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來源: 發(fā)布時間:2024-02-29

    磁轉(zhuǎn)子12放置在待加工部件20的待加工表面上,用于通過旋轉(zhuǎn)對待加工部件20的待加工表面進行機械研磨,對待加工表面進行減薄。由于減薄過程中待加工部件20如inp基晶圓本身不旋轉(zhuǎn),因此,可以降低拋光減薄過程中對待加工部件20如inp基晶圓的擠壓應(yīng)力,降低待加工部件20如inp基晶圓的機械加工損傷??蛇x地,本發(fā)明實施例中通過光刻膠鍵合固定待加工部件20和托盤10。當(dāng)然,本發(fā)明并不限于此,在其他實施例中,待加工部件20和托盤10還可以采用其他膠體進行鍵合固定。基于此,如圖2所示,本發(fā)明實施例中的拋光減薄裝置還包括熱板14,該熱板14設(shè)置在托盤10底部,用于對托盤10進行加熱,以使待加工部件20與托盤10鍵合固定。具體地,將待加工部件20背面噴涂厚度約為2μm的光刻膠21,如az4620光刻膠,然后在托盤10表面噴涂厚度約為3μm的光刻膠21,如az4620光刻膠,之后,將托盤10光刻膠面向上放于溫度為90℃的熱板14上,將待加工部件20光刻膠面和托盤10光刻膠面貼合,在2×10-2mabr真空下,施加1bar壓強于待加工部件20上進行鍵合,鍵合時間20min。本發(fā)明實施例中,采用噴頭11向待加工部件20的待加工表面噴涂拋光液110,來對待加工部件20的待加工表面進行拋光。需要說明的是。性價比高的減薄用清洗劑的公司。嘉興哪家減薄用清洗劑銷售價格

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    圖2為所述蝕刻區(qū)的結(jié)構(gòu)示意圖;圖3為所述玻璃加工治具的種結(jié)構(gòu)正視圖;圖4為所述玻璃加工治具的第二種結(jié)構(gòu)正視圖;圖5為圖3中的局部放大圖;圖6為所述玻璃加工治具的結(jié)構(gòu)俯視圖;圖7為所述底支撐件的結(jié)構(gòu)正視圖;圖8為所述底支撐件的結(jié)構(gòu)側(cè)視圖。圖中數(shù)字表示:1-轉(zhuǎn)換區(qū);2-沖洗區(qū);3-蝕刻區(qū);4-玻璃加工治具;31-腔室;32-主厚度測量儀;33-噴淋組件;41-底座;42-支撐架;43-底支撐件;44-側(cè)支撐件;421-豎直平板;422-側(cè)板;423-固定板;424-水平槽;425-豎直槽;426-固定槽;427-固定卡塊;428-定位槽;429-定位孔;431-支撐條;432-第二支撐條;433-連接部;434-接觸部;435-磁性件;436-第二磁性件;437-限位孔;438-限位塊;439-第二限位塊。具體實施方式以下結(jié)合附圖,對本發(fā)明上述的和另外的技術(shù)特征和優(yōu)點作更詳細的說明。實施例一如圖1所示,圖1為所述玻璃減薄設(shè)備的結(jié)構(gòu)視圖;本發(fā)明中所述玻璃減薄設(shè)備包括轉(zhuǎn)換區(qū)1、沖洗區(qū)2和蝕刻區(qū)3,所述沖洗區(qū)2設(shè)置于所述轉(zhuǎn)換區(qū)1和所述蝕刻區(qū)3之間,豎直容納在玻璃加工治具4中的多個玻璃通過所述轉(zhuǎn)換區(qū)1被加載到所述沖洗區(qū)2中,在所述沖洗區(qū)2中進行減薄前清潔并且在所述蝕刻區(qū)3中經(jīng)歷減薄處理。廣州性價比高的減薄用清洗劑哪里買減薄清洗劑,專業(yè)解決涂層過厚難題,提高產(chǎn)品良率。

