【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜外自霧】：現(xiàn)象：鍍膜完成后，表面有一些淡淡的白霧，用丙tong或混合液擦拭，會有越擦越嚴(yán)重的現(xiàn)象。用氧化鈰粉擦拭，可以擦掉或減輕?？赡艹梢蛴校?.膜結(jié)構(gòu)問題，外層膜的柱狀結(jié)構(gòu)松散，外層膜太粗糙2.蒸發(fā)角過大，膜結(jié)構(gòu)粗糙3.溫差：鏡片出罩時(shí)內(nèi)外溫差過大4.潮氣：鏡片出罩后擺放環(huán)境的潮氣5.真空室內(nèi)POLYCOLD解凍時(shí)水汽過重6.蒸鍍中充氧不完全，膜結(jié)構(gòu)不均勻。7.膜與膜之間的應(yīng)力改善思路：膜外白霧成因很多但各有特征，盡量對癥下藥。主要思路，一是把膜做的致密光滑些不容易吸附，二是改善環(huán)境減少吸附的對象。改善對策：1.改善膜系，外層加二氧化硅，使膜表面光滑，不易吸附。2.降低出罩時(shí)的鏡片溫度3.改善充氧（加大），改善膜結(jié)構(gòu)4.適當(dāng)降低蒸發(fā)速率，改善柱狀結(jié)構(gòu)5.離子輔助鍍膜，改善膜結(jié)構(gòu)6.加上Polycold解凍時(shí)的小充氣閥7.從蒸發(fā)源和夾具上想辦法改善蒸發(fā)角8.改善基片表面粗糙度9.注意Polycold解凍時(shí)的真空度。 成都國泰真空鍍膜設(shè)備怎么樣？山西真空鍍膜設(shè)備抽真空多少

【離子鍍的歷史】： 真空離子鍍膜技術(shù)是近幾十年才發(fā)展起來的一種新的鍍膜技術(shù)。在離子鍍技術(shù)興起的40多年來取得了巨大的進(jìn)步，我國也有將近30多年的離子鍍研究進(jìn)程。 【離子鍍的原理】： 蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子撞擊后沉積在固體表面稱為離子鍍。蒸發(fā)源接陽極，工件接陰極，當(dāng)通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。由于 真空罩內(nèi)充有惰性氬氣，在放電電場作用下部分氬氣被電離，從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區(qū)。帶正電荷的氬離子受陰極負(fù)高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表 面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后，接通蒸發(fā)源交流電源，蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，進(jìn)入輝光放電區(qū)并 被電離。帶正電荷的蒸發(fā)料離子，在陰極吸引下，隨同氬離子一同沖向工件，當(dāng)拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時(shí)，則逐漸堆積形成一層牢固粘 附于工件表面的鍍層。 【離子鍍的優(yōu)缺點(diǎn)】： 優(yōu)點(diǎn)：膜層附著力好，膜層致密，具有繞度性能，能在形狀復(fù)雜的零件表面鍍膜。 缺點(diǎn)：離子鍍的應(yīng)用范圍不廣；膜與基體間存在較寬的過渡界面。會有氣體分子吸附。 四川真空鍍膜設(shè)備廠家公司真空鍍膜設(shè)備品牌有很多，你如何選擇？

【真空鍍膜機(jī)概述】： 真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發(fā)，電子搶加熱蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 真空鍍膜機(jī)構(gòu)造的五大系統(tǒng)：排氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、蒸鍍系統(tǒng)、監(jiān)控系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)。 真空鍍膜三要素：真空度、抽氣時(shí)間、溫度；任何鍍膜工藝都需要為這三個(gè)要素設(shè)定目標(biāo)值；因此，只有當(dāng)三個(gè)條件同時(shí)滿足時(shí)，自動化程序才會自動運(yùn)行。 真空鍍膜機(jī)需要做定期定期保養(yǎng)，目的在于：讓鍍膜機(jī)能長時(shí)間地正常運(yùn)轉(zhuǎn)；降低故障時(shí)間，避免影響產(chǎn)能，減少損失；提高機(jī)器精度，穩(wěn)定品質(zhì)；加快抽氣速度，提升機(jī)器利用率等。

【離子鍍膜法之直流二極型(DCIP)】： 直流二極型(DCIP):利用電阻或電子束加熱使膜材氣化；被鍍基體作為陰極，利用高電壓直流輝光放電將充入的氣體氬(Ar)(也可充少量反應(yīng)氣體)離化。這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升大、繞射性好、附著性好，膜結(jié)構(gòu)及形貌差，若用電子束加熱必須用差壓板；可用于鍍耐腐蝕潤滑機(jī)械制品。 【離子鍍膜法之多陰極型】： 多陰極型:利用電阻或電子束加熱使膜材氣化；依靠熱電子、陰極發(fā)射的電子及輝光放電使充入的真空惰性氣體或反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升小，有時(shí)需要對基板加熱；可用于鍍精密機(jī)械制品、電子器件裝飾品。真空鍍膜設(shè)備常見故障及解決方法。

真空鍍膜設(shè)備具有下列優(yōu)點(diǎn)：沉積效率高、電離率高、設(shè)備操作簡單、成本低、生產(chǎn)能力大，且鍍膜具有耐磨、耐腐蝕、耐高溫、附著力好和不易褪色等特點(diǎn)。行業(yè)：五金行業(yè)、衛(wèi)浴行業(yè)、裝飾行業(yè)、家用電器行業(yè)等。適用產(chǎn)品：水龍頭、樓梯扶手、家用電器、LOGO標(biāo)牌、不銹鋼展架、不銹鋼材及板材等。涂層效果：鈦、玫瑰金、香檳金、日本金、銀、七彩、藍(lán)寶石、玫瑰紅、黑色等。本系列設(shè)備安全、生態(tài)環(huán)境保護(hù)、工藝穩(wěn)定、漆膜色澤豐富、色澤均勻、耐磨、耐腐蝕、耐高溫、附著力好、不易褪色。真空鍍膜設(shè)備真空四個(gè)階段。重慶裝飾真空鍍膜設(shè)備

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【真空鍍膜改善基片與膜的結(jié)合】： 1. 加強(qiáng)去油去污處理，如是超聲波清洗，重點(diǎn)考慮去油，若是手擦，考慮先用碳酸鈣粉擦再清擦； 2. 加強(qiáng)鍍前烘烤； 3. 有條件時(shí)，機(jī)組安裝冷凝及（POLYCOLD）； 4. 提高真空度； 5. 有條件時(shí)，機(jī)組安裝離子源； 6. 膜料的去潮； 7. 保持工作環(huán)境的干燥； 8. 對于多層膜，在膜系設(shè)計(jì)時(shí)，就要考慮第yi層膜與基片的匹配； 9. 采取研磨液復(fù)新去除鏡片表面的腐蝕層； 10. 有時(shí)候適當(dāng)降低蒸發(fā)速率對膜強(qiáng)度的提高有幫助，對提高膜表面光滑度有積極意義。 山西真空鍍膜設(shè)備抽真空多少