【真空鍍膜機沖洗工藝之反應(yīng)氣體沖洗】這種方法特別適用于da型超高不銹鋼真空系統(tǒng)的內(nèi)部洗(去除碳氫化合物污染)。通常對于某些da型超高真空系統(tǒng)的真空室和真空元件，為了獲得原子態(tài)的清潔表面，消除其表面污染的標準方法是化學清洗，真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空系統(tǒng)等方法。以上的清洗和除氣方法常用于真空系統(tǒng)安裝前及裝配期間。在真空系統(tǒng)安裝后(或系統(tǒng)運行后)，由于真空系統(tǒng)內(nèi)的各種零部件已經(jīng)被固定，這時對它們進行除氣處理就很困難，一旦系統(tǒng)受到(偶然)污染(主要是da原子數(shù)的分子如碳氫化合物的污染)，通常要拆卸后重新處理再安裝．而用反應(yīng)氣體工藝，可以進行原位在線除氣處理．有效地除去不銹鋼真空室內(nèi)的碳氫化合物的污染.其清洗機理：在系統(tǒng)中引述氧化性氣體(O2、N0 )和還原性氣體(H2、N H3)對金屬表面進行化學反應(yīng)清洗，消除污染，以便獲得原子態(tài)的清潔金屬表面。表面氧化／還原的速率取決于污染的情況及金屬表面的材質(zhì)，表面反應(yīng)速率的da小通過調(diào)整反應(yīng)氣體的壓力和溫度來控制。對于每一種基材而言，精確的參數(shù)要通過實驗來確定.對于不同的結(jié)晶取向，這些參數(shù)是不同的。真空鍍膜機參數(shù)怎么調(diào)？廣西真空鍍膜機報價

【真空鍍膜技術(shù)專業(yè)詞匯】真空鍍膜vacuum coating：在處于真空下的基片上制取膜層的一種方法。 基片substrate：膜層承受體。 試驗基片testing substrate：在鍍膜開始、鍍膜過程中或鍍膜結(jié)束后用作測量和（或）試驗的基片。 鍍膜材料coating material：用來制取膜層的原材料。 蒸發(fā)材料evaporation material：在真空蒸發(fā)中用來蒸發(fā)的鍍膜材料。 濺射材料sputtering material：有真空濺射中用來濺射的鍍膜材料。 膜層材料(膜層材質(zhì))film material：組成膜層的材料。 蒸發(fā)速率evaporation rate：在給定時間間隔內(nèi),蒸發(fā)出來的材料量,除以該時間間隔 濺射速率sputtering rate：在給定時間間隔內(nèi),濺射出來的材料量,除以該時間間隔。 沉積速率deposition rate：在給定時間間隔內(nèi),沉積在基片上的材料量,除以該時間間隔和基片表面積。 鍍膜角度coating angle：入射到基片上的粒子方向與被鍍表面法線之間的夾角。 廣西真空鍍膜機報價真空鍍膜機怎么保養(yǎng)？

【真空鍍膜之磁控濺射鍍膜】 磁控濺射對陰極濺射中電子使基片溫度上升過快的缺點加以改良,形成了電場和磁場方向相互垂直的特點。在正交的電磁場的作用下,電子以擺線的方式沿著靶表面前進,從而xianzhu地延長了電子的運動路程,增加了同工作氣體分子的碰撞幾率,提高了電子的電離效率。由于電子每經(jīng)過一次碰撞損失一部分動能,經(jīng)過多次碰撞后,喪失了能量成為“*終電子”進入離陰極靶面較遠的弱電場區(qū),*后到達陽極時已經(jīng)是能量消耗殆盡的低能電子,也就不再會使基片過熱。同時高密度等離子體被束縛在靶面附近,又不與基片接觸,這樣電離產(chǎn)生的正離子能十分有效地轟擊靶面,而基片又可免受等離子體的轟擊,因而基片溫度又可降低。在濺射儀起輝以后,并不把樣品轉(zhuǎn)入陽極的生長位置,也不通循環(huán)水,使樣品隨放電的熱能而逐漸升高至一定溫度后,才開始生長,以減小應(yīng)力,獲得牢固度較高的薄膜。另外在樣品盤中還安裝了溫控儀(精度小于1℃)以監(jiān)控薄膜生長過程中的樣品溫度。

