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浙江AR/IR鍍膜空心陰極霍爾離子源制造生產(chǎn)

來源: 發(fā)布時間:2023-08-25

【真空鍍膜機(jī)檢漏之氣壓檢漏】氣壓檢漏被檢零部件內(nèi)腔充以氣體(一般為空氣),充氣壓力的高低視零部件的強(qiáng)度而定,一般為(2~4)×105帕。充壓后的零部件如發(fā)出明顯的嘶嘶聲,音響源處就是漏孔位置。用這種方法可檢較小漏率為5帕·升/秒的漏孔。如不能用聲音直接察覺漏孔,則用皂液涂于零部件可疑表面處,有氣泡出現(xiàn)處便是漏孔位置。用這種方法較小可檢漏率為5×10-3帕·升/秒的漏孔。此外,還可將充氣的零部件浸在清凈的水槽中,氣泡形成處便是漏孔位置。用水槽顯示漏孔,方便可靠,并能同時全部顯示出漏孔位置。如氣泡小、成泡速度均勻、氣泡持續(xù)時間長,則為×10-2~13帕·升/秒漏率的漏孔。如氣泡da、成泡持續(xù)時間短,則為13~103帕·升/秒漏率的漏孔。空心陰極霍爾離子源采用無陰極電離技術(shù),能夠提供穩(wěn)定的離子流。浙江AR/IR鍍膜空心陰極霍爾離子源制造生產(chǎn)

【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子轟擊材料表面,使其濺射出進(jìn)入氣相,可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數(shù)稱為濺射產(chǎn)額(Yield)產(chǎn)額越高濺射速度越快,以Cu,Au,Ag等高,Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/離子。離子可以直流輝光放電(glowdischarge)產(chǎn)生,在10-1—10Pa真空度,在兩極間加高壓產(chǎn)生放電,正離子會轟擊負(fù)電之靶材而濺射也靶材,而鍍至被鍍物上。正常輝光放電(glowdischarge)的電流密度與陰極物質(zhì)與形狀、氣體種類壓力等有關(guān)。濺鍍時應(yīng)盡可能維持其穩(wěn)定。任何材料皆可濺射鍍膜,即使高熔點(diǎn)材料也容易濺鍍,但對非導(dǎo)體靶材須以射頻(RF)或脈沖(pulse)濺射;且因?qū)щ娦暂^差,濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達(dá)10W/cm2,非金屬<5W/cm2。重慶空心陰極霍爾離子源源頭實(shí)力廠家真空鍍膜機(jī)的相關(guān)資料。

【真空鍍膜機(jī)操作工藝流程】首先開水、電、氣→總電源→開維持泵→開擴(kuò)散泵加熱→開粗抽泵→開預(yù)抽閥→關(guān)預(yù)抽閥→開粗抽閥→開羅茨泵→如有離子轟擊,開轟擊30秒,關(guān)轟擊→開真空計(jì)→當(dāng)真空到,關(guān)粗抽閥→開前置閥→開精抽閥,當(dāng)真空達(dá)到7x10-3pa,開轉(zhuǎn)架→開始鍍膜操作→鍍膜完畢后,關(guān)閉真空計(jì)、離子源→關(guān)精抽閥,前置閥→關(guān)羅茨泵→開抽氣閥,取件→上料,反復(fù)開始操作。特別注意:1.設(shè)備停用時,鍍膜室要保持真空狀態(tài),減少內(nèi)表面氣體的吸附,防止氧化。2.冷卻水通道場下才能對擴(kuò)散泵進(jìn)行加熱,未經(jīng)充分冷卻的泵不得與da氣接觸,防止氧化。3.要保證機(jī)器內(nèi)擴(kuò)散泵和機(jī)械泵的油定期檢查和更換。4.設(shè)備運(yùn)行中遇有停電或其它事故發(fā)生,須先停擴(kuò)散泵,關(guān)精抽閥,前置閥和真空計(jì)。5.產(chǎn)品做完下班后,關(guān)了擴(kuò)散泵后須待溫度降低至60℃后才能關(guān)維持泵。

