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北京真空鍍膜設(shè)備維護(hù)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-11-02

【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之膜強(qiáng)度】: 膜強(qiáng)度時(shí)鏡片鍍膜的一項(xiàng)重要指標(biāo),也是鍍膜工序Zui常見(jiàn)的不良項(xiàng)。 膜強(qiáng)度的不良(膜弱)主要表現(xiàn)為: 1. 擦拭專(zhuān)yong膠帶拉撕,產(chǎn)生成片脫落 2. 擦拭專(zhuān)yong膠帶拉撕,產(chǎn)生點(diǎn)狀脫落 3. 水煮15分鐘后用專(zhuān)yong膠帶拉撕產(chǎn)生點(diǎn)狀或片狀脫落 4. 用專(zhuān)yong橡皮頭、1Kg力摩擦40次,有道子產(chǎn)生 5. 膜層擦拭或未擦拭出現(xiàn)龜裂紋、網(wǎng)狀細(xì)道子 改善思路:基片與膜層的結(jié)合是首要考慮的,其次是膜表面硬度光滑度以及膜應(yīng)力。 電子束蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備是什么?北京真空鍍膜設(shè)備維護(hù)

【真空鍍膜真空的基本概念】: 真空的劃分: 粗真空 760Torr~10E&3Torr 高真空 10E&4Torr~10E&8Torr 超高真空 10E&9~10E&12 Torr 極高真空 <10E&12Torr 流導(dǎo)(導(dǎo)通量):表示真空管道通過(guò)氣體的能力,單位為升/秒(L/S)。一般情況下,管道越短,直徑越大,表面越光滑,越直的管道流導(dǎo)也越大。 流量:?jiǎn)挝粫r(shí)間內(nèi)流過(guò)任意截面的氣體量,單位為T(mén)orr·L/s或Pa·L/s。 抽氣速率:在一定的壓強(qiáng)和溫度下,單位時(shí)間內(nèi)由泵進(jìn)氣口處抽走的氣體稱(chēng)為抽氣速率,簡(jiǎn)稱(chēng)抽速。單位一般為L(zhǎng)/S或m3/hr或CFM。 極限真空:真空容器經(jīng)充分抽氣后,穩(wěn)定在某一真空度,此真空度稱(chēng)為極限真空。河南真空鍍膜設(shè)備復(fù)合真空計(jì)真空鍍膜設(shè)備廠家有哪些?

【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之單片膜色不均勻】: 原因:主要是由于基片凹凸嚴(yán)重,與傘片曲率差異較大,基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構(gòu)成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大,形成的膜厚差異大。另外鏡片被鏡圈(碟片)邊緣部遮擋、鏡圈(碟片)臟在蒸鍍時(shí)污染鏡片等也會(huì)造成膜色差異問(wèn)題。 改善對(duì)策:改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角 1. 條件許可,用行星夾具 2. 選用傘片平坦(R大)的機(jī)臺(tái) 3. 根據(jù)傘片孔位分布,基片形狀,制作專(zhuān)門(mén)的鋸齒形修正板。 4. 如果有可能,把蒸發(fā)源往真空室中間移動(dòng),也可改善單片的膜色均勻性。 5. 改善鏡圈(碟片),防止遮擋。 6. 注意旋轉(zhuǎn)傘架的相應(yīng)部位對(duì)邊緣鏡片的部分遮擋 7. 清潔鏡圈(碟片) 8. 改善膜料蒸發(fā)狀況。

【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之膜外自霧】: 現(xiàn)象:鍍膜完成后,表面有一些淡淡的白霧,用丙tong或混合液擦拭,會(huì)有越擦越嚴(yán)重的現(xiàn)象。用氧化鈰粉擦拭,可以擦掉或減輕。 可能成因有: 1. 膜結(jié)構(gòu)問(wèn)題,外層膜的柱狀結(jié)構(gòu)松散,外層膜太粗糙 2. 蒸發(fā)角過(guò)大,膜結(jié)構(gòu)粗糙 3. 溫差:鏡片出罩時(shí)內(nèi)外溫差過(guò)大 4. 潮氣:鏡片出罩后擺放環(huán)境的潮氣 5. 真空室內(nèi)POLYCOLD解凍時(shí)水汽過(guò)重 6. 蒸鍍中充氧不完全,膜結(jié)構(gòu)不均勻。 7. 膜與膜之間的應(yīng)力 改善思路:膜外白霧成因很多但各有特征,盡量對(duì)癥下藥。主要思路,一是把膜做的致密光滑些不容易吸附,二是改善環(huán)境減少吸附的對(duì)象。 改善對(duì)策: 1. 改善膜系,外層加二氧化硅,使膜表面光滑,不易吸附。 2. 降低出罩時(shí)的鏡片溫度 3. 改善充氧(加大),改善膜結(jié)構(gòu) 4. 適當(dāng)降低蒸發(fā)速率,改善柱狀結(jié)構(gòu) 5. 離子輔助鍍膜,改善膜結(jié)構(gòu) 6. 加上Polycold解凍時(shí)的小充氣閥 7. 從蒸發(fā)源和夾具上想辦法改善蒸發(fā)角 8. 改善基片表面粗糙度 9. 注意Polycold解凍時(shí)的真空度。 離子真空鍍膜設(shè)備是什么?

