【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜內(nèi)色斑】： 色斑（也稱膜色亞克、燒蝕）是指鏡片上的膜色局部變異。有膜內(nèi)色斑和膜外色斑二種。 膜內(nèi)色斑改善對策： 1. 加快研磨（拋光）到鍍膜的周期，減少鏡片被污染服飾的幾率，注意：是鏡片的全部拋光面。 2. 拋光加工中，注意對另一已拋好光的面保護 3. 注意拋光加工中的工裝、夾具、加工方法，以免造成對鏡片表面局部腐蝕傷害 4. 拋光加工完成的光面，必須立即清潔干凈，不能有拋光粉或其他雜志附著干結。 5. 控制研磨拋光液的PH值 6. 鍍膜前，用拋光粉或碳酸鈣粉對鏡片拋光面復新。 7. 加強鍍前的離子轟擊 8. 對于可見光區(qū)減反膜，在滿足技術要求的前提下設計制作成單峰形，反射色呈淡綠色，掩蓋色斑。 9. 對于化學性能較好的鏡片，在清洗前先用退膜液或稀酸液侵泡去除腐蝕斑 10. 選擇合適的膜層匹配對色斑改善也有幫助 11. 提高基片鍍制時的溫度，加快水汽的徹底揮發(fā)。 12. 第yi層鍍上Al2O3膜層一般會有好的改善效果。離子真空鍍膜設備是什么？湖北真空鍍膜設備張以忱pdf

【真空鍍膜改善薄膜應力】： 1. 鍍后烘烤，Zui后一層膜鍍完后，烘烤不要馬上停止，延續(xù)10分鐘“回火”。讓膜層結構趨于穩(wěn)定。 2. 降溫時間適當延長，退火時效。減少由于真空室內(nèi)外溫差過大帶來的熱應力。 3. 對高反膜、濾光膜等在蒸鍍過程中，基片溫度不宜過高，高溫易產(chǎn)生熱應力。并且對氧化鈦、氧化鉭等膜料的光學穩(wěn)定性有負面影響。 4. 鍍膜過程離子輔助，減少應力。 5. 選擇合適的膜系匹配，第yi層膜料與基片匹配。 6. 適當減小蒸發(fā)速率。 7. 對氧化物膜料全部充氧反應鍍，根據(jù)不同膜料控制氧進氣量。 貴州真空鍍膜設備廠家電話真空鍍膜機使用時，需要注意哪些問題?

【真空鍍膜機常見故障】: 一、 當正在鍍膜室真空突然下降 1. 蒸發(fā)源水路膠圈損壞（更換膠圈） 2. 坩堝被打穿（更換坩堝） 3. 高壓電極密封處被擊穿（更換膠圈） 4. 工轉動密封處膠圈損壞（更換膠圈） 5. 預閥突然關閉可能是二位五通閥損壞（更換二位五通閥） 6. 高閥突然關閉可能是二位五通閥損壞（更換二位五通閥） 7. 機械泵停機可能是繼電器斷開（檢查繼電器是否工作正常） 8. 烘烤引入線電極密封處被擊穿（更換膠圈） 9. 擋板動密封處膠圈損壞（更換膠圈） 10. 玻璃觀察視鏡出現(xiàn)裂紋、炸裂（更換玻璃） 二、長期工作的鍍膜機抽真空的時間很長且達不到工作真空、恢復真空、極限真空、保真空： 1. 蒸發(fā)室有很多粉塵（應清洗） 2. 擴散泵很久未換油（應清洗換油） 3. 前級泵反壓強大太機械泵真空度太低（應清洗換油） 4. 各動密封膠圈損壞（更換膠圈） 5. 由于蒸發(fā)室長期溫度過高使其各密封膠圈老化（更換膠圈） 6. 蒸發(fā)室各引入水路密封處是否有膠圈損壞（更換膠圈） 7. 各引入座螺釘、螺母有無松動現(xiàn)象（重新壓緊） 8. 高低預閥是否密封可靠（注油）

【真空鍍膜設備之渦輪分子泵】： 渦輪分子泵：渦輪分子泵是利用高速旋轉的動葉輪將動量傳給氣體分子，使氣體產(chǎn)生定向流動而抽氣的真空泵。主要用于高真空或超高真空，屬于干泵，極限真空10&7~10&8Torr，烘烤后可到10&10Torr，抽速可從50L/S~3500L/S。分子泵是靠高速轉動的渦輪轉子攜帶氣體分子而獲得高真空、超高真空的一種機械真空泵。泵的轉速為10000轉/分到50000轉/分，這種泵的抽速范圍很寬，但不能直接對大氣排氣，需要配置前級泵。分子泵抽速與被抽氣體的種類有關，如對氫的抽速比對空氣的抽速大20%。 真空鍍膜設備主要用途？

【光學薄膜理論基礎】： 光學薄膜基本上是借由干涉作用而達到效果的。是在光學元件上或獨li的基板上鍍一層或多層的介電質膜或金屬膜或介電質膜或介電質膜與金屬膜組成的膜堆來改變廣播傳到的特性。因此波在薄膜中行進才會發(fā)生投射、反射、吸收、散射、相位偏移等變化。 光波經(jīng)過薄膜后在光譜上會起變化，因此這些變化會使得光學薄膜至少具有下列功能： &反射的提高或穿透的降低 &反射的降低或穿透的提高 &雙色、偏極光的分光作用 &光譜帶通或戒指等濾光作用 &輻射器之光通量調整 &光電資訊的儲存及輸入真空鍍膜設備技術教程。云南真空鍍膜設備哪里生產(chǎn)

真空鍍膜設備的主要應用。湖北真空鍍膜設備張以忱pdf

【離子鍍膜法之活性反應蒸鍍法】： 活性反應蒸鍍法(ABE):利用電子束加熱使膜材氣化；依靠正偏置探極和電子束間的低壓等離子體輝光放電或二次電子使充入的氧氣、氮氣、乙炔等反應氣體離化。這種方法的特點是：基板溫升小，要對基板加熱，蒸鍍效率高，能獲得三氧化鋁( AL2O3)、氮化鈦(TiN)、碳化鈦(TiC)等薄膜；可用于鍍機械制品、電子器件、裝飾品。 【離子鍍膜法之空心陰極離子鍍(HCD)】： 空心陰極離子鍍(HCD):利用等離子電子束加熱使膜材氣化；依靠低壓大電流的電子束碰撞使充入的氣體Ar或其它惰性氣體、反應氣體離化。這種方法的特點是：基板溫升小，要對基板加熱，離化率高，電子束斑較大，能鍍金屬膜、介質膜、化合物膜；可用于鍍裝飾鍍層、機械制品。湖北真空鍍膜設備張以忱pdf

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