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    潔普士?zepoos致力于開發(fā)高效、環(huán)保的清洗劑產(chǎn)品,是幕阜科技公司旗下的清洗劑品牌。是全球的工業(yè)清洗劑產(chǎn)品生產(chǎn)商和服務(wù)商,公司通過zepoos?(潔普士)品牌提供了230多種清洗劑產(chǎn)品和清洗工藝解決方案。從推出工業(yè)清洗劑產(chǎn)品銷售以來,“潔普士”產(chǎn)品在全世界所開展的清洗劑產(chǎn)品的研究和生產(chǎn)業(yè)務(wù)中取得了巨大的成功。為了更進一步服務(wù)好廣大的客戶,“潔普士清洗劑”在中國江蘇、浙江和上海建立了生產(chǎn)基地和銷售網(wǎng)絡(luò),以較低的成本向客戶提供的產(chǎn)品和高效率的服務(wù)。“潔普士”清洗產(chǎn)品目前有:環(huán)保電子清洗劑、松香清洗劑、噴淋超聲波清洗劑,松香錫膏助焊劑清潔劑、強油污清洗劑、錫膏清洗劑、助焊劑清洗劑、回流焊清洗劑、波峰焊清洗劑、鋼網(wǎng)清洗劑、絲網(wǎng)印刷清洗劑、電子清洗劑、表面活性清洗劑、爐膛清洗劑、硅片清洗劑、夾具清洗劑、貼片元器件清洗劑、LED清洗劑、精密儀器清洗劑、水基清洗劑、半水基清洗劑、溶劑清洗劑、電子儀器清洗劑、電氣設(shè)備清洗劑、IC清洗劑、多功能水基清洗、電容電阻清洗劑、二極管清洗劑、大功率封裝器件清洗劑、植球BGA清洗劑、誤印鋼網(wǎng)/絲網(wǎng)清洗劑、半導(dǎo)體清洗劑機械零件清洗劑、電子元器件清洗劑、環(huán)保溶劑清洗劑、環(huán)保水基清洗。

    從而在玻璃側(cè)部提供支撐效果,通過所述底支撐件43和所述側(cè)支撐件44實現(xiàn)玻璃在所述玻璃加工治具4上的支撐穩(wěn)定效果。較佳的,所述底支撐件43和所述側(cè)支撐件44可均采用ptfe材質(zhì)。較佳的,所述側(cè)支撐件44設(shè)置為叉狀型結(jié)構(gòu),即所述側(cè)支撐件44包括兩叉腳,所述玻璃側(cè)邊邊緣設(shè)置于兩所述叉腳間,兩所述叉腳在一端連接,兩所述叉腳間距離從連接端向非連接端的方向逐漸增大,兩所述叉腳間的大距離大于玻璃的厚度,限制玻璃兩對應(yīng)側(cè)部邊緣的兩所述側(cè)支撐件44之間的水平距離大于玻璃兩側(cè)部邊緣之間的水平距離,即當(dāng)玻璃通過兩側(cè)的所述側(cè)支撐件44進行支撐限制時,玻璃的兩側(cè)部邊緣在兩所述叉腳間空間內(nèi)均具有一定的調(diào)整間隙,從而在所述玻璃加工治具4在所述腔室31內(nèi)往復(fù)運動,玻璃的兩側(cè)部邊緣相較于所述側(cè)支撐件44進行一定的位置移動,從而避免所述側(cè)支撐件44長期于玻璃的同一位置接觸緊貼。所述側(cè)支撐件44的結(jié)構(gòu)設(shè)置,使所述玻璃加工治具4在所述腔室31內(nèi)沿直線往復(fù)運動的過程中,所述側(cè)支撐件44與玻璃之間的接觸點發(fā)生變化,從而避免所述側(cè)支撐件44與玻璃之間的接觸點因所述側(cè)支撐件44的長期接觸造成接觸點無法被噴淋液噴淋,若接觸點無法被噴淋,易造成玻璃的減薄缺陷。蘇州哪家公司的減薄用清洗劑的口碑比較好?

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    圖1為本發(fā)明實施例提供的一種拋光減薄裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為本發(fā)明實施例提供的一種托盤和待加工部件的鍵合固定方式示意圖;圖3為本發(fā)明實施例提供的一種磁轉(zhuǎn)子的結(jié)構(gòu)示意圖;圖4為本發(fā)明實施例提供一種磁轉(zhuǎn)子的旋轉(zhuǎn)方式的示意圖;圖5為本發(fā)明實施例提供的一種拋光減薄方法的流程示意圖。具體實施方式以上是本發(fā)明的思想,為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂,下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖,對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒景l(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發(fā)明保護的范圍。本發(fā)明實施例提供了一種拋光減薄裝置,用于對inp基晶圓等部件進行拋光減薄,如圖1所示,包括托盤10、噴頭11和磁轉(zhuǎn)子12,當(dāng)然,本發(fā)明實施例中的拋光減薄裝置還包括反應(yīng)室13等,托盤10、噴頭11和磁轉(zhuǎn)子12等在反應(yīng)室13內(nèi)進行拋光和減薄反應(yīng)。其中,托盤10,可選為石英托盤,用于固定待加工部件20,待加工部件20包括inp基晶圓。噴頭11用于向待加工部件20的待加工表面噴涂拋光液110,以對待加工表面進行拋光。嘉興哪家減薄用清洗劑銷售價格