【光學(xué)薄膜的研究新進(jìn)展之金剛石薄膜及類金剛石薄膜】金剛石被認(rèn)為是自然界中*硬的物質(zhì)。在自然界中，碳以3種同位素異型體的形式存在，非晶態(tài)的炭黑、六方片狀結(jié)構(gòu)的石墨和立方體的金剛石。金剛石薄膜具有高硬度、高密度、熱導(dǎo)率高、全波段透光率高、高絕緣、抗輻射、化學(xué)惰性強(qiáng)和耐高溫、彈性模量大，摩擦系數(shù)jin為0.05。金剛石薄膜的高熱導(dǎo)率、高摩擦系數(shù)和良好的透光性也使其常作為導(dǎo)彈的整流罩材料。 類金剛石(diamond-likecarbon，DLC)薄膜是碳的一種非晶態(tài)，它含有大量的sp3鍵，硬度超過(guò)金剛石硬度20%的絕緣硬質(zhì)無(wú)定形碳膜，被稱為類金剛石膜，類金剛石膜具有高硬度、高電阻率、熱傳導(dǎo)率高、化學(xué)惰性強(qiáng)、良好的光學(xué)性能等，同時(shí)又具有自身獨(dú)特摩擦學(xué)特性的非晶碳膜。隨著人們研究的深入，人們發(fā)現(xiàn)類金剛石膜具有很大的研究?jī)r(jià)值和廣fan的應(yīng)用前景，引起學(xué)術(shù)界極大興趣。美國(guó)已經(jīng)將類金剛石薄膜材料作為國(guó)家21世紀(jì)的戰(zhàn)略材料之一。 光學(xué)鍍膜機(jī)故障解決方法？吉林蔡司光學(xué)鍍膜機(jī)

【光學(xué)薄膜制備技術(shù)之物理qi相學(xué)沉積(PVD)】 物理qi相沉積法，簡(jiǎn)單地說(shuō)是在真空環(huán)境中加熱薄膜材料使其成為蒸汽，蒸汽再凝結(jié)到溫度相對(duì)低的基片上形成薄膜。根據(jù)膜料汽化方式的不同，又分為熱蒸發(fā)、濺射、離子鍍及離子輔助鍍技術(shù)。 1) 熱蒸發(fā)：光學(xué)薄膜器件主要采用真空環(huán)境下的熱蒸發(fā)方法制造，此方法簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì)、操作方便。 2) 濺射：指用高速正離子轟擊膜料(靶)表面，通過(guò)動(dòng)量傳遞，使其分子或原子獲得足夠的動(dòng)能而從靶表面逸出(濺射)，在被鍍件表面凝聚成膜。其膜層附著力強(qiáng)，純度高，可同時(shí)濺射多種不同成分的合金膜或化合物。 3) 離子鍍：兼有熱蒸發(fā)的高成膜速率和濺射高能離子轟擊獲得致密膜層的雙優(yōu)效果，離子鍍膜層附著力強(qiáng)、致密。離子鍍常見(jiàn)類型:蒸發(fā)源和離化方式。 4) 離子輔助鍍：在熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中增設(shè)離子發(fā)生器—離子源，產(chǎn)生離子束，在熱蒸發(fā)進(jìn)行的同時(shí)，用離子束轟擊正在生長(zhǎng)的膜層，形成致密均勻結(jié)構(gòu)(聚集密度接近于1)，使膜層的穩(wěn)定性提高，達(dá)到改善膜層光學(xué)和機(jī)械性能。 陜西光學(xué)鍍膜機(jī)開(kāi)機(jī)光學(xué)鍍膜機(jī)的工作原理。

【光學(xué)鍍膜之減反射膜技術(shù)】 1）鍍膜前準(zhǔn)備：鏡片在接受鍍膜前必須進(jìn)行分子級(jí)的預(yù)清洗。在清洗槽中分別放置各種清洗液，并采用超聲波加強(qiáng)清洗效果，當(dāng)鏡片清洗完后，放進(jìn)真空艙內(nèi)，在此過(guò)程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。*后的清洗是在真空艙內(nèi)，在此過(guò)程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。*后的清洗是在真空艙內(nèi)鍍前進(jìn)行的，放置在真空艙內(nèi)的離子qiang將轟擊鏡片的表面（例如用氬離子），完成此道清洗工序后即進(jìn)行減反射膜的鍍膜。 2）真空鍍膜：真空蒸發(fā)工藝能夠保證將純質(zhì)的鍍膜材料鍍于鏡片的表面，同時(shí)在蒸發(fā)過(guò)程中，對(duì)鍍膜材料的化學(xué)成分能嚴(yán)密控制。真空蒸發(fā)工藝能夠?qū)τ谀拥暮穸染_控制，精度達(dá)到。 3）膜層牢固性：對(duì)眼鏡片而言，膜層的牢固性是至關(guān)重要的，是鏡片重要的質(zhì)量指標(biāo)。鏡片的質(zhì)量指標(biāo)包括鏡片抗磨損、抗文化館、抗溫差等。因此現(xiàn)在有了許多針對(duì)性的物理化學(xué)測(cè)試方法，在模擬戴鏡者的使用條件下，對(duì)鍍膜鏡片進(jìn)行膜層牢度質(zhì)量的測(cè)試。這些測(cè)試方法包括：鹽水試驗(yàn)、蒸汽試驗(yàn)、去離子水試驗(yàn)、鋼絲絨磨擦試驗(yàn)、溶解試驗(yàn)、黏著試驗(yàn)、溫差試驗(yàn)和潮濕度試驗(yàn)等等。

