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中國(guó)臺(tái)灣臥式光學(xué)鍍膜機(jī)

來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-07-27

【減反射膜的透過量】 反射光占入射光的百分比取決于鏡片材料的折射率,可通過反射量的公式進(jìn)行計(jì)算。 反射量公式:R=(n-1)平方/(n+1)平方 R:鏡片的單面反射量 n:鏡片材料的折射率 例如普通樹脂材料的折射率為1.50,反射光R=(1.50-1)平方/(1.50+1)平方=0.04=4%。 鏡片有兩個(gè)表面,如果R1為鏡片前表面的量,R2為鏡片后表面的反射量,則鏡片的總反射量R=R1+R2。(計(jì)算R2的反射量時(shí),入射光為100%-R1)。鏡片的透光量T=100%-R1-R2。 由此可見,高折射率的鏡片如果沒有減反射膜,反射光會(huì)對(duì)戴鏡者帶來的不適感比較強(qiáng)烈。光學(xué)鍍膜機(jī)歡迎咨詢成都國(guó)泰真空設(shè)備有限公司。中國(guó)臺(tái)灣臥式光學(xué)鍍膜機(jī)

    【光學(xué)真空鍍膜機(jī)之電子蒸鍍】電子qiang蒸鍍系統(tǒng)的原理是利用電子qiang所射出之電子束轟擊待鍍材料,將高能電子射束之動(dòng)能轉(zhuǎn)為熔化待鍍材料之熱能,其擁有較佳之熱轉(zhuǎn)換效率,同時(shí)也可得到較高的鍍膜速率,而且利用電流大小控制熱電子數(shù)目也可精密調(diào)控其蒸發(fā)速率。電子束的來源主要由電子qiang系統(tǒng)提供,電子qiang的操作原理類似于陰極射線管,它的電源輸出功率可從1kw到1000kw,使得電子束的動(dòng)能達(dá)到30kev以上。當(dāng)陰極燈絲被施以低壓電流而達(dá)到白熱化時(shí),電子將從燈絲表面釋出而向四方發(fā)射,且隨燈射溫度提高而增加其釋放量,此為熱電子。一般低功率電子qiang之電子束的折射方向是靠永久磁鐵的磁場(chǎng),而高功率電子qiang則需使用電磁鐵。電子束加速后可直接撞擊在薄膜材料上使之蒸發(fā),但蒸發(fā)之原子或分子會(huì)污染電子源,因此通常將電子源藏在裝薄膜材料之qiang座底下,而利用強(qiáng)力磁場(chǎng)將電子束偏向180°或270°。因電子qiang蒸鍍法,對(duì)某些精密光學(xué)元件的薄膜品質(zhì)要求而言仍有不足,其膜層微觀結(jié)構(gòu)呈現(xiàn)柱狀形態(tài),孔隙多,裝填密度低,造成較大的光學(xué)吸收,且耐潮性、硬度及附著度都較差。 湖南大型光學(xué)鍍膜機(jī)價(jià)格光學(xué)鍍膜機(jī)認(rèn)準(zhǔn)成都國(guó)泰真空設(shè)備有限公司。

【減反射膜的原理】 減反射膜是以光的波動(dòng)性和干涉現(xiàn)象為基礎(chǔ)的。二個(gè)振幅相同,波長(zhǎng)相同的光波疊加,那么光波的振幅增強(qiáng);如果二個(gè)光波原由相同,波程相差,如果這二個(gè)光波疊加,那么互相抵消了。 1)振幅條件:膜層材料的折射率必須等于鏡片片基材料折射率的平方根。 2)位相條件:膜層厚度應(yīng)為基準(zhǔn)光的1/4波長(zhǎng)。d=λ/4 λ=555nm時(shí),d=555/4=139nm 對(duì)于減反射膜層,許多眼鏡片生產(chǎn)商采用人眼敏感度較高的光波(波長(zhǎng)為555nm)。當(dāng)鍍膜的厚度過?。ā?39nm),反射光會(huì)顯出淺棕黃色,如果呈藍(lán)色則表示鍍膜的厚度過厚( 〉139nm)。鍍膜反射膜層的目的是要減少光線的反射,但并不可能做到?jīng)]有反射光線。鏡片的表面也總會(huì)有殘留的顏色,我們也會(huì)發(fā)現(xiàn)殘留顏色在鏡片凸面與凹面的曲率不同也使鍍膜的速度不同,因此在鏡片中yang部分呈綠色,而在邊緣部分則為淡紫紅色或其它顏色。 3)鍍減反射膜技術(shù) :有機(jī)鏡片鍍膜的難度要比玻璃鏡片高。玻璃材料能夠承受300 °C以上的高溫,而有機(jī)鏡片在超過100 °C時(shí)便會(huì)發(fā)黃,隨后很快分解。

