【射頻離子源簡(jiǎn)介】：國(guó)泰真空射頻離子源GTRF-17和GTRF-23，主要用于IR-Cut、濾光片等精密光學(xué)鍍膜的離子束輔助沉積和離子束清洗等，是公司技術(shù)團(tuán)隊(duì)全自主研發(fā)近3年時(shí)間研發(fā)出的國(guó)產(chǎn)射頻離子源，屬于國(guó)內(nèi)大直徑射頻離子源。打破了國(guó)外制造商長(zhǎng)期對(duì)國(guó)產(chǎn)鍍膜行業(yè)的技術(shù)封鎖，同時(shí)也激勵(lì)了國(guó)內(nèi)的同行制造業(yè)。離子源設(shè)備能促進(jìn)光電產(chǎn)業(yè)升級(jí)，在國(guó)內(nèi)也是一項(xiàng)“卡脖子”技術(shù)。具有能量高、熱輻射低、工作時(shí)間長(zhǎng)、對(duì)膜層污染小、能量分布均勻性好、適應(yīng)多種工作氣體的特點(diǎn)。真空鍍膜機(jī)真空度多少？湖南離子束清洗射頻離子源自主研發(fā)設(shè)計(jì)生產(chǎn)

【真空鍍膜機(jī)鍍塑料件時(shí)抽真空時(shí)間過(guò)長(zhǎng)是什么原因？】(1)真空室有漏氣現(xiàn)象：da家都知道，真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)是的基本條件是工件在真空狀態(tài)下才能進(jìn)行鍍膜加工的，若真空室有漏氣現(xiàn)象而沒(méi)有經(jīng)過(guò)檢漏找出漏氣位置，則真空鍍很長(zhǎng)時(shí)間都不能抽得上來(lái)的；(2)即使真空室沒(méi)有漏氣，因?yàn)樗芰袭a(chǎn)品的放氣量da，所以抽真空，特別是高真空很難達(dá)到。真空室內(nèi)太臟放氣，而且由于塑料產(chǎn)品的放氣，造成真空室內(nèi)鍍膜氣體的不純，有雜氣的存在，造成鍍膜產(chǎn)品的顏色發(fā)暗，發(fā)黃，發(fā)黑等。（3）也許是真空機(jī)組的抽氣能力不夠了，油被污染或氧化了。（4）真空室有漏水。（5）抽空管道有漏氣。湖南離子束清洗射頻離子源自主研發(fā)設(shè)計(jì)生產(chǎn)真空鍍膜機(jī)日常怎么維護(hù)？

【真空鍍膜的膜層結(jié)構(gòu)分布】基材：ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等樹(shù)脂類(lèi)均可成型真空電鍍,要求底材為純?cè)?電鍍級(jí)別更佳,不可加再生材;底漆：UV底漆,對(duì)基材表面做預(yù)處理,為膜層的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情況可酌情加厚;膜層：靶材蒸發(fā)的結(jié)果，VM膜層可導(dǎo)電，NCVM鍍層不導(dǎo)電，且抗干擾性效果很好,膜層厚度0.3um以下。面漆：面漆利用三基色原理可與色漿搭配出各類(lèi)顏色,同時(shí)對(duì)真空膜層起保護(hù)作用,再加上UV、PU的表面裝飾,效果更漂亮,厚度一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚。

【真空鍍膜之電解拋光】電拋光是一種電化學(xué)過(guò)程，其中浸沒(méi)在電解質(zhì)中的工件的原子轉(zhuǎn)化成離子，并由于電流的通過(guò)而從表面移除，從而達(dá)到工件表面除去細(xì)微毛刺和光亮度增da的效果。適用材料：多數(shù)金屬都可以被電解拋光，其中常用于不銹鋼的表面拋光（尤其適用于奧氏體核級(jí)不銹鋼）。2.不同材料不可同時(shí)進(jìn)行電解拋光，甚至不可以放在同一個(gè)電解溶劑里。工藝成本：電解拋光整個(gè)過(guò)程基本由自動(dòng)化完成，所以人工費(fèi)用很低。環(huán)境影響：電解拋光采用危害較小的化學(xué)物質(zhì)，整個(gè)過(guò)程需要少量的水且操作簡(jiǎn)單，另外可以延長(zhǎng)不銹鋼的屬性，起到讓不銹鋼延緩腐蝕的作用。真空鍍膜機(jī)機(jī)組是怎樣的？

