【射頻離子源簡介】：國泰真空射頻離子源GTRF-17和GTRF-23，主要用于IR-Cut、濾光片等精密光學(xué)鍍膜的離子束輔助沉積和離子束清洗等，是公司技術(shù)團(tuán)隊(duì)全自主研發(fā)近3年時(shí)間研發(fā)出的國產(chǎn)射頻離子源，屬于國內(nèi)大直徑射頻離子源。打破了國外制造商長期對(duì)國產(chǎn)鍍膜行業(yè)的技術(shù)封鎖，同時(shí)也激勵(lì)了國內(nèi)的同行制造業(yè)。離子源設(shè)備能促進(jìn)光電產(chǎn)業(yè)升級(jí)，在國內(nèi)也是一項(xiàng)“卡脖子”技術(shù)。具有能量高、熱輻射低、工作時(shí)間長、對(duì)膜層污染小、能量分布均勻性好、適應(yīng)多種工作氣體的特點(diǎn)。真空鍍膜機(jī)故障維修技巧有哪些？浙江光學(xué)薄膜射頻離子源價(jià)格

    達(dá)到修正面形誤差的目的，其加工精度達(dá)到納米級(jí)。射頻(rf)離子源采用磁感應(yīng)產(chǎn)生等離子體，因此是無極放電，放電室內(nèi)鎢燈絲作為陰極，鎢燈絲可在反應(yīng)氣體中長時(shí)間工作，**降低了對(duì)離子束帶來的污染。由于射頻感應(yīng)產(chǎn)生的等離子體中只有單電荷離子而幾乎沒有雙電荷離子，因此使屏柵濺射引起的污染尤為小，同時(shí)也增加了離子束的均勻性。rf射頻離子源采用特殊的三柵離子光學(xué)系統(tǒng)，既提高了拔出效率，又保證了結(jié)構(gòu)的熱穩(wěn)定性及防污染的可靠性。離子源工作時(shí)，氣體通過石英放電室，通過，離化氣體產(chǎn)生等離子體。帶電粒子經(jīng)由靜電場加速，控制離子束電壓，增大放電室功率，提高放電等離子體濃度，在經(jīng)過離子三柵光學(xué)系統(tǒng)的聚焦加速形成一定能量的離子束?，F(xiàn)有技術(shù)中的射頻離子源離子束束徑是通過位于離子源內(nèi)部的三級(jí)柵網(wǎng)設(shè)計(jì)的位置及形狀進(jìn)行調(diào)節(jié)的，調(diào)節(jié)時(shí)需要反復(fù)更換柵網(wǎng)以實(shí)現(xiàn)束徑調(diào)節(jié)，調(diào)節(jié)效率低，同時(shí)，現(xiàn)有的柵網(wǎng)均為曲面柵網(wǎng)，如圖1所示，從而使得加工制造較為困難，并且很難保證曲面弧度及孔徑的加工精度，加工成本高。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：鑒于上述問題，本發(fā)明的目的在于提供一種束徑調(diào)節(jié)方便的射頻離子源離子束束徑約束器。成都射頻離子源制造生產(chǎn)真空鍍膜機(jī)真空度多少？

【真空鍍膜機(jī)鍍塑料件時(shí)抽真空時(shí)間過長是什么原因？】(1)真空室有漏氣現(xiàn)象：da家都知道，真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)是的基本條件是工件在真空狀態(tài)下才能進(jìn)行鍍膜加工的，若真空室有漏氣現(xiàn)象而沒有經(jīng)過檢漏找出漏氣位置，則真空鍍很長時(shí)間都不能抽得上來的；(2)即使真空室沒有漏氣，因?yàn)樗芰袭a(chǎn)品的放氣量da，所以抽真空，特別是高真空很難達(dá)到。真空室內(nèi)太臟放氣，而且由于塑料產(chǎn)品的放氣，造成真空室內(nèi)鍍膜氣體的不純，有雜氣的存在，造成鍍膜產(chǎn)品的顏色發(fā)暗，發(fā)黃，發(fā)黑等。（3）也許是真空機(jī)組的抽氣能力不夠了，油被污染或氧化了。