    【光學(xué)鍍膜機(jī)電子qiang打火問(wèn)題】電子qiang在蒸鍍時(shí)，由于電子束中的電子與氣體分子和蒸發(fā)材料的蒸汽發(fā)生碰撞產(chǎn)生的離子轟擊帶負(fù)電高壓電極及其引線，即產(chǎn)生打火。另外，若這些帶負(fù)高壓電的部分有塵粒等雜物，會(huì)使該處電場(chǎng)集中了容易打火。故電子束蒸鍍?cè)O(shè)備的高壓電源都附有高壓自動(dòng)滅弧復(fù)位裝置，在打火非常嚴(yán)重時(shí)才會(huì)自動(dòng)切斷高壓，然后又自動(dòng)恢復(fù)，切斷與恢復(fù)的時(shí)間愈短，愈不會(huì)影響蒸鍍工藝。高壓引線應(yīng)盡量短，并用接地良好的不銹鋼板屏蔽住，不要追求美觀把引線彎來(lái)彎去。qiang頭金屬件和引線定期用細(xì)砂紙打光，然后用丙tong清洗干凈。上螺釘?shù)穆菘锥ㄆ谟媒z錐攻螺孔，以便螺釘上下方便并保證壓的很緊。所有陶瓷件污染后應(yīng)予更換。電子qiang體應(yīng)可靠接地。對(duì)放氣量大的材料應(yīng)充分預(yù)熱以徹底除氣。蒸鍍時(shí)功率要合適，不可過(guò)高造成材料飛濺。高壓饋線與高壓絕緣子金屬件的接線一定要可靠并經(jīng)常檢查，以免增大接觸電阻造成發(fā)熱而燒壞。 國(guó)產(chǎn)光學(xué)鍍膜機(jī)哪家好？

【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之真空蒸鍍法】真空蒸發(fā)鍍膜法（簡(jiǎn)稱真空蒸鍍法，Vacuum Evaporation) 是指在一定的真空條件下，利用高溫加熱蒸鍍材料（金屬合金或金屬氧化物）到一定溫度條件下， 使其原子或分子從表面汽化逸出，形成蒸汽流，并飛行濺射到玻璃基板表面凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。 由于真空蒸鍛法的主要物理過(guò)程是通過(guò)加熱蒸發(fā)材料而產(chǎn)生，所以又稱熱蒸發(fā)法。蒸發(fā)源作為蒸發(fā)裝置的關(guān)鍵部件，大多數(shù)蒸發(fā)材料都要求在1000-2000℃的高溫下蒸發(fā)。真空蒸鍍法按蒸發(fā)源的不同可分為電阻法、電子束蒸發(fā)法、高頻感應(yīng)法和激光蒸發(fā)法等。目前，采用真空蒸鍍法生產(chǎn)鍍膜玻璃的均是采用間歇式生產(chǎn)。 光學(xué)鍍膜機(jī)的升級(jí)改造。福建光學(xué)鍍膜機(jī)廠家

關(guān)于光學(xué)鍍膜機(jī)，你知道多少？吉林蔡司光學(xué)鍍膜機(jī)

【光學(xué)真空鍍膜之電子qiang蒸鍍系統(tǒng)注意事項(xiàng)】 光學(xué)真空鍍膜機(jī)電子qiang蒸鍍法比傳統(tǒng)熱電阻式加熱法的熱轉(zhuǎn)換效率高而秏能少,對(duì)蒸鍍材料的選擇方面受限較少。以純?cè)刂翦兌?電阻式蒸鍍受限于加熱溫度,多半只從事鋁、鉻、金、銀等少數(shù)幾種薄膜，電子束蒸鍍則可制鍍高熔點(diǎn)材料如鎢、鉬等金屬和活性甚強(qiáng)的鈦、鈮等金屬,即便是很難使用濺鍍技術(shù)制備的磁性材料如鐵、鈷、鎳等金屬,亦能夠蒸鍍出品質(zhì)良好的薄膜。為了顧及薄膜純度,在操作技巧上純?cè)刂翦兺ǔ２扇「哒婵斩扰c高蒸鍍速率的鍍膜條件?；衔锊牧先缪趸铩⒘蚧?、氮化物及氟化物等皆可使用電子qiang蒸鍍方式,部份材料在被電子束加熱蒸發(fā)過(guò)程中會(huì)因高熱而發(fā)生解離現(xiàn)象,這也是蒸鍍法的主要缺點(diǎn),通常是采用反應(yīng)式蒸鍍方式解決,為了確保薄膜形成時(shí)缺乏的部份能利用基板高溫在反應(yīng)過(guò)程將其補(bǔ)足,在操作上鍍膜速率必須適切地降低。部分屬于絕緣性的化合物在連續(xù)被電子轟擊時(shí)會(huì)有負(fù)電荷累積問(wèn)題,使得后續(xù)電子受負(fù)電位排斥而無(wú)法完全抵達(dá)待鍍材料表面,因此坩堝座在電路設(shè)計(jì)上是使其呈接地電位,以協(xié)助累積之負(fù)電荷順利導(dǎo)出,這在小型坩堝是相當(dāng)有效,但對(duì)大型坩堝則很難避免有些許鍍膜速率不穩(wěn)定情形。 吉林蔡司光學(xué)鍍膜機(jī)

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