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陜西旭日光學(xué)鍍膜設(shè)備

來源: 發(fā)布時間:2021-01-02

【檢測光學(xué)鍍膜機(jī)鍍膜膜厚均勻性的方法】一種檢測光學(xué)鍍膜機(jī)鍍膜膜厚均勻性的方法,包括下列步驟:第一步:設(shè)計本發(fā)明雙腔濾光片膜系;第二步:模擬計算膜層厚度變化對所訴雙腔濾光片峰值透過率及中心波長的影響;第三步:計算尖峰極值點(diǎn)透過率比值與膜層光學(xué)厚度比值,中心波長與總光學(xué)厚度,兩組數(shù)學(xué)關(guān)系.第四步:根據(jù)第三步的數(shù)學(xué)關(guān)系,求解計算膜厚的公式;第五步:從工件盤中心到邊緣擺放數(shù)量大于2的基片,沉積本發(fā)明所述雙腔濾光片,測量出每一片的中心波長和尖峰極值透過率,用第四步的公式計算出每一片兩種膜層厚度,得到鍍膜機(jī)鍍膜膜厚度分布即膜厚均勻性.實(shí)驗表明:本發(fā)明可以快速準(zhǔn)確獲得光學(xué)鍍膜機(jī)鍍膜膜厚均勻性數(shù)據(jù),為鍍膜機(jī)鍍膜膜厚均勻性修正提供依據(jù)。光學(xué)鍍膜設(shè)備為什么會越來越慢?陜西旭日光學(xué)鍍膜設(shè)備

【光學(xué)鍍膜破邊、炸裂不良改善對策】一般的鍍膜會對基片加熱,由干基片是裝架在金屬(鋁、銅、不銹鋼)圈,碟內(nèi),由干鏡圈或碟片與鏡片(基片)的熱膨脹系數(shù)不一致,冷卻過程中會造成鏡片的破邊或炸裂。有些大鏡片,由干出置時的溫度較高,與室溫的溫差較大,鏡片的執(zhí)應(yīng)力作用造成鏡片炸烈或破邊有些零件邊緣倒邊的形狀容易造成卡圈而破邊。 如何改善對策: 1.夾具(鏡圈、碟片)的設(shè)計,在尺寸配合上要合理,充分考慮制造誤差帶來的影響。 2.注意鏡圈、碟片的變形,已經(jīng)變形的夾具不能使用。 3.選用合適的夾具材料(非導(dǎo)磁材料、不生銹、耐高溫不變形),不銹鋼較為理想(熱變形系數(shù)小),就是加工難度大,價格貴。 4.對于大鏡片應(yīng)降低出罩時的溫度,減少溫差,防止炸裂。 5.如果是鏡圈,可以考慮在鏡圈上開槽,作為緩沖(鏡圈的使用壽命會減少很多) 廣西金屬光學(xué)鍍膜設(shè)備紅外光學(xué)鍍膜設(shè)備制造商。

【磁控濺射鍍光學(xué)膜的技術(shù)路線】 (a)陶瓷靶濺射:靶材采用金屬化合物靶材,可以直接沉積各種氧化物或者氮化物,有時候為了得到更高的膜層純度,也需要通入一定量反應(yīng)氣體); (b)反應(yīng)濺射:靶材采用金屬或非金屬靶,通入稀有和反應(yīng)氣體的混合氣體,進(jìn)行濺射沉積各種化合物膜層。 (c)離子輔助沉積:先沉積一層很薄的金屬或非金屬層,然后再引入反應(yīng)氣體離子源,將膜層進(jìn)行氧化或者氮化等。 采用以上三種技術(shù)方案,在濺射沉積光學(xué)膜時,都會存在靶中毒現(xiàn)象,從而導(dǎo)致膜層沉積速度非常慢,對于上節(jié)介紹各種光學(xué)膜來說,膜層厚度較厚,膜層總厚度可達(dá)數(shù)百納米。這種沉積速度顯然增加了鍍膜成本,從而限制了磁控濺射鍍膜在光學(xué)上的應(yīng)用。