【光譜分光不良的補(bǔ)救(補(bǔ)色)之機(jī)器故障和人為中斷】: 分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經(jīng)測(cè)試分光不良,此類(lèi)不良主要按六節(jié)所述方法處理,一般減反膜難以補(bǔ)救。但對(duì)于高反膜、帶通濾光膜等可以通過(guò)加層的方法補(bǔ)救。二是鍍制中途中斷(包括發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過(guò)后續(xù)努力補(bǔ)救。后續(xù)方法正確,補(bǔ)救成功率比較高。 中斷的原因形式之機(jī)器故障和人為中斷: 模擬:根據(jù)已經(jīng)實(shí)鍍的鏡片(測(cè)試比較片)實(shí)測(cè)分光數(shù)據(jù)輸入計(jì)算機(jī)膜系設(shè)計(jì)程序的優(yōu)化目標(biāo)值,再根據(jù)已經(jīng)掌握的膜系信息輸入,采用倒推法逐層優(yōu)化,模擬出實(shí)際鍍制的膜系數(shù)據(jù)。 *測(cè)試比較片是指隨鏡片一起鍍制(在傘片上、與鏡片同折射率),用于測(cè)試鍍后分光曲線的平片。 優(yōu)化:再鎖定通過(guò)模擬得到的膜系數(shù)據(jù),通過(guò)后續(xù)層膜厚優(yōu)化找到實(shí)現(xiàn)目標(biāo)的Zui佳方案。 試鍍:根據(jù)新優(yōu)化的后續(xù)膜層數(shù)據(jù),試鍍?nèi)舾社R片或測(cè)試片,確認(rèn)補(bǔ)色膜系的可行性。 補(bǔ)色鍍:對(duì)試鍍情況確認(rèn)后實(shí)施補(bǔ)色鍍。補(bǔ)色鍍前,確認(rèn)基片是否潔凈,防止產(chǎn)生其他不良。 光學(xué)真空鍍膜設(shè)備制造商。廣西真空鍍膜設(shè)備應(yīng)用

真空鍍膜設(shè)備是什么?北京真空鍍膜設(shè)備維護(hù)

【真空鍍膜真空蒸發(fā)鍍膜原理】: 真空蒸發(fā)法的原理是:在真空條件下,用蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)材料,使之蒸發(fā)或升華進(jìn)入氣相,氣相粒子流直接射向基片上沉積或結(jié)晶形成固態(tài)薄膜;由于環(huán)境是真空,因此,無(wú)論是金屬還是非金屬,在這種情況下蒸發(fā)要比常壓下容易得多。真空蒸發(fā)鍍膜是發(fā)展較早的鍍膜技術(shù),其特點(diǎn)是:設(shè)備相對(duì)簡(jiǎn)單,沉積速率快,膜層純度高,制膜材料及被鍍件材料范圍很廣,鍍膜過(guò)程可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)化,應(yīng)用相當(dāng)guang泛。按蒸發(fā)源的不同,主要分為:電阻加熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、電弧蒸發(fā)和激光蒸發(fā)等。 北京真空鍍膜設(shè)備維護(hù)

成都國(guó)泰真空設(shè)備有限公司屬于機(jī)械及行業(yè)設(shè)備的高新企業(yè),技術(shù)力量雄厚。是一家有限責(zé)任公司企業(yè),隨著市場(chǎng)的發(fā)展和生產(chǎn)的需求,與多家企業(yè)合作研究,在原有產(chǎn)品的基礎(chǔ)上經(jīng)過(guò)不斷改進(jìn),追求新型,在強(qiáng)化內(nèi)部管理,完善結(jié)構(gòu)調(diào)整的同時(shí),良好的質(zhì)量、合理的價(jià)格、完善的服務(wù),在業(yè)界受到寬泛好評(píng)。公司擁有專(zhuān)業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì),具有光學(xué)鍍膜設(shè)備,真空鍍膜設(shè)備,光學(xué)真空鍍膜機(jī),紅外鍍膜設(shè)備等多項(xiàng)業(yè)務(wù)。國(guó)泰真空自成立以來(lái),一直堅(jiān)持走正規(guī)化、專(zhuān)業(yè)化路線,得到了廣大客戶及社會(huì)各界的普遍認(rèn)可與大力支持。