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浙江伯恩光學(xué)鍍膜機(jī)

來源: 發(fā)布時(shí)間:2021-10-08

【光學(xué)鍍膜的好處】光學(xué)鍍膜由薄的分層介質(zhì)構(gòu)成的,通過界面?zhèn)鞑ス馐囊活惞鈱W(xué)介質(zhì)材料。光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代?,F(xiàn)代,光學(xué)薄膜已廣fan用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域,制造各種光學(xué)儀器。 主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等。它們在國民經(jīng)濟(jì)和**建設(shè)中得到了廣 fan的應(yīng)用,獲得了科學(xué)技術(shù)工作者的日益重視。例如采用減反射膜后可使復(fù)雜的光學(xué)鏡頭的光通量損失成十倍地減小,采用高反射比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高,利用光學(xué)薄膜可提高硅光電池的效率和穩(wěn)定性。 光學(xué)鍍膜機(jī)使用時(shí),需要注意哪些問題?浙江伯恩光學(xué)鍍膜機(jī)

【光學(xué)鍍膜法的應(yīng)用之化學(xué)鍍膜法和物理鍍膜法】 浸鍍法是唯yi可以同時(shí)制作雙面膜的方法。不過,后來的一些鏡片設(shè)計(jì)要求,不需要雙面膜。因此,必須將另一面清洗掉,增加了成本和環(huán)保的負(fù)擔(dān)。 噴鍍法則是把配置好的膜溶液裝在噴qiang上,噴在玻璃表面,并烘干和定型。玻璃載體可以是移動(dòng)或旋轉(zhuǎn),以增加膜的均勻性。可鍍雙面或單面。以此方法延生的還有一種甩膠法。將溶液滴至鏡片中心,利用鏡片高速旋轉(zhuǎn)的離心力,將溶液均勻的“拋”在表面上。以現(xiàn)在的觀點(diǎn)來看,化學(xué)鍍膜的好處,在于其設(shè)備投資低,因此它仍然是鍍有機(jī)膜的一種常用且成本低廉的方法。 化學(xué)鍍膜法具有價(jià)格低,操作容易等優(yōu)點(diǎn),但也有相對污染較大,無法鍍多層膜的缺點(diǎn)。新一代的鍍膜技術(shù)改用物理方式,以真空蒸鍍、離子鍍等多種不同的形式進(jìn)行。 物理鍍膜的過程是在真空條件下,利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)(膜材)部分離化,在工作氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)的離子轟擊作用下,把蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉淀積在被鍍基片表面的過程。物理鍍膜的強(qiáng)度和均勻性普遍高于化學(xué)鍍膜,而且Z重要的是物理鍍膜可以進(jìn)行多層鍍膜,而化學(xué)鍍膜受限于其工作原理基本只能實(shí)現(xiàn)單層鍍膜。 上海ar光學(xué)鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜機(jī)的工作原理。

【光學(xué)鍍膜之何為濺射鍍】用高能粒子轟擊固體表面時(shí)能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面,沉積在基片上。通常將欲沉積的材料制成板材──靶,固定在陰極上?;糜谡龑Π忻娴年枠O上,距靶幾厘米。系統(tǒng)抽至高真空后充入 10~1帕的氣體(通常為氬氣),在陰極和陽極間加幾千伏電壓,兩極間即產(chǎn)生輝光放電。放電產(chǎn)生的正離子在電場作用下飛向陰極,與靶表面原子碰撞,受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。 ①反應(yīng)濺射法:即將反應(yīng)氣體 (O、N、HS、CH等)加入Ar氣中,反應(yīng)氣體及其離子與靶原子或?yàn)R射原子發(fā)生反應(yīng)生成化合物(如氧化物、氮化物等)而沉積在基片上,適用濺射化合物膜。 ②高頻濺射法?;b在接地的電極上,絕緣靶裝在對面的電極上。高頻電源一端接地,一端通過匹配網(wǎng)絡(luò)和隔直流電容接到裝有絕緣靶的電極上。接通高頻電源后,高頻電壓不斷改變極性。等離子體中的電子和正離子在電壓的正半周和負(fù)半周分別打到絕緣靶上沉積。由于電子遷移率高于正離子,絕緣靶表面帶負(fù)電,在達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡時(shí),靶處于負(fù)的偏置電位,從而使正離子對靶的濺射持續(xù)進(jìn)行,適用濺射絕緣膜。

