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上海光學(xué)鍍膜設(shè)備發(fā)展

來源: 發(fā)布時間:2021-01-04

【光學(xué)炫彩紋理的歷史】光學(xué)炫彩紋理早期名稱“UV紋理”,用于手機成型按鍵。2006年由日本人發(fā)明,在2007年開始大面積應(yīng)用。早期的UV紋理主要作用不是用于外觀加強,而是用于手感增強,主要是以鋼板模具技術(shù)制作,技術(shù)和紋理十分粗糙。電鑄模具技術(shù)應(yīng)運市場應(yīng)運而生,優(yōu)點是比鋼板模具更精細(xì),可以做出一些CD紋路的線條,即便紋理的細(xì)膩程度有所提升,制作模具的難度依然困擾著紋理工藝的發(fā)展。 PR(Photo Resist)模具技術(shù)隨后誕生,主要是通過曝光顯影的方式制作出微納米級別的紋理不僅線條更精細(xì),而且可以將多種效果疊加在一起,實現(xiàn)多重疊加的特殊外觀效果。目前,鋼板模具和電鑄模具這兩種工藝很難做出比較精細(xì)化的紋理,基本已經(jīng)淘汰。所以當(dāng)下國內(nèi)*常用的紋理制作技術(shù)是RP模具技術(shù),也就是我們經(jīng)常提及的UV紋理轉(zhuǎn)印。光學(xué)鍍膜設(shè)備操作視頻。上海光學(xué)鍍膜設(shè)備發(fā)展

【關(guān)于反射式濾光片】在手機領(lǐng)域另一個應(yīng)用較多的是紅外截止濾光片又稱IR-cut Filter。從原理分有反射式濾光片和吸收式濾光片兩種,它們采用了不同的玻璃基材。 反射式濾光片原理是在普通光學(xué)玻璃上交替鍍多層高折射率光學(xué)膜,達到可見光波段的高透(400-630nm),近紅外波段光線的截止(700-1100nm),截止部分干擾成像質(zhì)量的近紅外光,因為通過反射方式截止紅外光線,所以容易產(chǎn)生二次反射,產(chǎn)生雜光和鬼影。 吸收式濾光片主要以藍玻璃為基材,通過藍玻璃中光吸收物質(zhì)來過濾紅外光,同時通過一面鍍紅外截止膜,一面鍍增透膜來同時提升紅外的截止性能和可見光的透過率,從下圖反射率對比圖可以看出藍玻璃短波方向透過率更高、整體透過率曲線過渡更圓滑,所以實拍效果se彩還原性更自然。河南光學(xué)鍍膜設(shè)備配件光學(xué)鍍膜設(shè)備產(chǎn)業(yè)集群。

【入射光的反射定律】照射到任何表面的光遵守光的反射、折射定律。表面平整的物體(這里以可以透光的玻璃為例)放置在空氣中,有一束光照射前表面時,將在入射點O 發(fā)生反射和折射。普通玻璃的反射率在8%左右,存在著眩光刺眼和透射影象的清晰度低等問題,甚至造成環(huán)境的不協(xié)調(diào)。在平板顯示、光伏發(fā)電、汽車玻璃、攝像鏡頭等領(lǐng)域均存在減反射(Anti -Reflectance,簡稱AR)的需求。 AR膜又稱增量膜,其主要功能是減少或消除透鏡、棱鏡、平面鏡等光學(xué)表面的反射光,從而增加這些元件的透光量。AR膜是應(yīng)用*廣、產(chǎn)量*大的一種光學(xué)膜,很多領(lǐng)域必須鍍膜,否則無法達到應(yīng)用的要求。如由18塊透鏡組成的35mm 自動變焦照相機,如果每個玻璃和空氣的界面有4%的反射,則沒有AR 的鏡頭光透過率為27%,鍍膜一層(剩余反射1.3%)的鏡頭光透過率為66%,鍍膜多層(剩余反射0.5%)的為85%。