【真空鍍膜機操作工藝流程】首先開水、電、氣→總電源→開維持泵→開擴散泵加熱→開粗抽泵→開預(yù)抽閥→關(guān)預(yù)抽閥→開粗抽閥→開羅茨泵→如有離子轟擊，開轟擊30秒，關(guān)轟擊→開真空計→當真空到6.0~7.0pa時，關(guān)粗抽閥→開前置閥→開精抽閥，當真空達到7x10-3pa，開轉(zhuǎn)架→開始鍍膜操作→鍍膜完畢后，關(guān)閉真空計、離子源→關(guān)精抽閥，前置閥→關(guān)羅茨泵→開抽氣閥，取件→上料，反復開始操作。 特別注意： 1.設(shè)備停用時，鍍膜室要保持真空狀態(tài)，減少內(nèi)表面氣體的吸附，防止氧化。 2.冷卻水通道場下才能對擴散泵進行加熱，未經(jīng)充分冷卻的泵不得與da氣接觸，防止氧化。 3.要保證機器內(nèi)擴散泵和機械泵的油定期檢查和更換。 4.設(shè)備運行中遇有停電或其它事故發(fā)生，須先停擴散泵，關(guān)精抽閥，前置閥和真空計。 5.產(chǎn)品做完下班后，關(guān)了擴散泵后須待溫度降低至60℃后才能關(guān)維持泵。 真空鍍膜機的工作原理和構(gòu)成。

【真空鍍膜的膜層結(jié)構(gòu)分布】基材：ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等樹脂類均可成型真空電鍍, 要求底材為純原料,電鍍級別更佳,不可加再生材; 底漆：UV底漆,對基材表面做預(yù)處理,為膜層的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情況可酌情加厚; 膜層：靶材蒸發(fā)的結(jié)果，VM膜層可導電，NCVM鍍層不導電，且抗干擾性效果很好,膜層厚度0.3um以下。 面漆：面漆利用三基色原理可與色漿搭配出各類顏色,同時對真空膜層起保護作用,再加上UV、PU的表面裝飾,效果更漂亮,厚度 一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚 。 光學真空鍍膜機制造商。江蘇二手光學真空鍍膜機

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【真空鍍膜機鍍塑料件時抽真空時間過長是什么原因？】 (1) 真空室有漏氣現(xiàn)象：da家都知道，真空蒸發(fā)鍍膜機是的基本條件是工件在真空狀態(tài)下才能進行鍍膜加工的，若真空室有漏氣現(xiàn)象而沒有經(jīng)過檢漏找出漏氣位置，則真空鍍很長時間都不能抽得上來的；(2)即使真空室沒有漏氣，因為塑料產(chǎn)品的放氣量da，所以抽真空，特別是高真空很難達到。真空室內(nèi)太臟放氣，而且由于塑料產(chǎn)品的放氣，造成真空室內(nèi)鍍膜氣體的不純，有雜氣的存在，造成鍍膜產(chǎn)品的顏色發(fā)暗，發(fā)黃，發(fā)黑等。 （3）也許是真空機組的抽氣能力不夠了，油被污染或氧化了。 （4）真空室有漏水。 （5）抽空管道有漏氣。 廣西真空鍍膜機報價

成都國泰真空設(shè)備有限公司位于成都海峽兩岸科技產(chǎn)業(yè)開發(fā)園科林西路618號。公司業(yè)務(wù)涵蓋光學鍍膜設(shè)備，真空鍍膜設(shè)備，光學真空鍍膜機，紅外鍍膜設(shè)備等，價格合理，品質(zhì)有保證。公司從事機械及行業(yè)設(shè)備多年，有著創(chuàng)新的設(shè)計、強大的技術(shù)，還有一批**的專業(yè)化的隊伍，確保為客戶提供良好的產(chǎn)品及服務(wù)。國泰真空秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實”的經(jīng)營理念，全力打造公司的重點競爭力。