【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之真空磁控濺射法】磁控濺射法的生產(chǎn)方式包括間歇式和連續(xù)式生產(chǎn)法,其中連續(xù)式生產(chǎn)法又可分為水平和垂直連續(xù)式生產(chǎn)兩種。其中,水平連續(xù)式生產(chǎn)法是玻璃基片在水平輸送過程中完成全部加工工藝的生產(chǎn)方式,以具有3個(gè)濺射室的雙端機(jī)。 磁控濺射鍍膜的優(yōu)點(diǎn)主要有:①對(duì)靶材的面積和形狀不作要求,且可實(shí)現(xiàn)大面積鍍膜,且膜層均勻性好、膜厚可控、濺射工藝重復(fù)性好;②可用的膜材廣fan,只要能做成靶材的任何材料都可實(shí)現(xiàn)濺射,因此可制備絕大多數(shù)材料的薄膜,包括合金和化合物等;③薄膜與基片的附著力強(qiáng),膜層純度高、致密;④成膜速度快,生產(chǎn)效率高。光學(xué)鍍膜機(jī)是什么樣的?

    【光學(xué)鍍膜機(jī)的清洗】設(shè)備使用一個(gè)星期后,因鍍料除鍍?cè)诠ぜ砻嫱猓嘁驘o定向性而工作室內(nèi)的襯板上鍍料,并越鍍?cè)胶?,該層膜厚因組織、繞疏松,吸收大量氣體而造成真空鍍膜設(shè)備抽氣越來越慢。此時(shí),應(yīng)對(duì)工作室及襯板進(jìn)行清洗,如不必要拆落來的部件,可用砂紙打磨干凈,襯板可浸泡在氫氟酸水溶液里,氫氟酸和水的比例看需要浸泡時(shí)間長(zhǎng)短以及不傷襯板為原則。注:襯板必須烘干水份才能安裝,烘干前,襯板的水分盡量抹干,工作架等部件用砂紙清潔后,需要把真空室的所有灰塵清理干凈,此可用吸塵器吸干凈灰塵。*后安裝襯板時(shí),真空室及襯板都需要用酒精控拭干凈。因使用電子qiang及離子源輔助鍍膜,可能會(huì)造成清潔困難,可使用噴沙等方法來清潔。 光學(xué)鍍膜機(jī)品牌有很多?河北光學(xué)鍍膜機(jī)怎么工作

光學(xué)鍍膜機(jī)可以制造出具有高精度的薄膜,可以用于制造高精度的光學(xué)器件。中國(guó)臺(tái)灣臥式光學(xué)鍍膜機(jī)

    【光學(xué)鍍膜之減反射膜技術(shù)】1)鍍膜前準(zhǔn)備:鏡片在接受鍍膜前必須進(jìn)行分子級(jí)的預(yù)清洗。在清洗槽中分別放置各種清洗液,并采用超聲波加強(qiáng)清洗效果,當(dāng)鏡片清洗完后,放進(jìn)真空艙內(nèi),在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。*后的清洗是在真空艙內(nèi),在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。*后的清洗是在真空艙內(nèi)鍍前進(jìn)行的,放置在真空艙內(nèi)的離子qiang將轟擊鏡片的表面(例如用氬離子),完成此道清洗工序后即進(jìn)行減反射膜的鍍膜。2)真空鍍膜:真空蒸發(fā)工藝能夠保證將純質(zhì)的鍍膜材料鍍于鏡片的表面,同時(shí)在蒸發(fā)過程中,對(duì)鍍膜材料的化學(xué)成分能嚴(yán)密控制。真空蒸發(fā)工藝能夠?qū)τ谀拥暮穸染_控制,精度達(dá)到。3)膜層牢固性:對(duì)眼鏡片而言,膜層的牢固性是至關(guān)重要的,是鏡片重要的質(zhì)量指標(biāo)。鏡片的質(zhì)量指標(biāo)包括鏡片抗磨損、抗文化館、抗溫差等。因此現(xiàn)在有了許多針對(duì)性的物理化學(xué)測(cè)試方法,在模擬戴鏡者的使用條件下,對(duì)鍍膜鏡片進(jìn)行膜層牢度質(zhì)量的測(cè)試。這些測(cè)試方法包括:鹽水試驗(yàn)、蒸汽試驗(yàn)、去離子水試驗(yàn)、鋼絲絨磨擦試驗(yàn)、溶解試驗(yàn)、黏著試驗(yàn)、溫差試驗(yàn)和潮濕度試驗(yàn)等等。 中國(guó)臺(tái)灣臥式光學(xué)鍍膜機(jī)

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