【光學(xué)薄膜新進(jìn)展之太陽能選擇性吸收膜和高功率激光膜】 太陽能選擇性吸收膜:根據(jù)黑體輻射通用曲線可以求得太陽約有98%的輻射能分布在0.17~2.5Lm的光譜范圍,其中有90%的輻射能位于0.4~2.0Lm的可見光、近紅外范圍。隨著人們對太陽能的充分利用,用于太陽能光熱轉(zhuǎn)換的太陽能選擇性吸收膜具有很大的研究價(jià)值和廣fan的應(yīng)用前景,引起科研人員的極大興趣。 高功率激光膜:準(zhǔn)分子激光正在廣fan應(yīng)用于分析化學(xué)、光譜學(xué)、半導(dǎo)體工藝、激光泵浦、激光聚變、光化學(xué)、醫(yī)學(xué)和空間技術(shù)等領(lǐng)域。紫外反射鏡是準(zhǔn)分子激光器的重要光學(xué)元件,但所選用的膜料比可見光區(qū)和近紅外區(qū)膜料非常有限,制備工藝特別復(fù)雜。而金屬反射鏡已經(jīng)不能滿足技術(shù)的要求,所以必須研制低損耗的全介質(zhì)反射鏡。 光學(xué)鍍膜機(jī)該如何維修。

【光學(xué)鍍膜之何為物理蒸鍍】物理蒸鍍就是把物質(zhì)加熱揮發(fā),然后將其蒸氣沉積在預(yù)定的基材上。由于蒸發(fā)源須加熱揮發(fā),又是在真空中進(jìn)行,故亦稱為熱蒸鍍或真空蒸鍍。 其可分為三個(gè)步驟 (1)凝態(tài)的物質(zhì)被加熱揮發(fā)成汽相 (2)蒸汽在具空中移動(dòng)一段距離至基材 (3)蒸汽在基材上冷卻凝結(jié)成薄膜 膜厚的量測方法有哪些呢, 大致上可分為原位量測、離位量測兩類:原位星測系指鍍膜進(jìn)行中量測,普遍使用在物理qi相沉積,如微天平、光學(xué)、電阻量測。 離位量測系指鍍膜完成后量測,對電鍍膜的行使較為普遍,具有了解電鍍效率的目的,如質(zhì)量、剖面計(jì)、掃描式電子顯微鏡。 光學(xué)鍍膜機(jī)的培訓(xùn)資料。浙江伯恩光學(xué)鍍膜機(jī)

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【光學(xué)鍍膜機(jī)維護(hù)與保養(yǎng)之光路的檢修與維護(hù)】光路調(diào)整的先決條件是:確保直流穩(wěn)定電源、調(diào)制光源頭、光纖、光柵單色儀、光電轉(zhuǎn)換放大器、光學(xué)膜厚儀及各專yong電纜的完好和正確接入。特別是光電轉(zhuǎn)換放大器、光學(xué)膜厚測量儀的接地點(diǎn),必須單獨(dú)歸至主機(jī)接點(diǎn)牢固接地。 導(dǎo)磁板及掃描圈的維護(hù):導(dǎo)磁板及永磁鐵是不需要經(jīng)常拆卸維護(hù),如需拆卸,請注意永磁鐵的極向,及導(dǎo)磁板的方向。線圈由于安裝的空間密實(shí),請不要使用硬尖的東西撬動(dòng),否則有可能會(huì)造成損壞。 浙江伯恩光學(xué)鍍膜機(jī)

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