【真空鍍膜對(duì)環(huán)境的基本要求】加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要?；M(jìn)入鍍膜室前均應(yīng)進(jìn)行認(rèn)真的鍍前清潔處理，達(dá)到工件去油、去污和脫水的目的?；砻嫖廴緛碜粤慵诩庸?、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。真空鍍膜廠家這些污物基本上均可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。對(duì)經(jīng)過清洗處理的清潔表面，不能在da氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至小。因?yàn)檫@些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔?。?duì)于高度不穩(wěn)定的、對(duì)水蒸氣敏感的表面，一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。qing除鍍膜室內(nèi)的灰塵，設(shè)置清潔度高的工作間，保持室內(nèi)高度清潔是鍍膜工藝對(duì)環(huán)境的基本要求?？諝鉂穸萪a的地區(qū)，除鍍前要對(duì)基片、真空室內(nèi)各部件認(rèn)真清洗外，還要進(jìn)行烘烤除氣。要防止油帶入真空室內(nèi)，注意油擴(kuò)散泵返油，對(duì)加熱功率高的擴(kuò)散泵必須采取擋油措施。真空鍍膜機(jī)廠家排名。

【真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件】1、環(huán)境溫度：10~30℃2、相對(duì)濕度：不da于70%3、冷卻水進(jìn)水溫度：不高于25℃4、冷卻水質(zhì)：城市自來水或質(zhì)量相當(dāng)?shù)乃?、供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz（由所用電器需要而定），電壓波動(dòng)范圍342~399V或198V~231V，頻率波動(dòng)范圍49~51Hz；6、設(shè)備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應(yīng)在產(chǎn)品使用說明書上寫明。7、設(shè)備周圍環(huán)境整潔、空氣清潔，不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵?；驓怏w存在。此外，真空鍍膜設(shè)備所在實(shí)驗(yàn)室或車間應(yīng)保持清潔衛(wèi)生。地面為水磨石或木質(zhì)涂漆地面、無塵埃。為防止機(jī)械泵工作時(shí)排出的氣體對(duì)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境的污染，可采用在泵的排氣口上面裝設(shè)排氣管道（金屬、橡膠管）的辦法，將氣體排出室外。射頻離子源具有高效、穩(wěn)定、可靠的特點(diǎn)，可滿足不同領(lǐng)域的需求。云南射頻離子源自主研發(fā)設(shè)計(jì)生產(chǎn)

射頻離子源可用于制備納米材料、薄膜、光學(xué)器件等高科技產(chǎn)品。浙江光學(xué)薄膜射頻離子源價(jià)格

【真空鍍膜機(jī)之真空泵的安裝和指導(dǎo)】真空泵安裝指導(dǎo)1、泵應(yīng)安裝在地面結(jié)實(shí)堅(jiān)固的場所，周圍應(yīng)留有充分的余地，便于檢查、維護(hù)、保養(yǎng)。2、泵底座下應(yīng)保持地基水平，底座四角處建議墊減震橡皮或用螺栓澆制安裝，確保泵運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，振動(dòng)小。3、泵與系統(tǒng)的連接管道應(yīng)密封可靠，對(duì)小泵可采用金屬管路連接密封墊采用耐油橡膠，對(duì)小泵可采用真空膠管連接，管道管徑不得小于泵吸氣口徑，且要求管路短而少彎頭。（焊接管路時(shí)應(yīng)qing除管道中焊渣，嚴(yán)禁焊渣進(jìn)入泵腔。）4、在連接管路中，用戶可在泵進(jìn)氣口上方安裝閥門及真空計(jì)，隨時(shí)可檢查泵的極限壓力。5、按電動(dòng)機(jī)標(biāo)牌規(guī)定連接電源，并接地線和安裝合適規(guī)格的熔斷器及熱繼電器。6、泵通電試運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)，須取下電機(jī)皮帶，確認(rèn)泵轉(zhuǎn)向符合規(guī)定方向方可投入使用，以防泵反轉(zhuǎn)噴油。（轉(zhuǎn)向按防護(hù)罩指示方向）7、對(duì)于有冷卻水的泵，按規(guī)定接通冷卻水。8、如泵口安裝電磁閥時(shí)，閥與泵應(yīng)同時(shí)動(dòng)作。9、當(dāng)泵排出氣體影響工作環(huán)境時(shí)，可在排氣口裝接管道引離或裝接油霧過濾器。浙江光學(xué)薄膜射頻離子源價(jià)格