【光譜特性不良產(chǎn)生的原因】膜系設(shè)計時的膜厚、折射率允差太小,試制時的分光曲線在技術(shù)要求的邊緣,制造中稍有偏差就導(dǎo)致分光不良。設(shè)計的膜料折射率與實(shí)際的折射率有差異,或發(fā)生了變異。實(shí)被的中心波長(膜厚)與希望達(dá)到的中心波長(膜厚)有差異,或發(fā)生了変異。( tooling值(也有F值)有偏差)。制造中出了差錯;如膜料用錯、程序用錯、預(yù)熔時沒關(guān)擋板等。工藝條件改變:真空度、充氧星、加熱溫度、蒸發(fā)速率、基片旋轉(zhuǎn)速度、離子輔助條件等。材料變更,如不同廠家生產(chǎn)的同種光學(xué)材料(基片材料和膜料)在光學(xué)性能化學(xué)性能有所不同(有時同廠家不同生產(chǎn)批次也有不同),生產(chǎn)過程中(特別是大批量生產(chǎn))材料突然變更(末作論證),就可能造成分光不良。 用于測試分光的比較片表面特性變異,造成分光測試不良(也許鏡片的分光是OK的,可以比較二者的反射膜se)。這也許是容易忽視的一個問題,又是一個常見的可題,特別是高折射率的測試比較片表面形成一層腐蝕層,相當(dāng)于有了一層減反膜(很薄),膜層不是堆積在基片上,而是堆積在蝕層上,于是比較片上的分光就會不準(zhǔn)確、不穩(wěn)定。 成都光學(xué)鍍膜設(shè)備廠家。

【單層反射膜】線射入玻璃基板時,會產(chǎn)生4%左右的反射而造成透過率的損失。但是,通過在玻璃基板上蒸鍍比玻璃的折射率更低的電介質(zhì)膜,可以改變玻璃基板的反射率。 調(diào)節(jié)電介質(zhì)膜的厚度使其光程(折射率n×膜厚d)為λ/4時,可以相互抵消玻璃基板和電介質(zhì)膜,電介質(zhì)膜和空氣的分界面的反射,將反射率降到*低。   但是,由于折射率受到薄膜材料的限制,所以反射率不能完全為零。而且,由于受玻璃基板折射率的限制,所以并不是所有玻璃基板都能得到防反射效果。 光學(xué)鍍膜設(shè)備培訓(xùn)資料。廣東光學(xué)鍍膜設(shè)備發(fā)展

光學(xué)鍍膜設(shè)備的工作原理。陜西旭日光學(xué)鍍膜設(shè)備

【光學(xué)薄膜的定義】 光學(xué)薄膜的定義是∶涉及光在傳播路徑過程中,附著在光學(xué)器件表面的厚度薄而均勻的介質(zhì)膜層,通過分層介質(zhì)膜層時的反射、透(折)射和偏振等特性,以達(dá)到我們想要的在某一或是多個波段范圍內(nèi)的光的全部透過或光的全部反射或偏振分離等各特殊形態(tài)的光.。 光學(xué)薄膜系指在光學(xué)元件或duli基板上,制鍍上或涂布一層或多層介電質(zhì)膜或金屬膜或這兩類膜的組合,以改變光波之傳遞特性,包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改變.故經(jīng)由適當(dāng)設(shè)計可以調(diào)變不同波段元件表面之穿透率及反射率,亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性.。 一般來說,光學(xué)薄膜的生產(chǎn)方式主要分為干法和濕法的生產(chǎn)工藝.所謂的干式就是沒有液體出現(xiàn)在整個加工過程中,例如真空蒸鍍是在一真空環(huán)境中,以電能加熱固體原物料,經(jīng)升華成氣體后附著在一個固體基材的表面上,完成涂布加工.日常生活中所看到裝飾用的金se、銀se或具金屬質(zhì)感的包裝膜,就是以干式涂布方式制造的產(chǎn)品.但是在實(shí)際量產(chǎn)的考慮下,干式涂布運(yùn)用的范圍小于濕式涂布.濕式涂布一般的做法是把具有各種功能的成分混合成液態(tài)涂料,以不同的加工方式涂布在基材上,然后使液態(tài)涂料干燥固化做成產(chǎn)品。 陜西旭日光學(xué)鍍膜設(shè)備

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