【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之單片膜色不均勻】: 原因:主要是由于基片凹凸嚴重,與傘片曲率差異較大,基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大,形成的膜厚差異大。另外鏡片被鏡圈(碟片)邊緣部遮擋、鏡圈(碟片)臟在蒸鍍時污染鏡片等也會造成膜色差異問題。 改善對策:改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角 1. 條件許可,用行星夾具 2. 選用傘片平坦(R大)的機臺 3. 根據(jù)傘片孔位分布,基片形狀,制作專門的鋸齒形修正板。 4. 如果有可能,把蒸發(fā)源往真空室中間移動,也可改善單片的膜色均勻性。 5. 改善鏡圈(碟片),防止遮擋。 6. 注意旋轉傘架的相應部位對邊緣鏡片的部分遮擋 7. 清潔鏡圈(碟片) 8. 改善膜料蒸發(fā)狀況。 真空鍍膜設備怎么保養(yǎng)?江西真空鍍膜設備市場
【離子鍍的歷史】: 真空離子鍍膜技術是近幾十年才發(fā)展起來的一種新的鍍膜技術。在離子鍍技術興起的40多年來取得了巨大的進步,我國也有將近30多年的離子鍍研究進程。 【離子鍍的原理】: 蒸發(fā)物質的分子被電子撞擊后沉積在固體表面稱為離子鍍。蒸發(fā)源接陽極,工件接陰極,當通以三至五千伏高壓直流電以后,蒸發(fā)源與工件之間產生輝光放電。由于 真空罩內充有惰性氬氣,在放電電場作用下部分氬氣被電離,從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區(qū)。帶正電荷的氬離子受陰極負高壓的吸引,猛烈地轟擊工件表 面,致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出,從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后,接通蒸發(fā)源交流電源,蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā),進入輝光放電區(qū)并 被電離。帶正電荷的蒸發(fā)料離子,在陰極吸引下,隨同氬離子一同沖向工件,當拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時,則逐漸堆積形成一層牢固粘 附于工件表面的鍍層。 【離子鍍的優(yōu)缺點】: 優(yōu)點:膜層附著力好,膜層致密,具有繞度性能,能在形狀復雜的零件表面鍍膜。 缺點:離子鍍的應用范圍不廣;膜與基體間存在較寬的過渡界面。會有氣體分子吸附。 重慶塘下鎮(zhèn)真空鍍膜設備公司真空鍍膜機技術教程。
【為什么要在真空中鍍膜】: 1.鍍的過程中不會受空氣分子碰撞,有較大的動量到達待鍍件表面 2.防止氣體“污染”.如:鍍金屬膜時可以防止氧化 3.成膜過程不受氣體影響,致密牢固 4.真空(負壓)狀態(tài)下,鍍膜材料的熔點教常壓下低,易于融化蒸發(fā)(對于蒸發(fā)類型的鍍膜) 真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術,是表面工程技術領域的重要組成部分。真空鍍膜技術是利用物理、化學手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜,從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導電、導磁、絕緣和裝飾等許多優(yōu)于固體材料本身的優(yōu)越性能,達到提高產品質量、延長產品壽命、節(jié)約能源和獲得明顯技術經濟效益的作用。因此真空鍍膜技術被譽為Zui具發(fā)展前途的重要技術之一,并已在高技術產業(yè)化的發(fā)展中展現(xiàn)出誘人的市場前景。這種新興的真空鍍膜技術已在國民經濟各個領域得到應用,如航空、航天、電子、信息、機械、石油、化工、環(huán)保、Jun事等領域。