【檢測光學(xué)鍍膜機鍍膜膜厚均勻性的方法】一種檢測光學(xué)鍍膜機鍍膜膜厚均勻性的方法,包括下列步驟:第一步:設(shè)計本發(fā)明雙腔濾光片膜系;第二步:模擬計算膜層厚度變化對所訴雙腔濾光片峰值透過率及中心波長的影響;第三步:計算尖峰極值點透過率比值與膜層光學(xué)厚度比值,中心波長與總光學(xué)厚度,兩組數(shù)學(xué)關(guān)系.第四步:根據(jù)第三步的數(shù)學(xué)關(guān)系,求解計算膜厚的公式;第五步:從工件盤中心到邊緣擺放數(shù)量大于2的基片,沉積本發(fā)明所述雙腔濾光片,測量出每一片的中心波長和尖峰極值透過率,用第四步的公式計算出每一片兩種膜層厚度,得到鍍膜機鍍膜膜厚度分布即膜厚均勻性.實驗表明:本發(fā)明可以快速準(zhǔn)確獲得光學(xué)鍍膜機鍍膜膜厚均勻性數(shù)據(jù),為鍍膜機鍍膜膜厚均勻性修正提供依據(jù)。光學(xué)鍍膜設(shè)備哪個牌子的好?

【磁控濺射光學(xué)鍍膜設(shè)備及鍍膜方法】設(shè)備包含真空鍍膜室、磁控濺射靶組件、立式旋轉(zhuǎn)鼓,真空鍍膜室為立式圓筒形結(jié)構(gòu),立式旋轉(zhuǎn)鼓位于真空鍍膜室內(nèi),繞垂直軸線旋轉(zhuǎn),立式旋轉(zhuǎn)鼓中心設(shè)置有旋轉(zhuǎn)密封箱,旋轉(zhuǎn)密封箱內(nèi)設(shè)置有膜厚測量儀表,旋轉(zhuǎn)密封箱的上部連接有旋轉(zhuǎn)軸,旋轉(zhuǎn)密封箱內(nèi)的氣氛與真空鍍膜室隔離。多組磁控濺射靶組件設(shè)置在立式旋轉(zhuǎn)鼓wai圍的真空鍍膜室的側(cè)壁上。鍍膜方法包括將需要鍍膜的工件裝卡到鍍膜設(shè)備的立式旋轉(zhuǎn)鼓的側(cè)面,對鍍膜設(shè)備抽真空;轉(zhuǎn)動立式旋轉(zhuǎn)鼓達到設(shè)定的轉(zhuǎn)速;啟動射頻離子源;交替啟動第一種材料的磁控靶靶和第二種材料的磁控靶,按工藝要求鍍制膜層。 關(guān)于光學(xué)鍍膜設(shè)備,你知道多少?河北光學(xué)鍍膜設(shè)備廠家

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【光學(xué)鏡片鍍膜的膜形核過程之三維核生長模式(島狀生長)】三維形核生長模式(島狀生長),三維形核生長模式(Volmec-Weber型),又稱之為沃爾默一韋伯型,是島狀生長模式。光學(xué)鏡片鍍膜按這樣方式形成時,首先是吸附于基片表面的一些原子發(fā)生遷徙的情況而形成原子團,也就是膜的形核,待至核的尺寸達到某一臨界值,也就是一個穩(wěn)定的核,而自蒸發(fā)源飛向基片的原子就在核上直接凝聚成島狀結(jié)構(gòu),再將這些小島連接起來而形成連續(xù)的一層鍍膜,所以才叫島狀的生長模式。這種膜生長一般是在真空鍍膜的原子間有很大的相互作用力的情況,加上鍍膜原子和基片的原子之間的相互作用力略小時,便會出現(xiàn)這種島狀生長方式而形成鍍膜層。上海光學(xué)鍍膜設(shè)備發(fā)展

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