    且多個(gè)葉片2的尾端22伸入中空結(jié)構(gòu)11圍合的區(qū)域中以形成可供離子束穿過(guò)的光闌3，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)可驅(qū)動(dòng)葉片2的尾端22相對(duì)葉片排布形成的圓周的中心運(yùn)動(dòng)，從而使得葉片2圍合形成的光闌3的大小得以調(diào)節(jié)，即對(duì)離子束的束徑進(jìn)行調(diào)節(jié)。作為一種推薦實(shí)施例，葉片2的首端21與底座1的對(duì)應(yīng)端面轉(zhuǎn)動(dòng)連接，葉片2的尾端22沿葉片2排布形成的圓周周向依次疊放并斜向伸入中空結(jié)構(gòu)11所在區(qū)域以形成光闌3，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括滑環(huán)41及驅(qū)動(dòng)滑環(huán)41繞滑環(huán)41中心旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)組件，滑環(huán)41位于多個(gè)葉片2的遠(yuǎn)離底座1的一側(cè)并與多個(gè)葉片2排布形成的圓周同軸設(shè)置，滑環(huán)41旋轉(zhuǎn)時(shí)帶動(dòng)葉片2的尾端22繞葉片2的首端21轉(zhuǎn)動(dòng)以實(shí)現(xiàn)光闌3大小調(diào)節(jié)，也即滑環(huán)41旋轉(zhuǎn)時(shí)，由于葉片2的首端21與底座1一端端面轉(zhuǎn)動(dòng)連接，葉片2的首端21相對(duì)葉片2圍合形成的圓周的中心距離不會(huì)變化，而葉片2的尾端22則會(huì)相對(duì)于葉片2排布形成的圓周的中心進(jìn)行運(yùn)動(dòng)，從而使葉片2的尾端22相交圍合形成的光闌3大小變化。并且為了使光闌3的形狀更趨近于圓形，葉片2具有朝向葉片2排布形成的圓周的圓弧方向同向彎曲的圓弧形狀，同時(shí)，當(dāng)葉片2的數(shù)量越多時(shí)，光闌3的形狀更趨近于圓形。具體而言，底座1的對(duì)應(yīng)端的端面上設(shè)有多個(gè)呈圓周布置的定位孔12。真空鍍膜機(jī)的產(chǎn)業(yè)集群。湖南離子束清洗射頻離子源自主研發(fā)設(shè)計(jì)生產(chǎn)

真空鍍膜機(jī)的工作原理。湖南離子束清洗射頻離子源自主研發(fā)設(shè)計(jì)生產(chǎn)

【射頻離子源工作原理】：氣體通過(guò)一個(gè)專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)的氣體絕緣器進(jìn)入石英放電室，13.56mhz的射頻功率通過(guò)電感耦合進(jìn)入放電室離化氣體。在產(chǎn)生plasma后、用柵網(wǎng)構(gòu)成的加速系統(tǒng)將離子引出。初，離子被帶正電的Screen Grid集中、接下來(lái)加負(fù)電壓的加速柵網(wǎng)將離子束引出。被引出的離子形成離子束，向靶標(biāo)輻射。離子所帶有的能量是由Screen grid的正電壓和Accelerator grid所加的負(fù)電壓大小所決定。離子源設(shè)備能促進(jìn)光電產(chǎn)業(yè)升級(jí)，在國(guó)內(nèi)也是一項(xiàng)“卡脖子”技術(shù)。具有能量高、熱輻射低、工作時(shí)間長(zhǎng)、對(duì)膜層污染小、能量分布均勻性好、適應(yīng)多種工作氣體的特點(diǎn)。湖南離子束清洗射頻離子源自主研發(fā)設(shè)計(jì)生產(chǎn)