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湖南微型真空鍍膜設(shè)備

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-10-13

【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之膜色差異】:膜色差異有兩種(不含色斑),一種時(shí)整罩上、中、下膜色不一致,即分光測(cè)試曲線有差異;二是單片膜色不一致。改善對(duì)策:1.調(diào)整修正版,盡量考慮高低折射率膜料的平衡兼容,如果有兩個(gè)蒸發(fā)源,可能的條件下,獨(dú)li使用各自的修正板,避免干擾。2.條件許可,采用行星夾具。3.傘片整形。4.加強(qiáng)傘片管理。5.改善膜料狀況6.能夠自動(dòng)預(yù)熔的膜料,盡量自動(dòng)預(yù)熔注:修正板對(duì)物理膜厚的修正有效,但對(duì)折射率的修正是力不從心的,所以完全靠修正板解決分光均勻性,是很困難的。如果一個(gè)修正板對(duì)應(yīng)二把電子搶(蒸發(fā)源)、以及多種膜料,就會(huì)有較大困難。真空鍍膜設(shè)備廠家有哪些?湖南微型真空鍍膜設(shè)備

【真空鍍膜真空蒸發(fā)鍍膜原理】:真空蒸發(fā)法的原理是:在真空條件下,用蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)材料,使之蒸發(fā)或升華進(jìn)入氣相,氣相粒子流直接射向基片上沉積或結(jié)晶形成固態(tài)薄膜;由于環(huán)境是真空,因此,無(wú)論是金屬還是非金屬,在這種情況下蒸發(fā)要比常壓下容易得多。真空蒸發(fā)鍍膜是發(fā)展較早的鍍膜技術(shù),其特點(diǎn)是:設(shè)備相對(duì)簡(jiǎn)單,沉積速率快,膜層純度高,制膜材料及被鍍件材料范圍很廣,鍍膜過(guò)程可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)化,應(yīng)用相當(dāng)guang泛。按蒸發(fā)源的不同,主要分為:電阻加熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、電弧蒸發(fā)和激光蒸發(fā)等。中國(guó)臺(tái)灣做真空鍍膜設(shè)備真空鍍膜機(jī)使用時(shí),需要注意哪些問(wèn)題?

【離子鍍膜法之射頻離子鍍】: 射頻離子鍍(RFIP):利用電阻或電子束加熱使膜材氣化;依靠射頻等離子體放電使充入的真空Ar及其它惰性氣體、反應(yīng)氣體氧氣、氮?dú)?、乙炔等離化。這種方法的特點(diǎn)是:基板溫升小,不純氣體少,成膜好,適合鍍化合物膜,但匹配較困難??蓱?yīng)用于鍍光學(xué)器件、半導(dǎo)體器件、裝飾品、汽車零件等。射頻離子鍍膜設(shè)備對(duì)周遭環(huán)境沒(méi)有不利影響,符合現(xiàn)代綠色制造的工業(yè)發(fā)展方向。目前,該類型設(shè)備已經(jīng)guang泛用在硬質(zhì)合金立銑刀、可轉(zhuǎn)位銑刀、焊接工具、階梯鉆、鉆頭、鉸刀、油孔鉆、車刀、異型刀具、絲錐等工具的鍍膜處理上。 此外,離子鍍法還包括有低壓等離子體離子鍍,感應(yīng)離子加熱鍍,集團(tuán)離子束鍍和多弧離子鍍等多種方法。

