【濺射的四要素】：①靶材物質(zhì)，②電磁場，③底物，④一整套完整配備的鍍膜設(shè)備 【濺射收益】：1)離子每一次撞擊靶材時，靶材所釋放出的靶材原子；2)影響濺射收益的因素： ①等離子體中離子動能, ②入射離子的入射角度; 3)Zui大濺射收益的決定因素：①入射角度在45°&50°左右,②取決于靶材物質(zhì); 4)入射角度的影響因素 ①由電場決定,②靶材表面于入射源的相對角度。 【濺射率】： 定義：每單位時間內(nèi)靶材物質(zhì)所釋放出的原子個數(shù)。 濺射率的影響因素：①離子動能（取決于電源電壓和氣體壓力）②等離子密度（取決于氣體壓力和電流）。統(tǒng)計學(xué)公式：Rs(統(tǒng)計學(xué))=d/t。 注：濺射原子溢出角度大部分在0~10度之間，因此在腔室內(nèi)所有區(qū)域都可能被鍍上一層膜，久之會產(chǎn)生污染。所以真空濺射腔室內(nèi)必須進(jìn)行定期清潔。 真空鍍膜設(shè)備怎么維修。安徽金華真空鍍膜設(shè)備廠家

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜強(qiáng)度】： 膜強(qiáng)度時鏡片鍍膜的一項重要指標(biāo)，也是鍍膜工序Zui常見的不良項。 膜強(qiáng)度的不良（膜弱）主要表現(xiàn)為： 1. 擦拭專yong膠帶拉撕，產(chǎn)生成片脫落 2. 擦拭專yong膠帶拉撕，產(chǎn)生點(diǎn)狀脫落 3. 水煮15分鐘后用專yong膠帶拉撕產(chǎn)生點(diǎn)狀或片狀脫落 4. 用專yong橡皮頭、1Kg力摩擦40次，有道子產(chǎn)生 5. 膜層擦拭或未擦拭出現(xiàn)龜裂紋、網(wǎng)狀細(xì)道子 改善思路：基片與膜層的結(jié)合是首要考慮的，其次是膜表面硬度光滑度以及膜應(yīng)力。 天津塑料真空鍍膜設(shè)備真空鍍膜設(shè)備培訓(xùn)資料。

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜臟】： 顧名思義，膜層有臟。一般的膜臟發(fā)生在膜內(nèi)或膜外。臟也可以包括：灰塵點(diǎn)、白霧、油斑、指紋印、口水點(diǎn)等。 改善對策：檢討過程，杜絕臟污染。 1. 送交洗凈或擦拭的鏡片不要有過多的不良附著物。 2. 加強(qiáng)鍍前鏡片的洗凈率或擦凈率。 3. 改善上傘后待鍍膜鏡片的擺放環(huán)境，防止污染。 4. 養(yǎng)成上傘作業(yè)員的良好習(xí)慣，防止鏡片污染。 5. 加快真空室護(hù)板更換周期。 6. 充氣管道清潔，防止氣體充入時污染。 7. 初始排期防渦流（湍流），初始充氣防過充。 8. 鏡片擺放環(huán)境和搬運(yùn)過程中避免油污、水汽。 9. 工作環(huán)境改造成潔凈車間。 10. 將鍍膜機(jī)作業(yè)面板和主機(jī)隔開，減少主機(jī)產(chǎn)生的有害物質(zhì)污染鏡片。

【光譜分光不良的補(bǔ)救（補(bǔ)色）之停電】： 分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制完成后，經(jīng)測試分光不良，此類不良主要按六節(jié)所述方法處理，一般減反膜難以補(bǔ)救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補(bǔ)救。二是鍍制中途中斷（包括發(fā)現(xiàn)錯誤中斷）造成的分光不良，一般都可以通過后續(xù)努力補(bǔ)救。后續(xù)方法正確，補(bǔ)救成功率比較高。 中斷的原因形式之停電： 對于停電這種情況，比較好處理，只要確認(rèn)前面鍍的沒錯，程序沒有用錯，就可以繼續(xù)原來的程序，要注意的是：如果某一層鍍了一部分繼續(xù)鍍下去時，交接處要減少一些膜厚（根據(jù)膜料、蒸發(fā)速率決定減少多少，一般時0.2~1nm左右），如果該層剩下的膜厚不足15~20秒蒸鍍時，要考慮降低蒸發(fā)速率或干脆不讀，通過后續(xù)層調(diào)整膜厚解決。 光學(xué)真空鍍膜設(shè)備制造商。

