,亦能夠蒸鍍出品質(zhì)良好的薄膜。為了顧及薄膜純度,在操作技巧上純元素之蒸鍍通常采取高真空度與高蒸鍍速率的鍍膜條件?；衔锊牧先缪趸?、硫化物、氮化物及氟化物等皆可使用電子qiang蒸鍍方式,部份材料在被電子束加熱蒸發(fā)過程中會因高熱而發(fā)生解離現(xiàn)象,這也是蒸鍍法的主要缺點,通常是采用反應(yīng)式蒸鍍方式解決,為了確保薄膜形成時缺乏的部份能利用基板高溫在反應(yīng)過程將其補(bǔ)足,在操作上鍍膜速率必須適切地降低。部分屬于絕緣性的化合物在連續(xù)被電子轟擊時會有負(fù)電荷累積問題,使得后續(xù)電子受負(fù)電位排斥而無法完全抵達(dá)待鍍材料表面,因此坩堝座在電路設(shè)計上是使其呈接地電位,以協(xié)助累積之負(fù)電荷順利導(dǎo)出,這在小型坩堝是相當(dāng)有效,但對大型坩堝則很難避免有些許鍍膜速率不穩(wěn)定情形。光學(xué)鍍膜機(jī)可以制造出具有高光學(xué)性能的薄膜，可以用于制造良好光學(xué)器件。上海光學(xué)鍍膜機(jī)開發(fā)

真空鍍膜機(jī)參數(shù)怎么調(diào)？浙江光學(xué)鍍膜機(jī)托架

    【光學(xué)鍍膜機(jī)的清洗】設(shè)備使用一個星期后，因鍍料除鍍在工件表面外，亦因無定向性而工作室內(nèi)的襯板上鍍料，并越鍍越厚，該層膜厚因組織、繞疏松，吸收大量氣體而造成真空鍍膜設(shè)備抽氣越來越慢。此時，應(yīng)對工作室及襯板進(jìn)行清洗，如不必要拆落來的部件，可用砂紙打磨干凈，襯板可浸泡在氫氟酸水溶液里，氫氟酸和水的比例看需要浸泡時間長短以及不傷襯板為原則。注：襯板必須烘干水份才能安裝，烘干前，襯板的水分盡量抹干，工作架等部件用砂紙清潔后，需要把真空室的所有灰塵清理干凈，此可用吸塵器吸干凈灰塵。*后安裝襯板時，真空室及襯板都需要用酒精控拭干凈。因使用電子qiang及離子源輔助鍍膜，可能會造成清潔困難，可使用噴沙等方法來清潔。 浙江光學(xué)鍍膜機(jī)托架

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