【真空鍍膜之材料表面處理】表面處理：是在基體材料表面上人工形成一層與基體的機械、物理和化學(xué)性能不同的表層的工藝方法。表面處理的目的是滿足產(chǎn)品的耐蝕性、耐磨性、裝飾或其他特種功能要求。我們比較常用的表面處理方法是，機械打磨，化學(xué)處理，表面熱處理，噴涂表面，表面處理就是對工件表面進行清潔、清掃、去毛刺、去油污、去氧化皮等。常用表面處理的工藝有：真空電鍍、電鍍工藝、陽極氧化、電解拋光、移印工藝、鍍鋅工藝、粉末噴涂、水轉(zhuǎn)印、絲網(wǎng)印刷、電泳等。真空鍍膜機日常怎么維護？重慶光學(xué)鍍膜空心陰極霍爾離子源廠家
【真空鍍膜機之電鍍工藝】利用電解作用使零件表面附著一層金屬膜的工藝，從而起到防止金屬氧化，提高耐磨性、導(dǎo)電性、反光性、抗腐蝕性及增進美觀等作用，不少硬幣的外層亦為電鍍。適用材料：多數(shù)金屬可以進行電鍍但是不同的金屬具有不同等級的純度和電鍍效率。其中常見的有：錫，鉻，鎳，銀，金和銠；2.常用于電鍍的塑料為ABS。3.鎳金屬不可用于電鍍接觸皮膚的產(chǎn)品，因為鎳對皮膚有刺激性且有毒性。工藝成本：無模具費用，但需要夾具對零件進行固定/時間成本取決于溫度和金屬種類/人力成本（中-高），取決于具體電鍍件的種類，例如銀器和珠寶的電鍍就需要極高的熟練工人進行操作，因為其對外觀和耐久性的要求很高環(huán)境影響:da量有毒物質(zhì)會被用在電鍍過程中，所以需要專業(yè)的分流和提取，以確保小的環(huán)境影響。重慶光學(xué)鍍膜空心陰極霍爾離子源廠家真空鍍膜機機組是怎樣的？
【真空鍍膜機之卷繞機構(gòu)設(shè)計中應(yīng)考慮的問題】①提高卷繞速度的問題。卷繞速度即是帶狀基材運動的線速度，它是卷繞機構(gòu)的一個主要技術(shù)指櫟。國內(nèi)早期鍍膜機卷繞速度只有10m/min，現(xiàn)在也只有80m/min～120m/min，在國外日本的EW系列產(chǎn)品中，其卷繞速度已達到300m/min，德國L．H公司生產(chǎn)的鍍膜機已達到600m/min，可見隨著鍍膜技術(shù)的發(fā)展，卷繞速度有待提高。②帶狀基材的線速恒定問題。這一問題也很重要，因為只有卷繞機構(gòu)保證帶狀基材的線速恒定，才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點對制備帶狀基材的功能性膜（如電容器膜）尤為重要。③帶狀基材的跑偏和起褶問題。隨著卷繞速度的提高，帶狀基材在卷繞鍍膜過程中，起褶和發(fā)生偏斜，嚴(yán)重時會造成基材的斷裂，使生產(chǎn)中斷，既影響生產(chǎn)效率，又浪費材料。因此，在卷繞機構(gòu)的設(shè)計中應(yīng)充分考慮這一問題。
【真空鍍膜機操作工藝流程】首先開水、電、氣→總電源→開維持泵→開擴散泵加熱→開粗抽泵→開預(yù)抽閥→關(guān)預(yù)抽閥→開粗抽閥→開羅茨泵→如有離子轟擊，開轟擊30秒，關(guān)轟擊→開真空計→當(dāng)真空到，關(guān)粗抽閥→開前置閥→開精抽閥，當(dāng)真空達到7x10-3pa，開轉(zhuǎn)架→開始鍍膜操作→鍍膜完畢后，關(guān)閉真空計、離子源→關(guān)精抽閥，前置閥→關(guān)羅茨泵→開抽氣閥，取件→上料，反復(fù)開始操作。特別注意：1.設(shè)備停用時，鍍膜室要保持真空狀態(tài)，減少內(nèi)表面氣體的吸附，防止氧化。2.冷卻水通道場下才能對擴散泵進行加熱，未經(jīng)充分冷卻的泵不得與da氣接觸，防止氧化。3.要保證機器內(nèi)擴散泵和機械泵的油定期檢查和更換。4.設(shè)備運行中遇有停電或其它事故發(fā)生，須先停擴散泵，關(guān)精抽閥，前置閥和真空計。5.產(chǎn)品做完下班后，關(guān)了擴散泵后須待溫度降低至60℃后才能關(guān)維持泵。真空鍍膜機品牌排行。
【真空鍍膜機之輔助抽氣系統(tǒng)】真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。輔助抽氣系統(tǒng)：排氣系統(tǒng)為鍍膜機真空系統(tǒng)的重要部分，主要有由機械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴散泵三da部分組成。此排氣系統(tǒng)采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。排氣流程為：機械泵先將真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空狀態(tài)，為擴散泵后繼抽真空提供前提，之后當(dāng)擴散泵抽真空腔的時候，機械泵又配合油擴散泵組成串聯(lián)，以這樣的方式完成抽氣動作。真空鍍膜機的相關(guān)資料。重慶光學(xué)鍍膜空心陰極霍爾離子源廠家
錦成國泰真空鍍膜機怎么樣？重慶光學(xué)鍍膜空心陰極霍爾離子源廠家
【真空鍍膜機之真空電鍍】真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導(dǎo)電的貨品吸附形成一層均勻光滑的仿金屬表面層。適用材料：1、很多材料可以進行真空電鍍，包括金屬，軟硬塑料，復(fù)合材料，陶瓷和玻璃。其中*常見用于電鍍表面處理的是鋁材，其次是銀和銅。2、自然材料不適合進行真空電鍍處理，因為自然材料本身的水分會影響真空環(huán)境。工藝成本：真空電鍍過程中，工件需要噴涂，裝載，卸載和再噴涂，所以人力成本相當(dāng)高，但是也取決于工件的復(fù)雜度和數(shù)量。環(huán)境影響：真空電鍍對環(huán)境污染很小，類似于噴涂對環(huán)境的影響。重慶光學(xué)鍍膜空心陰極霍爾離子源廠家