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遼寧光學(xué)鍍膜射頻離子源多少錢

來源: 發(fā)布時間:2023-08-22

【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場,在此區(qū)電子密度高,進(jìn)而提高離子密度,使得濺鍍率提高(一個數(shù)量級),濺射速度可達(dá)0.1—1um/min膜層附著力較蒸鍍佳,是目前實(shí)用的鍍膜技術(shù)之一。其它有偏壓濺射、反應(yīng)濺射、離子束濺射等鍍膜技術(shù)濺鍍機(jī)設(shè)備與工藝濺鍍機(jī)由真空室,排氣系統(tǒng),濺射源和控制系統(tǒng)組成。濺射源又分為電源和濺射qiang(sputtergun)。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型,其中平面型分為矩型和圓型,靶材料利用率30-40%,圓柱型靶材料利用率>50%濺射電源分為:直流(DC)、射頻(RF)、脈沖(pulse),直流:800-1000V(Max)導(dǎo)體用,須可災(zāi)弧。射頻:13.56MHZ,非導(dǎo)體用。脈沖:泛用,新發(fā)展出廣東真空鍍膜機(jī)廠家。遼寧光學(xué)鍍膜射頻離子源多少錢

【真空鍍膜機(jī)詳細(xì)資料】系統(tǒng)概述真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。常用于對半導(dǎo)體、光伏、電子、精密光學(xué)等行業(yè)的納米級表面處理。系統(tǒng)原理通過電子槍發(fā)射高壓電子轟擊坩堝中的待鍍靶材,使其在高真空下蒸發(fā)并沉積在被鍍基片上以獲得鍍膜。系統(tǒng)配置*自動化控制器:e-ControlPLC,是控制系統(tǒng)的硬件平臺。人機(jī)界面硬件:TPC1503工業(yè)級15寸觸摸式平板電腦,穩(wěn)定可靠。人機(jī)界面軟件:NETSCADA組態(tài)軟件開發(fā)平臺,提供真空鍍膜機(jī)的控制和監(jiān)視。北京大直徑射頻離子源制造生產(chǎn)廠家射頻離子源可用于航空航天領(lǐng)域,如推進(jìn)系統(tǒng)、導(dǎo)航系統(tǒng)等。

    本申請中涉及的一種射頻離子源離子束束徑控制裝置具體包括一真空腔體5、控制器6以及設(shè)于真空腔體5中的離子束發(fā)生器7、束徑約束器0和驅(qū)動器8,該束徑約束器0即采用葉片2進(jìn)行光闌3大小調(diào)整的束徑約束器0,該束徑約束器0設(shè)置在離子束發(fā)生器7前端,驅(qū)動器8與束徑約束器0的驅(qū)動機(jī)構(gòu)相連以控制驅(qū)動機(jī)構(gòu)動作,控制器6分別與束徑約束器0及驅(qū)動器8相連。本實(shí)施例中,真空腔體5的真空度×10-3pa以上,驅(qū)動器8為微型電機(jī),離子束發(fā)生器7包括離子束發(fā)生器外壁71以及位于離子束發(fā)生器外壁71內(nèi)并位于離子束前端的平面柵網(wǎng)72,控制器6為計(jì)算機(jī),在計(jì)算機(jī)中編寫matlab控制代碼,通過代碼程序執(zhí)行,微型電機(jī)啟動,并控制驅(qū)動機(jī)構(gòu)動作,也即對伺服電機(jī)45進(jìn)行控制,伺服電機(jī)45使用絕對式編碼器進(jìn)行定位,伺服電機(jī)45驅(qū)動齒輪44轉(zhuǎn)動并通過齒圈43帶動滑環(huán)41旋轉(zhuǎn),滑環(huán)41旋轉(zhuǎn)時,通過導(dǎo)槽42帶動葉片2繞固定軸23轉(zhuǎn)動,從而使葉片2的尾端22相交組成的光闌3的孔徑大小發(fā)生變化,也即實(shí)現(xiàn)離子束束徑的調(diào)節(jié),**后將光闌3的孔徑大小信息反饋給計(jì)算機(jī)。束徑約束器0采用附圖中的設(shè)置方向時,滑環(huán)41順時針旋轉(zhuǎn)時,光闌3孔徑減小,滑環(huán)41逆時針旋轉(zhuǎn)時,光闌3孔徑變大。

