【光譜分光不良的補救（補色）之機器故障和人為中斷】： 分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制完成后，經測試分光不良，此類不良主要按六節(jié)所述方法處理，一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷（包括發(fā)現錯誤中斷）造成的分光不良，一般都可以通過后續(xù)努力補救。后續(xù)方法正確，補救成功率比較高。 中斷的原因形式之機器故障和人為中斷： 模擬：根據已經實鍍的鏡片（測試比較片）實測分光數據輸入計算機膜系設計程序的優(yōu)化目標值，再根據已經掌握的膜系信息輸入，采用倒推法逐層優(yōu)化，模擬出實際鍍制的膜系數據。 *測試比較片是指隨鏡片一起鍍制（在傘片上、與鏡片同折射率），用于測試鍍后分光曲線的平片。 優(yōu)化：再鎖定通過模擬得到的膜系數據，通過后續(xù)層膜厚優(yōu)化找到實現目標的Zui佳方案。 試鍍：根據新優(yōu)化的后續(xù)膜層數據，試鍍若干鏡片或測試片，確認補色膜系的可行性。 補色鍍：對試鍍情況確認后實施補色鍍。補色鍍前，確認基片是否潔凈，防止產生其他不良。 關于真空鍍膜設備，你知道多少？中國臺灣米尼真空鍍膜設備廠

【真空鍍膜改善薄膜應力】： 1. 鍍后烘烤，Zui后一層膜鍍完后，烘烤不要馬上停止，延續(xù)10分鐘“回火”。讓膜層結構趨于穩(wěn)定。 2. 降溫時間適當延長，退火時效。減少由于真空室內外溫差過大帶來的熱應力。 3. 對高反膜、濾光膜等在蒸鍍過程中，基片溫度不宜過高，高溫易產生熱應力。并且對氧化鈦、氧化鉭等膜料的光學穩(wěn)定性有負面影響。 4. 鍍膜過程離子輔助，減少應力。 5. 選擇合適的膜系匹配，第yi層膜料與基片匹配。 6. 適當減小蒸發(fā)速率。 7. 對氧化物膜料全部充氧反應鍍，根據不同膜料控制氧進氣量。 湖南真空鍍膜設備技術規(guī)范真空鍍膜設備怎么保養(yǎng)？

【真空鍍膜濺射種類】： 1、反應濺射：氧化物，氮化物作為沉積物質 現象：①：靶材分子分裂，其于工藝氣體離子發(fā)生反應，形成化合物 ②：膜層性能改變 ③：靶材有可能中毒 2、二極濺射：二極濺射是一種經典的標準濺射技術，其中等離子體和電子均只沿著電場方向運動。 特征：①：無磁場 ②：濺射率低 ③：放電電壓高（＞500V） ④：鍍膜底物受熱溫度極易升高（＞500°C） 用途：主要用于金屬靶材、絕緣靶材、磁性靶材等的濺射鍍。 3、磁控濺射：暗區(qū)無等離子體產生，在磁控濺射下，電子呈螺旋形運動，不會直接沖向陽極。而是在電場力和磁場力的綜合作用在腔室內做螺旋運動。同時獲的能量而和工藝氣體以及濺射出的靶材原子進行能量交換，使氣體及靶材原子離子化，dada提高氣體等離子體密度，從而提高了濺射速率（可提高10—20倍）和濺射均勻性。

【真空鍍膜設備的分類】： 這個問題如果在十年之前，其實是很容易回答的，就是兩個大類，物理沉積設備和化學沉積設備。現在這樣回答也是沒錯的，但現在再這樣回答就沒辦法把事情說清楚了，所以從應用領域上可以分成以下幾類： 傳統(tǒng)光學器件（鏡片，濾光片）所用的鍍膜設備：單腔體或多腔體蒸發(fā)式鍍膜設備，濺射式鍍膜設備。 新材料領域的柔性設備：卷對卷柔性鍍膜設備。 光通訊行業(yè)：離子束濺射鍍膜設備。 半導體及相似工藝：化學氣相沉積設備。 功能膜：多弧離子鍍設備，濺射設備，蒸發(fā)設備 玻璃工藝：濺射式連續(xù)線 其余的就得歸到“工藝定制設備”這個范圍里面了，例如車燈鍍膜設備，太陽能的共蒸發(fā)設備，光纖鍍膜設備，太陽能管設備等等 真空鍍膜設備操作培訓。

【濺射的四要素】：①靶材物質，②電磁場，③底物，④一整套完整配備的鍍膜設備 【濺射收益】：1)離子每一次撞擊靶材時，靶材所釋放出的靶材原子；2)影響濺射收益的因素： ①等離子體中離子動能, ②入射離子的入射角度; 3)Zui大濺射收益的決定因素：①入射角度在45°&50°左右,②取決于靶材物質; 4)入射角度的影響因素 ①由電場決定,②靶材表面于入射源的相對角度。 【濺射率】： 定義：每單位時間內靶材物質所釋放出的原子個數。 濺射率的影響因素：①離子動能（取決于電源電壓和氣體壓力）②等離子密度（取決于氣體壓力和電流）。統(tǒng)計學公式：Rs(統(tǒng)計學)=d/t。 注：濺射原子溢出角度大部分在0~10度之間，因此在腔室內所有區(qū)域都可能被鍍上一層膜，久之會產生污染。所以真空濺射腔室內必須進行定期清潔。 真空鍍膜設備升級改造。湖南真空鍍膜設備技術規(guī)范

真空鍍膜設備常見故障及解決方法。中國臺灣米尼真空鍍膜設備廠

【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之單片膜色不均勻】： 原因：主要是由于基片凹凸嚴重，與傘片曲率差異較大，基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大，形成的膜厚差異大。另外鏡片被鏡圈（碟片）邊緣部遮擋、鏡圈（碟片）臟在蒸鍍時污染鏡片等也會造成膜色差異問題。 改善對策：改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角 1. 條件許可，用行星夾具 2. 選用傘片平坦（R大）的機臺 3. 根據傘片孔位分布，基片形狀，制作專門的鋸齒形修正板。 4. 如果有可能，把蒸發(fā)源往真空室中間移動，也可改善單片的膜色均勻性。 5. 改善鏡圈（碟片），防止遮擋。 6. 注意旋轉傘架的相應部位對邊緣鏡片的部分遮擋 7. 清潔鏡圈（碟片） 8. 改善膜料蒸發(fā)狀況。中國臺灣米尼真空鍍膜設備廠

成都國泰真空設備有限公司致力于機械及行業(yè)設備，是一家生產型的公司。公司業(yè)務涵蓋光學鍍膜設備，真空鍍膜設備，光學真空鍍膜機，紅外鍍膜設備等，價格合理，品質有保證。公司注重以質量為中心，以服務為理念，秉持誠信為本的理念，打造機械及行業(yè)設備良好品牌。國泰真空秉承“客戶為尊、服務為榮、創(chuàng)意為先、技術為實”的經營理念，全力打造公司的重點競爭力。