【光譜分光不良的補(bǔ)救(補(bǔ)色)之其他情況】:分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經(jīng)測(cè)試分光不良,此類不良主要按六節(jié)所述方法處理,一般減反膜難以補(bǔ)救。但對(duì)于高反膜、帶通濾光膜等可以通過(guò)加層的方法補(bǔ)救。二是鍍制中途中斷(包括發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過(guò)后續(xù)努力補(bǔ)救。后續(xù)方法正確,補(bǔ)救成功率比較高。中斷的原因形式之其他情況:對(duì)于用錯(cuò)程序,錯(cuò)誤操作(預(yù)熔未關(guān)閉擋板等)人為中斷需要補(bǔ)救的;以及反光膜、濾光膜鍍后需要補(bǔ)救的情況處理方案:模擬:將實(shí)測(cè)分光數(shù)據(jù)輸入計(jì)算機(jī)膜系設(shè)計(jì)程序的優(yōu)化目標(biāo)值。通過(guò)計(jì)算機(jī)模擬(一般是Zui后一層的膜厚確認(rèn)),找到與實(shí)現(xiàn)測(cè)試值結(jié)果相應(yīng)的膜系數(shù)據(jù)。優(yōu)化:根據(jù)模擬得到的膜系數(shù)據(jù),輸入產(chǎn)品要求的優(yōu)化目標(biāo)值,通過(guò)加層、優(yōu)化后續(xù)膜層的方法,重新優(yōu)化設(shè)計(jì)一個(gè)補(bǔ)救膜系。試鍍:確認(rèn)、完善補(bǔ)救膜系效果補(bǔ)救鍍:完成補(bǔ)救工作真空鍍膜設(shè)備詳細(xì)鍍膜方法。

【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之灰點(diǎn)臟】: 現(xiàn)象:鏡片膜層表面或內(nèi)部有一些電子(不是膜料點(diǎn)),有些可擦除,有些不能擦除。并且會(huì)有點(diǎn)狀脫膜產(chǎn)生。 原因: 1. 真空室臟 2. 鏡圈或碟片臟 3. 鏡片上傘時(shí)就有灰塵點(diǎn),上傘時(shí)沒(méi)有檢查挑選。 4. 鍍制完成后的環(huán)境污染是膜外灰點(diǎn)的主要成因,特別是當(dāng)鏡片熱的時(shí)候,更容易吸附灰塵,而且難以擦除。 改善思路:杜絕灰塵源 1. 工作環(huán)境改造成潔凈車間,嚴(yán)格按潔凈車間規(guī)范實(shí)施。 2. 盡可能做好環(huán)境衛(wèi)生。盡量利用潔凈工作臺(tái)。 3. 真空室周期打掃,保持清潔。 真空鍍膜設(shè)備常見(jiàn)故障及解決方法。中國(guó)臺(tái)灣做真空鍍膜設(shè)備

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【真空鍍膜設(shè)備之真空的測(cè)量】: 真空計(jì): A、熱偶規(guī)、皮拉尼規(guī)、對(duì)流規(guī): 用來(lái)測(cè)粗真空的真空計(jì),從大氣到1E&5Torr,精度一般在10%,皮拉尼規(guī)精度高的可到5%, 反應(yīng)較慢,受溫度變化的影響較大。 B、離子規(guī): 用來(lái)測(cè)高真空或超高真空的真空計(jì),熱燈絲的離子規(guī)測(cè)量范圍一般從1E&4到1E&9Torr,特殊的有些甚至可以低到&10甚至&11Torr,精度在10%~20%,燈絲在工作時(shí)遇到大氣會(huì)燒毀;冷陰極的離子規(guī)一般可以測(cè)到1E&11Torr,精度在20%~50%,特別是超高真空下測(cè)量精度很差,需要高壓電源,探頭內(nèi)有磁鐵,使用時(shí)不能用于某些無(wú)磁的場(chǎng)合。 C、電容式壓力計(jì): 探頭Zui大壓力從25000Torr到0.1Torr,動(dòng)態(tài)范圍大約104范圍,比如,1Torr量程的Zui低是5E&4Torr,通常精度在讀數(shù)的0.25%,可以高到0.15%。 D、寬量程真空計(jì): 皮拉尼規(guī)和熱燈絲離子規(guī)的組合,兩個(gè)規(guī)可以自動(dòng)切換,在低真空時(shí)切換到皮拉尼規(guī),高真空時(shí)可切換到離子規(guī)。湖南微型真空鍍膜設(shè)備