【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之紫外線輻照清洗】利用紫外輻照來分解表面上的碳?xì)浠衔?。例如,在空氣中照?5h就可產(chǎn)生清潔的玻璃表面。如果把適當(dāng)預(yù)清洗的表面放在一個產(chǎn)生臭氧的紫外線源中.要不了幾分鐘就可以形成清潔表面(工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機(jī)理是:在紫外線照射下,污物分子受激并離解,而臭氧的生成和存在產(chǎn)生高活性的原子態(tài)氧。受激的污物分子和由污物離解產(chǎn)生的自由基與原子態(tài)氧作用.形成較簡單易揮發(fā)分子.如H203、CO2和N2.其反應(yīng)速率隨溫度的增加而增加。射頻離子源可用于表面處理、材料改性、離子注入、等離子體刻蝕等應(yīng)用。

直流電源電壓紋波做了二次濾波處理,高壓輸出的紋波小于50mV,離子源束流的穩(wěn)定性和重復(fù)性較好,鍍膜的產(chǎn)品的折射率更穩(wěn)定。國泰真空射頻離子源采用通用的LC高頻諧振原理,使用可調(diào)電容快速調(diào)諧,使整個負(fù)載阻抗匹配到50?,從而使功率輸出比較大,電離化效率比較高,調(diào)諧馬達(dá)采用步進(jìn)電機(jī)轉(zhuǎn)位+編碼器快速定位,并帶鎖止和記憶功能,以滿足負(fù)載在不同的真空環(huán)境、不同國泰射頻離子源采用通用的LC高頻諧振原理,使用可調(diào)電容快速調(diào)諧,使整個負(fù)載阻抗匹配到50?,從而使功率輸出比較大,電離化效率比較高,調(diào)諧馬達(dá)采用步進(jìn)電機(jī)轉(zhuǎn)位+編碼器快速定位,并帶鎖止和記憶功能,以滿足負(fù)載在不同的真空環(huán)境、不同阻抗快速點(diǎn)火。真空鍍膜機(jī)真空度多少?遼寧光學(xué)鍍膜射頻離子源多少錢

真空鍍膜機(jī)大概多少錢一臺?遼寧光學(xué)鍍膜射頻離子源多少錢

    所述葉片遠(yuǎn)離底座的一側(cè)面上設(shè)有相較固定軸位置靠近葉片尾端的導(dǎo)柱,所述滑環(huán)上設(shè)有可供導(dǎo)柱伸入其中滑動以在滑環(huán)旋轉(zhuǎn)時帶動葉片的尾端繞葉片首端轉(zhuǎn)動的導(dǎo)槽,所述導(dǎo)槽呈弧形設(shè)置。進(jìn)一步的,所述滑環(huán)的外周設(shè)有齒圈,所述驅(qū)動組件包括能與齒圈嚙合的齒輪及驅(qū)動齒輪轉(zhuǎn)動的伺服電機(jī)。一種射頻離子源離子束束徑控制裝置,其特征在于:包括一真空腔體、控制器以及設(shè)于真空腔體中的離子束發(fā)生器、束徑約束器和驅(qū)動器,所述束徑約束器設(shè)置在離子束發(fā)生器前端,所述驅(qū)動器與束徑約束器的驅(qū)動機(jī)構(gòu)相連以控制驅(qū)動機(jī)構(gòu)動作,所述控制器分別與束徑約束器及驅(qū)動器相連。進(jìn)一步的,所述離子束發(fā)生器包括離子束發(fā)生器外壁以及位于離子束發(fā)生器外壁內(nèi)并位于離子束前端的平面柵網(wǎng)。進(jìn)一步的,所述驅(qū)動器為微型電機(jī)。一種射頻離子源離子束束徑控制方法,其特征在于:s1,對真空腔體進(jìn)行抽真空;s2,打開離子束發(fā)生器,調(diào)整電壓電流參數(shù);s3,在控制器的輸入界面中輸入離子束束徑值;s4,點(diǎn)擊控制器的執(zhí)行按鈕,控制器向驅(qū)動器發(fā)出指令,驅(qū)動器控制驅(qū)動機(jī)構(gòu)動作;s5,驅(qū)動組件驅(qū)動滑環(huán)轉(zhuǎn)動并帶動導(dǎo)柱在導(dǎo)槽中滑動,葉片繞固定軸轉(zhuǎn)動使光闌大小與輸入的離子束束徑值一致。與現(xiàn)有技術(shù)相比。遼寧光學(xué)鍍膜射頻離子源多少錢

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