【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之膜外自霧】:現(xiàn)象:鍍膜完成后,表面有一些淡淡的白霧,用丙tong或混合液擦拭,會有越擦越嚴重的現(xiàn)象。用氧化鈰粉擦拭,可以擦掉或減輕??赡艹梢蛴校?.膜結構問題,外層膜的柱狀結構松散,外層膜太粗糙2.蒸發(fā)角過大,膜結構粗糙3.溫差:鏡片出罩時內外溫差過大4.潮氣:鏡片出罩后擺放環(huán)境的潮氣5.真空室內POLYCOLD解凍時水汽過重6.蒸鍍中充氧不完全,膜結構不均勻。7.膜與膜之間的應力改善思路:膜外白霧成因很多但各有特征,盡量對癥下藥。主要思路,一是把膜做的致密光滑些不容易吸附,二是改善環(huán)境減少吸附的對象。改善對策:1.改善膜系,外層加二氧化硅,使膜表面光滑,不易吸附。2.降低出罩時的鏡片溫度3.改善充氧(加大),改善膜結構4.適當降低蒸發(fā)速率,改善柱狀結構5.離子輔助鍍膜,改善膜結構6.加上Polycold解凍時的小充氣閥7.從蒸發(fā)源和夾具上想辦法改善蒸發(fā)角8.改善基片表面粗糙度9.注意Polycold解凍時的真空度。 真空鍍膜設備操作視頻。
【真空鍍膜設備撿漏方法】:檢漏方法很多,根據(jù)被檢件所處的狀態(tài)可分為充壓檢漏法、真空檢漏法及其它檢漏法。充壓檢漏法:在被檢件內部充入一定壓力的示漏物質,如果被檢件上有漏孔,示漏物質便從漏孔漏出,用一定的方法或儀器在被檢件外部檢測出從漏孔漏出的示漏物質,從而判定漏孔的存在、位置及漏率的大小,此即充壓檢漏法。真空檢漏法:被檢件和檢漏器的敏感元件處于真空狀態(tài),在被檢件的外部施加示漏物質,如果有漏孔,示漏物質就會通過漏孔進入被檢件和敏感元件的空間,由敏感元件檢測出示漏物質,從而可以判定漏孔的存在、位置利漏率的大小,這就是真空檢漏法。其它檢漏法:被檢件既不充壓也不抽真空,或其外部受壓等方法歸入其它檢漏法。背壓法就是其中主要方法之一。所謂“背壓檢漏法”是利用背壓室先將示漏氣體由漏孔充入被檢件,然后在真空狀態(tài)下使示漏氣體再從被檢件中漏出.以某種方法(或檢漏儀)檢測漏出的示漏氣體,判定被檢件的總漏率的方法。 廣東真空鍍膜機廠家。廣東馳誠真空鍍膜設備趙先生
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【真空蒸鍍的歷史】:1857年Michael FaradayZui早提出基本原理,而后、1930年代由于油擴散式真空泵實用化、蒸鍍主要用于制作鏡片防反射膜。第二次世界大戰(zhàn)時,其他的光學機器對材料的需求提高,真空蒸鍍也因此快速發(fā)展。 【真空蒸鍍的原理】:在真空狀態(tài)下,加熱蒸發(fā)容器中的靶材,使其原子或分子逸出,沉積在目標物體表面,形成固態(tài)薄膜。依蒸鍍材料、基板的種類可分為:抵抗加熱、電子束、高周波 誘導、雷射等加熱方式。蒸鍍材料有鋁、亞鉛、金、銀、白金、鎳等金屬材料與可產生光學特性薄膜的材料,主要有使用SiO2、TiO2、ZrO2、MgF2 等氧化物與氟化物。蒸鍍除金屬外,樹脂與玻璃也可以使用、近年來連紙也變成可蒸鍍。 【蒸發(fā)鍍膜的優(yōu)缺點】: 優(yōu)點:設備簡單、容易操作;成膜的速率快,效率高。 缺點:薄膜的厚度均勻性不易控制,蒸發(fā)容器有污染的隱患,工藝重復性不好,附著力不高。江西真空鍍膜設備市場
成都國泰真空設備有限公司是一家集研發(fā)、制造、銷售為一體的****,公司位于成都海峽兩岸科技產業(yè)開發(fā)園科林西路618號,成立于2013-06-26。公司秉承著技術研發(fā)、客戶優(yōu)先的原則,為國內光學鍍膜設備,真空鍍膜設備,光學真空鍍膜機,紅外鍍膜設備的產品發(fā)展添磚加瓦。主要經營光學鍍膜設備,真空鍍膜設備,光學真空鍍膜機,紅外鍍膜設備等產品服務,現(xiàn)在公司擁有一支經驗豐富的研發(fā)設計團隊,對于產品研發(fā)和生產要求極為嚴格,完全按照行業(yè)標準研發(fā)和生產。我們以客戶的需求為基礎,在產品設計和研發(fā)上面苦下功夫,一份份的不懈努力和付出,打造了錦成國泰產品。我們從用戶角度,對每一款產品進行多方面分析,對每一款產品都精心設計、精心制作和嚴格檢驗。成都國泰真空設備有限公司以市場為導向,以創(chuàng)新為動力。不斷提升管理水平及光學鍍膜設備,真空鍍膜設備,光學真空鍍膜機,紅外鍍膜設備產品質量。本公司以良好的商品品質、誠信的經營理念期待您的到來!