【真空鍍膜機(jī)沖洗工藝之反應(yīng)氣體沖洗】這種方法特別適用于da型超高不銹鋼真空系統(tǒng)的內(nèi)部洗(去除碳?xì)浠衔镂廴?。通常對于某些da型超高真空系統(tǒng)的真空室和真空元件,為了獲得原子態(tài)的清潔表面,消除其表面污染的標(biāo)準(zhǔn)方法是化學(xué)清洗,真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空系統(tǒng)等方法。以上的清洗和除氣方法常用于真空系統(tǒng)安裝前及裝配期間。在真空系統(tǒng)安裝后(或系統(tǒng)運(yùn)行后),由于真空系統(tǒng)內(nèi)的各種零部件已經(jīng)被固定,這時對它們進(jìn)行除氣處理就很困難,一旦系統(tǒng)受到(偶然)污染(主要是da原子數(shù)的分子如碳?xì)浠衔锏奈廴?,通常要拆卸后重新處理再安裝.而用反應(yīng)氣體工藝,可以進(jìn)行原位在線除氣處理.有效地除去不銹鋼真空室內(nèi)的碳?xì)浠衔锏奈廴?其清洗機(jī)理:在系統(tǒng)中引述氧化性氣體(O2、N0)和還原性氣體(H2、NH3)對金屬表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)清洗,消除污染,以便獲得原子態(tài)的清潔金屬表面。表面氧化/還原的速率取決于污染的情況及金屬表面的材質(zhì),表面反應(yīng)速率的da小通過調(diào)整反應(yīng)氣體的壓力和溫度來控制。對于每一種基材而言,精確的參數(shù)要通過實(shí)驗(yàn)來確定.對于不同的結(jié)晶取向,這些參數(shù)是不同的。真空鍍膜機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域。

【真空鍍膜的膜層結(jié)構(gòu)分布】基材:ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等樹脂類均可成型真空電鍍,要求底材為純原料,電鍍級別更佳,不可加再生材;底漆:UV底漆,對基材表面做預(yù)處理,為膜層的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情況可酌情加厚;膜層:靶材蒸發(fā)的結(jié)果,VM膜層可導(dǎo)電,NCVM鍍層不導(dǎo)電,且抗干擾性效果很好,膜層厚度0.3um以下。面漆:面漆利用三基色原理可與色漿搭配出各類顏色,同時對真空膜層起保護(hù)作用,再加上UV、PU的表面裝飾,效果更漂亮,厚度一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚。真空鍍膜機(jī)日常怎么維護(hù)?河北AR/IR鍍膜空心陰極霍爾離子源自主研發(fā)設(shè)計(jì)生產(chǎn)

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公司位于成都海峽兩岸科技產(chǎn)業(yè)開發(fā)園科林西路618號,成立于2013-06-26。是一家經(jīng)營光學(xué)鍍膜設(shè)備,真空鍍膜設(shè)備,光學(xué)真空鍍膜機(jī),紅外鍍膜設(shè)備的公司,擁有完整、科學(xué)的質(zhì)量管理體系。 公司生產(chǎn)型具有在機(jī)械及行業(yè)設(shè)備行業(yè)從業(yè)十幾年的經(jīng)驗(yàn)、技術(shù)及市場優(yōu)勢,現(xiàn)產(chǎn)品光學(xué)鍍膜設(shè)備,真空鍍膜設(shè)備,光學(xué)真空鍍膜機(jī),紅外鍍膜設(shè)備等。我們產(chǎn)品應(yīng)用與多行業(yè)中,為了確保產(chǎn)品質(zhì)量,我公司建立了質(zhì)量管理體系,確保產(chǎn)品符合市場標(biāo)準(zhǔn)。公司對光學(xué)鍍膜設(shè)備,真空鍍膜設(shè)備,光學(xué)真空鍍膜機(jī),紅外鍍膜設(shè)備產(chǎn)品在生產(chǎn)過程中進(jìn)行質(zhì)量控制并持續(xù)有效進(jìn)行至今,公司產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定可靠,服務(wù)周到熱情,一貫奉行以產(chǎn)品質(zhì)量、誠信服務(wù)為理念,多年來贏得了廣大客戶的一致好評。公司擁有技術(shù)售后服務(wù)團(tuán)隊(duì)和完善的售后服務(wù)體系,我們?yōu)橛脩艚⒘送晟频目蛻舴?wù)檔案,并愿隨時根據(jù)客戶對光學(xué)鍍膜設(shè)備,真空鍍膜設(shè)備,光學(xué)真空鍍膜機(jī),紅外鍍膜設(shè)備提出的新的需求,提供全套解決方案。浙江AR/IR鍍膜空心陰極霍爾離子源制造生產(chǎn)

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