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜內(nèi)白霧】： 白霧形成在膜內(nèi)，無法用擦拭方法去除。 可能成因： 1. 基片臟 2. 鏡片表面腐蝕污染 3. 膜料與膜料之間、膜料與基片之間的匹配 4. 氧化物充氧不夠 5. 第yi層氧化鋯膜料，可能對某些基片產(chǎn)生白暈現(xiàn)象 6. 基片進(jìn)罩前（洗凈后）受潮氣污染 7. 洗凈或擦拭不良，洗凈痕跡，擦拭痕跡 8. 真空室臟、水汽過重 9. 環(huán)境濕度大 改善對策：基片本身的問題可能時主要的鍍膜室盡量彌補(bǔ)，鍍膜本身Zui大的可能室膜料匹配問題。 1. 改進(jìn)膜系，第yi層不用氧化鋯 2. 盡量減少真空室開門時間 3. 真空室在更換護(hù)板、清潔后，Zui好能空罩抽真空烘烤一下，更換的護(hù)板等真空室部件必須干燥、干凈 4. 改善環(huán)境 5. 妥善保護(hù)進(jìn)罩前在傘片上的鏡片，免受污染 6. 改善洗凈、擦拭效果 7. 改善膜匹配（考慮第yi層用Al2O3） 8. 改善膜充氧和蒸發(fā)速率（降低） 9. 加快前工程的流程。前工程對已加工光面的保護(hù)加強(qiáng)。 10. 拋光加工完成的光面，必須立即清潔干凈，不能有拋光粉或其他雜質(zhì)附著干結(jié)。 國產(chǎn)真空鍍膜設(shè)備哪家好？四川大型真空鍍膜設(shè)備

真空鍍膜設(shè)備技術(shù)教程。安徽金華真空鍍膜設(shè)備廠家

【真空鍍膜簡介】： 真空（vacuum）是一種沒有任何物質(zhì)的空間狀態(tài)，因為真空之中沒有介質(zhì)，所以像聲音這種需要介質(zhì)傳遞的能量在真空中是無法傳播的。1654年當(dāng)時的馬德堡市zhang奧&托&格里克在今tian德國雷根斯堡進(jìn)行了一項實驗，從而證明了真空是存在的?，F(xiàn)在我們所說的真空并不是指空間內(nèi)沒有任何物質(zhì)，而是指在一個既定的空間內(nèi)低于一個大氣壓的氣體狀態(tài)，我們把這種稀薄的狀態(tài)稱為真空?，F(xiàn)在的真空鍍膜技術(shù)是在真空中把金屬、合金進(jìn)行蒸發(fā)、濺射使其沉積在目標(biāo)物體上。 在當(dāng)今電子行業(yè)，很多的電子元器件都要使用真空鍍膜工藝，雖然我國的真空鍍膜技術(shù)起步較晚，但發(fā)展的十分迅速。真空鍍膜已經(jīng)成為電子元器件制造的一項不可或缺的技術(shù)。目前的真空鍍膜技術(shù)主要分為：真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍。 安徽金華真空鍍膜設(shè)備廠家

成都國泰真空設(shè)備有限公司致力于機(jī)械及行業(yè)設(shè)備，是一家生產(chǎn)型的公司。公司業(yè)務(wù)涵蓋光學(xué)鍍膜設(shè)備，真空鍍膜設(shè)備，光學(xué)真空鍍膜機(jī)，紅外鍍膜設(shè)備等，價格合理，品質(zhì)有保證。公司秉持誠信為本的經(jīng)營理念，在機(jī)械及行業(yè)設(shè)備深耕多年，以技術(shù)為先導(dǎo)，以自主產(chǎn)品為重點(diǎn)，發(fā)揮人才優(yōu)勢，打造機(jī)械及行業(yè)設(shè)備良好品牌。國泰真空憑借創(chuàng)新的產(chǎn)品、專業(yè)的服務(wù)、眾多的成功案例積累起來的聲譽(yù)和口碑，讓企業(yè)發(fā)展再上新高。