【真空鍍膜之離子束濺射鍍膜】離子束濺射沉積法在離子源內由惰性氣體(通常為氬)產生具有較高能量的離子轟擊靶材料，把靶材料沉積到基片上的方法。離子束濺射沉積法的一da優(yōu)點是基片相對于離子源和靶是du立的，它的溫度可以單獨控制?；ǔ＝拥匚唬桶信c高頻電路無關，不會象陰極濺射鍍膜那樣受到高能電子的轟擊，因而溫度較低。所以只要配置一臺較好的恒溫循環(huán)器(如HX1050型，控溫范圍為-10℃~50℃，精度≤0。5℃)，實現對樣品臺的單獨控溫，就可以根據不同樣品的要求以及薄膜生長不同階段的溫度需要進行適當調節(jié)。根據現有離子束濺射設備的構造，設計、加工了專門的金屬樣品架，放上樣品后蓋上金屬壓片，用螺絲緊密地固定在鍍膜腔體的樣品臺上，可使樣品和控溫的樣品臺有良好的熱接觸。并在樣品架中放置了一個測溫鉑電阻，用螺絲把金屬壓片連同其下的鉑電阻一起固定壓緊，再用導線引出與高精度的萬用表相連，以監(jiān)測薄膜生長過程中的樣品溫度。真空鍍膜機日常怎么維護？黑龍江離子束濺射射頻離子源制造生產

【真空鍍膜之水轉印】水轉印是利用水壓將轉印紙上的彩色紋樣印刷在三維產品表面的一種方式。隨著人們對產品包裝與表面裝飾要求的提高，水轉印的用途越來越廣fan。適用材料：所有的硬材料都適合水轉印，適合噴涂的材料也一定適用于水轉印。常見的為注塑件和金屬件。工藝成本:無模具費用，但需要利用夾具將多件產品同時進行水轉印，時間成本一般每周期不會超過10分鐘。環(huán)境影響:和產品噴涂比較而言，水轉印更充分的應用了印刷涂料，減少了廢料泄漏和材料浪費的可能。天津離子束刻蝕射頻離子源制造生產射頻離子源具有高效、穩(wěn)定、可靠的特點，可滿足不同領域的需求。

【真空鍍膜機有哪些污染源】真空鍍膜機是由許多精密的零部件所組成的，這些零部件均經過許多機械加工流程而制作出來，如焊接、磨、車、刨、鏜、銑等工序。正因為有了這些工作，導致設備零部件表面不可避免地會沾染一些加工帶來的油脂、油垢、金屬屑、焊劑、拋光膏、汗痕等污染物。這些污染物在真空條件下易揮發(fā)，從而對設備的極限真空造成影響。此外，這些機械加工帶來的真空污染物在da氣壓環(huán)境中吸附da量的氣體，而到了真空狀態(tài)下，這些原先吸附的氣體也會被再次釋放出來，成為限制真空系統的極限真空的一da主要因素。1、真空規(guī)管的燈絲在高溫條件下蒸發(fā)，將導致陶瓷絕緣子上形成一層薄膜，對其絕緣強度有一定的損壞，對其測量的準確性也有一定的影響；2、由于高溫蒸發(fā)，會使真空中的電子qiang的燈絲附近表面形成一層金屬膜；3、由于工件濺射，離子束刻蝕設備的內壁會被濺散物所污染；4、真空蒸發(fā)鍍膜設備的內壁會被其蒸鍍靶材材料污染；5、經常使用真空干燥系統，該系統會受蒸發(fā)出來的物質所污染；6、真空鍍膜設備中的擴散泵油、機械泵油等更是一da主要污染來源，鍍膜機長期工作后，設備內部可能會形成一層油膜。

【真空鍍膜設備維修保養(yǎng)技術】一、當鍍膜設備工作完成到兩百個鍍膜的時候，拆出密封圈，及時清潔設備環(huán)境（室內環(huán)境）。如何清潔保養(yǎng)？首先我們要使鍍上去的膜層掉落，同時釋放氫氣，清洗過程中要注意所使用到的溶液會灼傷人體的皮膚，所以通常我們要小心謹慎用堿飽和溶液不斷來回清洗真空適合內部（內壁），再用清水洗刷真空室，并通過抹布沾上汽油擦拭抽閥里面的污漬。二、當閥泵連續(xù)工作一個月之后，為保持設備的正常運轉我們需要更換油。將泵啟動，擰開放油螺栓，使泵內的舊油完全排放出來。擰回放油螺栓，觀察油視鏡倒入新油加到一定額度，平常換油時應將油蓋打開，有需要時用布擦干凈箱內污垢。三、擴散泵連續(xù)使用6個月以上，抽的速度會顯然變慢，當操作不當應拆去聯結水管，卸下電爐盤，將一級噴嘴擰出，先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍，再用洗衣粉兌水清洗一遍，然后用清水徹底清洗干凈，待水份揮發(fā)干以后，裝好泵膽，加入新擴散泵油，并裝回機體，接好水管，裝好電爐盤，便可以重新開機。在重新開機前，要注意檢漏工作。首先啟動維持泵，關好da門，數分鐘后，觀察擴散泵部分真空度是否達到標準，否則要進行檢漏。檢查聯接處的密封圈是否正常。真空鍍膜機常見故障及解決方法。

【真空鍍膜之陽極氧化】陽極氧化：主要是鋁的陽極氧化，是利用電化學原理，在鋁和鋁合金的表面生成一層Al2O3（氧化鋁）膜。這層氧化膜具有防護性、裝飾性、絕緣性、耐磨性等特殊特性適用材料：鋁、鋁合金等鋁制品工藝成本：生產過程中，水、電的消耗是相當da的，特別是在氧化工序。機器本身的熱耗，需要不停地用循環(huán)水進行降溫，噸電耗往往在1000度左右。環(huán)境影響：陽極氧化在能效方面不算出色，同時在鋁電解生產中，陽極效應還會產生對da氣臭氧層造成破壞性副作用的氣體。射頻離子源可用于表面處理、材料改性、離子注入、等離子體刻蝕等應用。湖南離子束清洗射頻離子源批發(fā)價格

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【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子轟擊材料表面，使其濺射出進入氣相，可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數稱為濺射產額(Yield)產額越高濺射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/離子。離子可以直流輝光放電(glowdischarge)產生，在10-1—10Pa真空度，在兩極間加高壓產生放電，正離子會轟擊負電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。正常輝光放電(glowdischarge)的電流密度與陰極物質與形狀、氣體種類壓力等有關。濺鍍時應盡可能維持其穩(wěn)定。任何材料皆可濺射鍍膜，即使高熔點材料也容易濺鍍，但對非導體靶材須以射頻（RF）或脈沖（pulse）濺射；且因導電性較差，濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達10W/cm2,非金屬＜5W/cm2。黑龍江離子束濺射射頻離子源制造生產