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江西2050光學(xué)鍍膜機

來源: 發(fā)布時間:2021-12-17

【光學(xué)鍍膜之減反射膜技術(shù)】 1)鍍膜前準(zhǔn)備:鏡片在接受鍍膜前必須進行分子級的預(yù)清洗。在清洗槽中分別放置各種清洗液,并采用超聲波加強清洗效果,當(dāng)鏡片清洗完后,放進真空艙內(nèi),在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。*后的清洗是在真空艙內(nèi),在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。*后的清洗是在真空艙內(nèi)鍍前進行的,放置在真空艙內(nèi)的離子qiang將轟擊鏡片的表面(例如用氬離子),完成此道清洗工序后即進行減反射膜的鍍膜。 2)真空鍍膜:真空蒸發(fā)工藝能夠保證將純質(zhì)的鍍膜材料鍍于鏡片的表面,同時在蒸發(fā)過程中,對鍍膜材料的化學(xué)成分能嚴(yán)密控制。真空蒸發(fā)工藝能夠?qū)τ谀拥暮穸染_控制,精度達到。 3)膜層牢固性:對眼鏡片而言,膜層的牢固性是至關(guān)重要的,是鏡片重要的質(zhì)量指標(biāo)。鏡片的質(zhì)量指標(biāo)包括鏡片抗磨損、抗文化館、抗溫差等。因此現(xiàn)在有了許多針對性的物理化學(xué)測試方法,在模擬戴鏡者的使用條件下,對鍍膜鏡片進行膜層牢度質(zhì)量的測試。這些測試方法包括:鹽水試驗、蒸汽試驗、去離子水試驗、鋼絲絨磨擦試驗、溶解試驗、黏著試驗、溫差試驗和潮濕度試驗等等。 光學(xué)鍍膜機詳細鍍膜方法。江西2050光學(xué)鍍膜機

【光學(xué)鍍膜機電子qiang打火問題】 電子qiang在蒸鍍時,由于電子束中的電子與氣體分子和蒸發(fā)材料的蒸汽發(fā)生碰撞產(chǎn)生的離子轟擊帶負電高壓電極及其引線,即產(chǎn)生打火。另外,若這些帶負高壓電的部分有塵粒等雜物,會使該處電場集中了容易打火。故電子束蒸鍍設(shè)備的高壓電源都附有高壓自動滅弧復(fù)位裝置,在打火非常嚴(yán)重時才會自動切斷高壓,然后又自動恢復(fù),切斷與恢復(fù)的時間愈短,愈不會影響蒸鍍工藝。 高壓引線應(yīng)盡量短,并用接地良好的不銹鋼板屏蔽住,不要追求美觀把引線彎來彎去。 qiang頭金屬件和引線定期用細砂紙打光,然后用丙tong清洗干凈。上螺釘?shù)穆菘锥ㄆ谟媒z錐攻螺孔,以便螺釘上下方便并保證壓的很緊。 所有陶瓷件污染后應(yīng)予更換。 電子qiang體應(yīng)可靠接地。 對放氣量大的材料應(yīng)充分預(yù)熱以徹底除氣。蒸鍍時功率要合適,不可過高造成材料飛濺。 高壓饋線與高壓絕緣子金屬件的接線一定要可靠并經(jīng)常檢查,以免增大接觸電阻造成發(fā)熱而燒壞。 蒸發(fā)檔板應(yīng)高于蒸發(fā)源70mm. 江西2050光學(xué)鍍膜機光學(xué)鍍膜機的操作培訓(xùn)。

【濺射鍍膜的特點】濺射鍍膜不受膜材熔點的限制,可濺射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等難熔物質(zhì)。濺鍍具有電鍍層與基材的結(jié)合力強,電鍍層致密,均勻等優(yōu)點。濺射粒子幾不受重力影響,靶材與基板位置可自由安排,薄膜形成初期成核密度高,可生產(chǎn)10nm以下的極薄連續(xù)膜,靶材的壽命長,可長時間自動化連續(xù)生產(chǎn)。靶材可制作成各種形狀,配合機臺的特殊設(shè)計做更好的控制及*有效率的生產(chǎn) 濺鍍利用高壓電場做發(fā)生等離子鍍膜物質(zhì),使用幾乎所有高熔點金屬,合金和金屬氧化物,如:鉻,鉬,鎢,鈦,銀,金等.但加工成本相對較高。

【光學(xué)濾光片之按光譜特性區(qū)分】:帶通濾光片、短波截止濾光片、長波截止濾光片。 帶通型濾光片:選定特定波段的光通過,通帶以外的光截止。其光學(xué)指標(biāo)主要是中心波長(CWL),半帶寬(FWHM),中心波長透過率(Tp),截止度及截止范圍。按帶寬分為窄帶和寬帶,通常按帶寬比中心波長的值來區(qū)分,小于2%來定為窄帶,大于2%定為寬帶。比如窄帶BP808-10濾光片,寬帶的如BP650-80。 短波通型(又叫低波通):短于選定波長的光通過,長于該波長的光截止。 比如紅外截止濾光片,IR-CUT-650。 長波通型(又叫高波通):長于選定波長的光通過,短于該波長的光截止 比如紅外透過濾光片,LWP-700。 電子束蒸發(fā)光學(xué)鍍膜機是什么?

【新型光學(xué)薄膜的典型應(yīng)用】現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)特別是激光技術(shù)和信息光學(xué)的發(fā)展,光學(xué)薄膜不jin用于純光學(xué)器件,在光電器件、光通信器件上也得到廣fan的應(yīng)用。近代信息光學(xué)、光電子技術(shù)及光子技術(shù)的發(fā)展,對光學(xué)薄膜產(chǎn)品的長壽命、高可靠性及高qiang度的要求越來越高,從而發(fā)展了一系列新型光學(xué)薄膜及其制備技術(shù),并為解決光學(xué)薄膜產(chǎn)業(yè)化面臨的問題提供了quan面的解決方案。包括高qiang度激光器、金剛石及類金剛石膜、軟X射線多層膜、太陽能選擇性吸收膜和光通信用光學(xué)膜等。關(guān)于光學(xué)鍍膜機,你知道多少?江西2050光學(xué)鍍膜機

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【光學(xué)薄膜的研究新進展之軟X射線多層膜】意大利、英國、法國、美國和俄羅斯等國對軟X射線多層膜開展了廣fan研究,軟X射線的光譜區(qū)為1~30nm,據(jù)報道,不同波長的各種軟X射線多層膜都取得了可喜的成績。 采用離子束濺射和磁控濺射等鍍膜技術(shù)制備的軟X射線多層膜,在X光激光器、X射線望遠鏡等高技術(shù)方面得到應(yīng)用;近年來,X射線天文學(xué)、軟X射線顯微術(shù)、軟X射線投影光刻以及軟X射線激光均取得了很好的發(fā)展,其中軟X射線多層膜起著關(guān)鍵作用。意大利和荷蘭聯(lián)合研制并成功發(fā)射了探測X射線的衛(wèi)星以及發(fā)射了“多面鏡X射線觀測衛(wèi)星”,均使用了軟X射線多層膜;美國已多次發(fā)射帶有正入射的X射線多層膜系統(tǒng)的衛(wèi)星,得到了4.4~30.4″nm波段的高分辨率太陽圖像。 江西2050光學(xué)鍍膜機

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